JP5710704B2 - 有機発光素子およびその製造方法 - Google Patents
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Description
しかし、金属、金属酸化物または導電性ポリマーからなる電極と有機物層との間の界面は不安定である。したがって、外部から加えられる熱、内部発生熱、または素子に加えられる電界は素子の性能に悪影響を与える。また、電子/正孔注入層または電子/正孔輸送層とこれに隣接する他の有機物層との間の伝導エネルギー準位(conductive energy level)差のために素子動作のための駆動電圧が大きくなり得る。したがって、電子/正孔注入層または電子/正孔輸送層と他の有機物層との間の界面を安定化させるだけでなく、電極から有機物層に電子/正孔を注入するエネルギー障壁を最小化して電子/正孔の注入を容易にすることが非常に重要である。
第1電極、2層以上の有機物層および第2電極を含む有機発光素子であって、
前記第1電極は導電層および前記導電層と接するn−型有機物層を含み、前記第1電極のn−型有機物層と前記第2電極との間に位置する有機物層のうちの1層は前記第1電極のn−型有機物層とNP接合を形成するp−型有機物層であり、前記層のエネルギー準位が下記式(1)および(2)を満足することを特徴とし、
前記p−型有機物層と前記第2電極との間に位置する有機物層のうちの1層以上はアルカリ土類金属によってn−型ドーピングされることを特徴とする有機発光素子を提供する。
0eV<EnL−EF1≦4eV (1)
EpH−EnL≦1eV (2)
〔前記式(1)および(2)において、EF1は前記第1電極の導電層のフェルミエネルギー準位であり、EnLは前記第1電極のn−型有機物層のLUMO(lowest unoccupied molecular orbital)エネルギー準位であり、EpHは前記第1電極のn−型有機物層とNP接合を形成するp−型有機物層のHOMO(highest occupied molecular orbital)エネルギー準位である。〕
第1電極、2層以上の有機物層および第2電極を含む有機発光素子の製造方法であって、
導電層上に前記導電層と接するようにn−型有機物層を形成して第1電極を形成するステップ、
前記第1電極のn−型有機物層上に前記n−型有機物層と接するようにp−型有機物層を形成するステップ、
前記p−型有機物層上に(over)アルカリ土類金属を用いてn−型ドーピングされた有機物層を形成するステップ、および
前記アルカリ土類金属によってn−型ドーピングされた有機物層上に前記アルカリ土類金属を用いてn−型ドーピングされた有機物層と接するように第2電極を形成するステップ
を含み、前記層のエネルギー準位が下記式(1)および(2)を満足することを特徴とする有機発光素子の製造方法を提供する。
0eV<EnL−EF1≦4eV (1)
EpH−EnL≦1eV (2)
〔前記式(1)および(2)において、EF1は前記第1電極の導電層のフェルミエネルギー準位であり、EnLは前記第1電極のn−型有機物層のLUMO(lowest unoccupied molecular orbital)エネルギー準位であり、EpHは前記第1電極のn−型有機物層とNP接合を形成するp−型有機物層のHOMO(highest occupied molecular orbital)エネルギー準位である。〕
第2電極、2層以上の有機物層および第1電極を含む有機発光素子の製造方法であって、
第2電極を形成するステップ、
前記第2電極上に前記第2電極と接するようにアルカリ土類金属を用いてn−型ドーピングされた有機物層を形成するステップ、
前記n−型ドーピングされた有機物層上に(over)p−型有機物層を形成するステップ、および
前記p−型有機物層上に前記p−型有機物層と接するようにn−型有機物層を形成し、前記n−型有機物層上に前記n−有機物層と接するように導電層を形成して第1電極を形成するステップ
を含み、前記層のエネルギー準位が、下記式(1)および(2)を満足することを特徴とする、有機発光素子の製造方法を提供する。
0eV<EnL−EF1≦4eV (1)
EpH−EnL≦1eV (2)
〔前記式(1)および(2)において、EF1は前記第1電極の導電層のフェルミエネルギー準位であり、EnLは前記第1電極のn−型有機物層のLUMO(lowest unoccupied molecular orbital)エネルギー準位であり、EpHは前記第1電極のn−型有機物層とNP接合を形成するp−型有機物層のHOMO(highest occupied molecular orbital)エネルギー準位である。〕
0eV<EnL−EF1≦4eV (1)
EpH−EnL≦1eV (2)
〔前記式(1)および(2)において、EF1は前記第1電極の導電層のフェルミエネルギー準位であり、EnLは前記第1電極のn−型有機物層のLUMO(lowest unoccupied molecular orbital)エネルギー準位であり、EpHは前記第1電極のn−型有機物層とNP接合を形成するp−型有機物層のHOMO(highest occupied molecular orbital)エネルギー準位である。〕
前記第1電極は導電層および前記導電層と接するn−型有機物層を含み、
前記中間電極層は導電層および前記導電層と接するn−型有機物層を含み、
前記発光単位は各々前記第1電極または前記中間電極層のn−型有機物層とNP接合を形成するp−型有機物層を含み、前記層のエネルギー準位は下記式(1)および(2)を満足し、前記発光単位は各々アルカリ土類金属によってn−型ドーピングされた有機物層をさらに含むことを特徴とするスタック型有機発光素子を提供する:
0eV<EnL−EF1≦4eV (1)
EpH−EnL≦1eV (2)
前記式(1)および(2)において、EF1は前記第1電極または中間電極層の導電層のフェルミエネルギー準位であり、EnLは前記第1電極または中間電極層のn−型有機物層のLUMO(lowest unoccupied molecular orbital)エネルギー準位であり、EpHは前記第1電極または中間電極層のn−型有機物層とNP接合を形成するp−型有機物層のHOMO(highest occupied molecular orbital)エネルギー準位である。
本発明の例示的な一具体例による有機発光素子は、第1電極、第2電極、および前記第1電極と前記第2電極との間に位置するp−型半導体特性を有する有機物層(以下、“p−型有機物層”)を含む。前記p−型有機物層は正孔注入層、正孔輸送層、または発光層を含む。前記有機発光素子は前記p−型有機物層と前記第2電極との間に少なくとも1つの有機物層をさらに含み、これらの有機物層のうちの1層以上はアルカリ土類金属によってn−ドーピングされることを特徴とする。前記有機発光素子が複数の有機物層を含む場合、前記有機物層は互いに同一の物質または他の物質で形成されてもよい。
前記アルカリ土類金属によってn−型ドーピングされた有機物層において、ドーピングされる有機物層の材料は特に限定されないが、電子注入または輸送物質が用いられ得る。例えば、イミダゾール基、オキサゾール基、チアゾール基、キノリンおよびフェナントロリン基から選択された官能基を有する化合物を用いることができる。
nは0〜9の整数であり、mは2以上の整数であり、
R9は水素、メチル基、エチル基などのアルキル基、シクロヘキシル、ノルボルニルなどのシクロアルキル基、ベンジル基などのアラルキル基、ビニル基、アリル基などのアルケニル基、シクロペンタジエニル基、シクロヘキセニル基などのシクロアルケニル基、メトキシ基などのアルコキシ基、アルコキシ基のエーテル結合の酸素原子が硫黄原子で置換されたアルキルチオ基、フェノキシ基などのアリールエーテル基、アリールエーテル基のエーテル結合の酸素原子が硫黄原子で置換されたアリールチオエーテル基、フェニル基、ナフチル基、ビフェニル基などのアリール基、フリル基、チエニル基、オキサゾリル基、ピリジル基、キノリル基、カルバゾリル基などの複素環基、ハロゲン、シアノ基、アルデヒド基、カルボニル基、カルボキシル基、エステル基、カルバモイル基、アミノ基、ニトロ基、トリメチルシリル基などのシリル基、エーテル結合によって珪素を有する基であるシロキサニル基、隣接置換基との間の環構造から選択され;前記置換基は非置換もしくは置換されてもよく、nが2以上である場合に置換基は互いに同じであるか異なってもよく、
Yは前記R9の基の2価以上の基である。
mは1以上の整数であり、nおよびpは整数であり、n+pは8以下であり、
mが1である場合、R10およびR11は水素、メチル基、エチル基などのアルキル基、シクロヘキシル、ノルボルニルなどのシクロアルキル基、ベンジル基などのアラルキル基、ビニル基、アリル基などのアルケニル基、シクロペンタジエニル基、シクロヘキセニル基などのシクロアルケニル基、メトキシ基などのアルコキシ基、アルコキシ基のエーテル結合の酸素原子が硫黄原子で置換されたアルキルチオ基、フェノキシ基などのアリールエーテル基、アリールエーテル基のエーテル結合の酸素原子が硫黄原子で置換されたアリールチオエーテル基、フェニル基、ナフチル基、ビフェニル基などのアリール基、フリル基、チエニル基、オキサゾリル基、ピリジル基、キノリル基、カルバゾリル基などの複素環基、ハロゲン、シアノ基、アルデヒド基、カルボニル基、カルボキシル基、エステル基、カルバモイル基、アミノ基、ニトロ基、トリメチルシリル基などのシリル基、エーテル結合によって珪素を有する基であるシロキサニル基、隣接置換基との間の環構造から選択され;
mが2以上である場合、R10は直接結合または前述した基の2価以上の基であり、R11はmが1である場合と同様であり、
前記置換基は非置換もしくは置換されてもよく、nまたはpが2以上である場合に置換基は互いに同じであるか異なってもよい。
前記アルカリ土類金属によってn−型ドーピングされた有機物層は、電子注入層、電子輸送層または電子輸送および注入層であってもよい。
図3において、正極32は正孔注入層33、正孔輸送層34、または発光層35に正孔を輸送し、導電層32aおよびn−型有機物層32bを含む。導電層32aは金属、金属酸化物、または導電性ポリマーで形成される。n−型有機物層32bのLUMOエネルギー準位と導電層32aのフェルミエネルギー準位のエネルギー差は約4eV以下である。p−型正孔注入層33のHOMOエネルギー準位とn−型有機物層32bのLUMOエネルギー準位のエネルギー差は約1eV以下であり、好ましくは約0.5eV以下である。NP接合が正極32のn−型有機物層32bとp−型正孔注入層33との間に形成される。
この他、本発明の例示的な具体例による有機発光素子を図9〜図15に例示する。
0eV<EnL−EF1≦4eV (1)
EpH−EnL≦1eV (2)
〔前記式(1)および(2)において、EF1は前記第1電極の導電層のフェルミエネルギー準位であり、EnLは前記第1電極のn−型有機物層のLUMO(lowest unoccupied molecular orbital)エネルギー準位であり、EpHは前記第1電極のn−型有機物層とNP接合を形成するp−型有機物層のHOMO(highest occupied molecular orbital)エネルギー準位である。〕
前記第1電極は導電層および前記導電層と接するn−型有機物層を含み、前記中間電極層は導電層および前記導電層と接するn−型有機物層を含み、前記発光単位は各々前記第1電極または前記中間電極層のn−型有機物層とNP接合を形成するp−型有機物層を含み、前記層のエネルギー準位は下記式(1)および(2)を満足し、前記発光単位は各々アルカリ土類金属によってn−型ドーピングされた有機物層をさらに含むことを特徴とするスタック型有機発光素子を提供する。
0eV<EnL−EF1≦4eV (1)
EpH−EnL≦1eV (2)
前記式(1)および(2)において、EF1は前記第1電極または中間電極層の導電層のフェルミエネルギー準位であり、EnLは前記第1電極または中間電極層のn−型有機物層のLUMO(lowest unoccupied molecular orbital)エネルギー準位であり、EpHは前記第1電極または中間電極層のn−型有機物層とNP接合を形成するp−型有機物層のHOMO(highest occupied molecular orbital)エネルギー準位である。
正極は、正孔注入層、正孔輸送層または発光層のようなp−型有機物層内に正孔を注入する。前記正極は導電層とn−型有機物層とを含む。前記導電層は金属、金属酸化物または導電性ポリマーを含む。前記導電性ポリマーは電気伝導性ポリマーを含むことができる。
正孔注入層または正孔輸送層は正極と負極との間に位置するp−型有機物層で形成することができる。前記p−型正孔注入層またはp−型正孔輸送層と前記n−型有機物層はNP接合を形成するため、このNP接合から形成された正孔は前記p−型正孔注入層またはp−型正孔輸送層を通して発光層に輸送される。
発光層においては正孔伝達と電子伝達が同時に起こるため、発光層はn−型特性とp−型特性を全て有してもよい。便宜上、電子輸送が正孔輸送に比べて速い場合にはn−型発光層、正孔輸送が電子輸送に比べて速い場合にはp−型発光層と定義することができる。
電子輸送層物質としては、負極から電子の注入を受けて発光層に円滑に輸送できるように電子移動度(electron mobility)の大きい物質が好ましい。前記電子輸送層はこれに限定されないが、アルミニウムトリス(8−ヒドロキシキノリン)(Alq3);Alq3構造を含む有機化合物;ヒドロキシフラボン−金属錯化合物またはシラシクロペンタジエン(silole)系化合物などを含む。
負極物質としては、通常、電子輸送層のような有機物層への電子注入が容易に行われるように仕事関数の小さい物質が好ましい。アルカリ土類金属がドーピングされた電子輸送層を用いる場合、仕事関数(フェルミ準位)6.0eV以下の物質まで使用が可能である。前記負極はこれに限定されないが、マグネシウム、カルシウム、ナトリウム、カリウム、チタニウム、インジウム、イットリウム、リチウム、ガドリニウム、アルミニウム、銀、スズ、ニッケル、金、モリブデン、鉄および鉛のような金属またはこれらの合金;LiF/AlまたはLiO2/Alのような多層構造物質およびITO、IZOなどのような金属酸化物物質を含む。前記負極は正極の導電層と同一の物質で形成することができる。あるいは、負極または正極の導電層は透明物質を含むことができる。
UPSおよびUV−VIS吸収(absorption)方法によるHATのHOMOとLUMO準位の測定
ヘキサニトリルヘキサアザトリフェニレン(Hexanitrile hexaazatriphenylene:HAT)をn−型半導体特性の有機物として用いた。HATのHOMO準位を測定するために、UPS(Ultraviolet photoelectron spectroscopy)方法を利用した。この方法は、超真空(<10−8Torr)下で、試料にHeランプから出る真空UV線(21.20eV)を照射する時、試料から出る電子の運動エネルギーを分析することによって、金属の場合には仕事関数を、有機物の場合にはイオン化エネルギー、すなわち、HOMO準位およびフェルミエネルギー準位を知ることができる方法である。すなわち、真空UV線(21.20eV)を試料に照射した時、試料から放出される電子の運動エネルギーは、真空UVエネルギーである21.2eVと測定しようとする試料の電子結合エネルギー(electron binding energy)の差である。したがって、試料から放出される電子の運動エネルギー分布を分析することにより、試料内物質の分子内結合エネルギー分布を知ることができる。この時、電子の運動エネルギー中の最大エネルギー値を有する場合、試料の結合エネルギーは最小値を有するようになる。これを利用し、試料の仕事関数(フェルミエネルギー準位)およびHOMO準位を決定することができる。
ガラス基板上にスパッタ装備を利用して1000Å厚さのIZO(indium zinc oxide)導電層を形成した後、前記IZO上に化学式2−1で示されるHATを約500Å厚さで真空熱蒸着して、IZO導電層およびn−型有機物層を有する透明正極を形成した。HATのHOMOエネルギー準位は約9.78eVであった。次に、化学式2−2で示されるNPBを約400Å厚さで真空熱蒸着してp−型正孔輸送層を形成した。前記p−型正孔輸送層上に化学式2−3で示されるAlq3(HOMO準位=約5.7eV)に化学式2−4で示されるC545Tドーパントを6体積%ドーピングし、約300Å厚さで真空熱蒸着して発光層を形成した。
電子輸送層にMgの代わりにCaを10体積%でドーピングし、200Å厚さで真空熱蒸着したことを除いては、実施例2と同じ方法により有機発光素子を製作した。
ガラス基板上に熱蒸着方法を利用して1000Å厚さのアルミニウム導電層を形成した後、前記アルミニウム上に化学式2−1で示されるHATを約500Å厚さで真空熱蒸着して、アルミニウム導電層およびn−型有機物層を有する反射型正極を形成した。次に、化学式2−2で示されるNPBを約400Å厚さで真空熱蒸着してp−型正孔輸送層を形成した。前記p−型正孔輸送層上に化学式2−3で示されるAlq3(HOMO準位=約5.7eV)に化学式2−4で示されるC545Tドーパントを6体積%ドーピングし、約300Å厚さで真空熱蒸着して発光層を形成した。
ガラス基板上に熱蒸着方法を利用して1000Å厚さのAg導電層を形成した後、前記Ag導電層上に化学式2−1で示されるHATを約500Å厚さで真空熱蒸着して、Ag導電層およびn−型有機物層を有する反射型正極を形成したことを除いては、実施例4と同じ方法により有機発光素子を製作した。
ガラス基板上に熱蒸着方法を利用して1000Å厚さのCa導電層を形成した後、前記Ca導電層上に化学式2−1で示されるHATを約500Å厚さで真空熱蒸着して、Ca導電層およびn−型有機物層を有する反射型正極を形成したことを除いては、実施例4と同じ方法により有機発光素子を製作した。
ガラス基板上にスパッタ装備を利用して1000Å厚さのIZO(indium zinc oxide)負極を形成した後、前記IZO上に電子輸送層として前記化学式2−5で示される化合物にCaを10体積%ドーピングし、約200Å厚さで真空熱蒸着した。前記電子輸送層上に前記化学式2−3で示されるAlq3に前記化学式2−4で示されるC545Tドーパントを6体積%でドーピングし、約300Å厚さで真空熱蒸着して発光層を形成した。前記発光層上に前記化学式2−2で示されるNPBを約400Å厚さで真空熱蒸着してp−型正孔輸送層を形成した。前記p−型正孔輸送層上に前記化学式2−1で示されるHATを約700Åの厚さで真空熱蒸着し、この上にスパッタを利用してIZO導電層を約1750Åの厚さで蒸着し、IZOおよびHAT n−型有機物層を有する透明正極を形成した。HATのHOMOエネルギー準位は約9.78eVであった。前記過程において、有機物の蒸着速度を約0.4〜0.7Å/secに維持し、IZOの蒸着速度を約0.5Å/secに維持した。蒸着時における蒸着チャンバー内の真空度は約2×10−7〜5×10−8torrに維持した。
ガラス基板上にスパッタ装備を利用して1000Å厚さのIZO(indium zinc oxide)負極を形成した後、前記IZO上に電子輸送層として前記化学式2−5で示される化合物にCaを10体積%ドーピングし、約200Å厚さで真空熱蒸着した。前記電子輸送層上に前記化学式2−3で示されるAlq3に前記化学式2−4で示されるC545Tドーパントを6体積%でドーピングし、約300Å厚さで真空熱蒸着して発光層を形成した。前記発光層上に前記化学式2−2で示されるNPBを約400Å厚さで真空熱蒸着してp−型正孔輸送層を形成した。前記p−型正孔輸送層上に前記化学式2−1で示されるHATを約700Åの厚さで真空熱蒸着し、この上にAl導電層を約1000Åの厚さで蒸着し、AlおよびHAT n−型有機物層を有する正極を形成した。前記過程において、有機物の蒸着速度を約0.4〜0.7Å/secに維持し、IZOの蒸着速度を約0.5Å/secに維持した。蒸着時における蒸着チャンバー内の真空度は約2×10−7〜5×10−8torrに維持した。
ガラス基板上にスパッタ装備を利用して1000Å厚さのIZO(indium zinc oxide)負極を形成した後、前記IZO上に電子輸送層として前記化学式2−5で示される化合物にCaを10体積%ドーピングし、約200Å厚さで真空熱蒸着した。前記電子輸送層上に前記化学式2−3で示されるAlq3に前記化学式2−4で示されるC545Tドーパントを6体積%でドーピングし、約300Å厚さで真空熱蒸着して発光層を形成した。前記発光層上に前記化学式2−2で示されるNPBを約400Å厚さで真空熱蒸着してp−型正孔輸送層を形成した。前記p−型正孔輸送層上に前記化学式2−1で示されるHATを約700Åの厚さで真空熱蒸着し、この上にAg導電層を約1000Åの厚さで蒸着し、Ag導電層およびHAT n−型有機物層を有する正極を形成した。前記過程において、有機物の蒸着速度を約0.4〜0.7Å/secに維持し、IZOの蒸着速度を約0.5Å/secに維持した。蒸着時における蒸着チャンバー内の真空度は約2×10−7〜5×10−8torrに維持した。
ガラス基板上にスパッタ装備を利用して1000Å厚さのIZO(indium zinc oxide)負極を形成した後、前記IZO上に電子輸送層として前記化学式2−5で示される化合物にCaを10体積%ドーピングし、約200Å厚さで真空熱蒸着した。前記電子輸送層上に前記化学式2−3で示されるAlq3に前記化学式2−4で示されるC545Tドーパントを6体積%でドーピングし、約300Å厚さで真空熱蒸着して発光層を形成した。前記発光層上に前記化学式2−2で示されるNPBを約400Å厚さで真空熱蒸着してp−型正孔輸送層を形成した。前記p−型正孔輸送層上に前記化学式2−1で示されるHATを約700Åの厚さで真空熱蒸着し、この上にCa導電層を約1000Åの厚さで蒸着し、Ca導電層およびHAT n−型有機物層を有する正極を形成した。前記過程において、有機物の蒸着速度は約0.4〜0.7Å/secを維持し、IZOは約0.5Å/secの蒸着速度を維持した。蒸着時における蒸着チャンバー内の真空度は約2×10−7〜5×10−8torrを維持した。
ガラス基板上に熱蒸着装備を利用してアルミニウムで1000Å厚さの反射型負極を形成したことを除いては、実施例7と同じ方法により有機発光素子を製作した。
ガラス基板上にスパッタ装備を利用して1000Å厚さのIZO(indium zinc oxide)負極を形成した後、前記IZO上に電子輸送層として前記化学式2−5で示される化合物にCaを10体積%ドーピングし、約200Å厚さで真空熱蒸着した。前記電子輸送層上に前記化学式2−3で示されるAlq3に前記化学式2−4で示されるC545Tドーパントを6体積%でドーピングし、約300Å厚さで真空熱蒸着して発光層を形成した。前記発光層上に前記化学式2−2で示されるNPBを約400Å厚さで真空熱蒸着してp−型正孔輸送層を形成した。前記p−型正孔輸送層上に前記化学式2−1で示されるHATを約500Åの厚さで真空熱蒸着し、この上にCa導電層を約75Åの厚さで蒸着し、Ca層およびHAT n−型有機物層を有する透明中間電極層を形成した。中間電極層上に電子輸送層として前記化学式2−5で示される化合物にCaを10体積%ドーピングし、約200Å厚さで真空熱蒸着した。前記電子輸送層上に前記化学式2−3で示されるAlq3に前記化学式2−4で示されるC545Tドーパントを6体積%でドーピングし、約300Å厚さで真空熱蒸着して発光層を形成した。前記発光層上に前記化学式2−2で示されるNPBを約400Å厚さで真空熱蒸着してp−型正孔輸送層を形成した。前記p−型正孔輸送層上に前記化学式2−1で示されるHATを約700Åの厚さで真空熱蒸着し、この上にスパッタを利用してIZO導電層を約1000Åの厚さで蒸着し、IZOおよびHAT n−型有機物層を有する透明正極電極層を形成して、逆構造の透明積層型有機発光素子を製作した。HATのHOMOエネルギー準位は約9.78eVであった。前記過程において、有機物の蒸着速度を約0.4〜0.7Å/secに維持し、IZOの蒸着速度を約0.5Å/secに維持した。蒸着時における蒸着チャンバー内の真空度は約2×10−7〜5×10−8torrに維持した。
電子輸送層をMgでドーピングすることなく、前記化学式2−5で示される化合物(HOMO=5.7eV、LUMO=2.8eV)を用いて200Åの厚さで形成し、この電子輸送層上に12Åフッ化リチウムLIF薄膜と1000Å厚さのアルミニウムを順次真空蒸着して負極を形成したことを除いては、実施例2と同じ方法により有機発光素子を製作した。前記過程において、有機物の蒸着速度を約0.4〜0.7Å/secに維持し、LiFの蒸着速度を約0.3Å/sec、アルミニウムの蒸着速度を約2Å/secに維持した。蒸着時における蒸着チャンバー内の真空度は約2×10−7〜5×10−8torrに維持した。
ガラス基板上にスパッタ装備を利用して1000Å厚さのIZO(indium zinc oxide)正極を形成した後、化学式2−2で示されるNPBを約900Å厚さで真空熱蒸着して正孔輸送層を形成した。正孔輸送層上に化学式2−3で示されるAlq3(HOMO準位=約5.7eV)に化学式2−4で示されるC545Tドーパントを6体積%ドーピングし、約300Å厚さで真空熱蒸着して発光層を形成した。
前記発光層上に電子輸送層として化学式2−5で示される化合物にCaを10体積%ドーピングして200Å厚さで真空熱蒸着した。前記ドーピングされた電子輸送層上に1000Å厚さのアルミニウムを順次真空蒸着して負極を形成することによって有機発光素子を完成した。前記過程において、有機物の蒸着速度を約0.4〜0.7Å/secに維持し、アルミニウムの蒸着速度を約2Å/secに維持した。蒸着時における蒸着チャンバー内の真空度は約2×10−7〜5×10−8torrに維持した。
32 ・・・正極
32a ・・・導電層
32b ・・・n−型有機物層
37 ・・・負極
33 ・・・正孔注入層
34 ・・・正孔輸送層
35 ・・・発光層
36 ・・・n−ドーピング電子輸送層
Claims (25)
- 第1電極、2層以上の有機物層、および第2電極を含む有機発光素子であって、
前記第1電極は、導電層、および前記導電層と接するn−型有機物層を含み、前記第1電極のn−型有機物層と前記第2電極との間に位置する有機物層のうちの1層は、前記第1電極のn−型有機物層とNP接合を形成するp−型有機物層であり、前記層のエネルギー準位が下記式(1)および(2)を満足することを特徴とし、
前記p−型有機物層と前記第2電極との間に位置する有機物層のうちの1層以上はマグネシウム(Mg)またはカルシウム(Ca)によってn−型ドーピングされ、
前記マグネシウム(Mg)またはカルシウム(Ca)によってn−型ドーピングされた有機物層のマグネシウム(Mg)またはカルシウム(Ca)含量が、0.02〜30体積%であることを特徴とする
有機発光素子:
0eV<EnL−EF1≦4eV (1)
EpH−EnL≦1eV (2)
〔前記式(1)および(2)において、EF1は前記第1電極の導電層のフェルミエネルギー準位であり、EnLは前記第1電極のn−型有機物層のLUMO(lowest unoccupied molecular orbital)エネルギー準位であり、EpHは前記第1電極のn−型有機物層とNP接合を形成するp−型有機物層のHOMO(highest occupied molecular orbital)エネルギー準位である〕。 - 前記マグネシウム(Mg)またはカルシウム(Ca)によってn−型ドーピングされた有機物層が、電子注入層、電子輸送層、または電子輸送および注入層であることを特徴とする、請求項1に記載の有機発光素子。
- 前記マグネシウム(Mg)またはカルシウム(Ca)によってn−型ドーピングされた有機物層が、第2電極と接することを特徴とする、請求項1に記載の有機発光素子。
- 前記有機発光素子が、基板上に、第1電極、有機物層、および第2電極が下側から順次積層された構造であることを特徴とする、請求項1に記載の有機発光素子。
- 前記有機発光素子が、基板上に、第2電極、有機物層、および第1電極が下側から順次積層された構造であることを特徴とする、請求項1に記載の有機発光素子。
- 前記p−型有機物層が、正孔注入層、正孔輸送層、または発光層であることを特徴とする、請求項1に記載の有機発光素子。
- 前記p−型有機物層と前記マグネシウム(Mg)またはカルシウム(Ca)によってn−型ドーピングされた層との間、または前記マグネシウム(Mg)またはカルシウム(Ca)によってn−型ドーピングされた層と前記第2電極との間に、少なくとも1つの有機物層をさらに含むことを特徴とする、請求項1に記載の有機発光素子。
- 前記第1電極のn−型有機物層が、2,3,5,6−テトラフルオロ−7,7,8,8−テトラシアノキノジメタン(F4TCNQ)、フッ素−置換された3,4,9,10−ペリレンテトラカルボン酸二無水物(PTCDA)、シアノ−置換されたPTCDA、ナフタレンテトラカルボン酸二無水物(NTCDA)、フッ素−置換されたNTCDA、シアノ−置換されたNTCDA、およびヘキサニトリルヘキサアザトリフェニレン(HAT)からなる群から選択された有機物を含むことを特徴とする、請求項1に記載の有機発光素子。
- 前記第1電極の導電層が、金属、金属酸化物、および導電性ポリマーからなる群から選択された物質からなることを特徴とする、請求項1に記載の有機発光素子。
- 前記第1電極の導電層と前記第2電極とが、同一の物質で形成されることを特徴とする、請求項1に記載の有機発光素子。
- 前記第1電極の導電層および前記第2電極のうちの少なくとも1つが、透明物質を含むことを特徴とする、請求項1に記載の有機発光素子。
- 前記n−型有機物層が、約4〜7eVのLUMOエネルギー準位および約10−8cm2/Vs〜1cm2/Vsの電子移動度を有することを特徴とする、請求項1に記載の有機発光素子。
- 前記マグネシウム(Mg)またはカルシウム(Ca)によってn−型ドーピングされた有機物層のドーピング濃度が、0.02〜50体積%であることを特徴とする、請求項1に記載の有機発光素子。
- 第1電極、2層以上の有機物層、および第2電極を含む有機発光素子の製造方法であって、
導電層上に前記導電層と接するようにn−型有機物層を形成して第1電極を形成するステップ、
前記第1電極のn−型有機物層上に前記n−型有機物層と接するようにp−型有機物層を形成するステップ、
前記p−型有機物層上に(over)マグネシウム(Mg)またはカルシウム(Ca)を用いてn−型ドーピングされた有機物層を形成するステップ、および
前記マグネシウム(Mg)またはカルシウム(Ca)によってn−型ドーピングされた有機物層上に、前記マグネシウム(Mg)またはカルシウム(Ca)を用いてn−型ドーピングされた有機物層と接するように第2電極を形成するステップ
を含み、前記層のエネルギー準位が下記式(1)および(2)を満足し、
前記マグネシウム(Mg)またはカルシウム(Ca)によってn−型ドーピングされた有機物層のマグネシウム(Mg)またはカルシウム(Ca)含量が、0.02〜30体積%であることを特徴とする、有機発光素子の製造方法:
0eV<EnL−EF1≦4eV (1)
EpH−EnL≦1eV (2)
〔前記式(1)および(2)において、EF1は前記第1電極の導電層のフェルミエネルギー準位であり、EnLは前記第1電極のn−型有機物層のLUMO(lowest unoccupied molecular orbital)エネルギー準位であり、EpHは前記第1電極のn−型有機物層とNP接合を形成するp−型有機物層のHOMO(highest occupied molecular orbital)エネルギー準位である〕。 - 前記p−型有機物層を形成するステップと、前記マグネシウム(Mg)またはカルシウム(Ca)によってn−型ドーピングされた有機物層を形成するステップとの間に、有機物層を形成するステップをさらに含むことを特徴とする、請求項14に記載の有機発光素子の製造方法。
- 第2電極、2層以上の有機物層、および第1電極を含む有機発光素子の製造方法であって、
第2電極を形成するステップ、
前記第2電極上に前記第2電極と接するようにマグネシウム(Mg)またはカルシウム(Ca)を用いてn−型ドーピングされた有機物層を形成するステップ、
前記n−型ドーピングされた有機物層上に(over)p−型有機物層を形成するステップ、および
前記p−型有機物層上に前記p−型有機物層と接するようにn−型有機物層を形成し、前記n−型有機物層上に前記n−有機物層と接するように導電層を形成して第1電極を形成するステップ
を含み、前記層のエネルギー準位が下記式(1)および(2)を満足し、
前記マグネシウム(Mg)またはカルシウム(Ca)によってn−型ドーピングされた有機物層のマグネシウム(Mg)またはカルシウム(Ca)含量が、0.02〜30体積%であることを特徴とする、有機発光素子の製造方法:
0eV<EnL−EF1≦4eV (1)
EpH−EnL≦1eV (2)
〔前記式(1)および(2)において、EF1は前記第1電極の導電層のフェルミエネルギー準位であり、EnLは前記第1電極のn−型有機物層のLUMO(lowest unoccupied molecular orbital)エネルギー準位であり、EpHは前記第1電極のn−型有機物層とNP接合を形成するp−型有機物層のHOMO(highest occupied molecular orbital)エネルギー準位である〕。 - 前記マグネシウム(Mg)またはカルシウム(Ca)によってn−型ドーピングされた有機物層を形成するステップと、前記p−型有機物層を形成するステップとの間に、有機物層を形成するステップをさらに含むことを特徴とする、請求項16に記載の有機発光素子の製造方法。
- 第1電極、2層以上の有機物層、および第2電極を含む繰り返し単位として、前記第1電極は導電層および前記導電層と接するn−型有機物層を含み、前記第1電極のn−型有機物層と前記第2電極との間に位置する有機物層のうちの1層は前記第1電極のn−型有機物層とNP接合を形成するp−型有機物層であり、前記層のエネルギー準位が下記式(1)および(2)を満足し、前記p−型有機物層と前記第2電極との間に位置する有機物層のうちの1層以上が、マグネシウム(Mg)またはカルシウム(Ca)によってn−型ドーピングされることを特徴とする繰り返し単位を2以上含み、
1つの繰り返し単位の前記第2電極は直列に連結された隣接する繰り返し単位の前記第1電極に連結され、
前記マグネシウム(Mg)またはカルシウム(Ca)によってn−型ドーピングされた有機物層のマグネシウム(Mg)またはカルシウム(Ca)含量が、0.02〜30体積%であることを特徴とする、スタック型有機発光素子:
0eV<EnL−EF1≦4eV (1)
EpH−EnL≦1eV (2)
前記式(1)および(2)において、EF1は前記第1電極または中間電極層の導電層のフェルミエネルギー準位であり、EnLは前記第1電極または中間電極層のn−型有機物層のLUMO(lowest unoccupied molecular orbital)エネルギー準位であり、EpHは前記第1電極または中間電極層のn−型有機物層とNP接合を形成するp−型有機物層のHOMO(highest occupied molecular orbital)エネルギー準位である。 - 前記マグネシウム(Mg)またはカルシウム(Ca)によってn−型ドーピングされた有機物層が、電子注入層、電子輸送層、または電子輸送および注入層であることを特徴とする、請求項18に記載のスタック型有機発光素子。
- 前記マグネシウム(Mg)またはカルシウム(Ca)によってn−型ドーピングされた有機物層が第2電極と接することを特徴とする、請求項18に記載のスタック型有機発光素子。
- 前記第1電極のn−型有機物層が、2,3,5,6−テトラフルオロ−7,7,8,8−テトラシアノキノジメタン(F4TCNQ)、フッ素−置換された3,4,9,10−ペリレンテトラカルボン酸二無水物(PTCDA)、シアノ−置換されたPTCDA、ナフタレンテトラカルボン酸二無水物(NTCDA)、フッ素−置換されたNTCDA、シアノ−置換されたNTCDA、およびヘキサニトリルヘキサアザトリフェニレン(HAT)からなる群から選択された有機物を含むことを特徴とする、請求項18に記載のスタック型有機発光素子。
- 第1電極および第2電極と、前記第1電極と第2電極との間に配置された2以上の発光単位、および前記発光単位の間に配置された中間電極層を含む、スタック型有機発光素子であって、
前記第1電極は導電層および前記導電層と接するn−型有機物層を含み、前記中間電極層は導電層および前記導電層と接するn−型有機物層を含み、前記発光単位は各々前記第1電極または前記中間電極層のn−型有機物層とNP接合を形成するp−型有機物層を含み、前記層のエネルギー準位が下記式(1)および(2)を満足し、前記発光単位が、各々マグネシウム(Mg)またはカルシウム(Ca)によってn−型ドーピングされた有機物層をさらに含み、
前記マグネシウム(Mg)またはカルシウム(Ca)によってn−型ドーピングされた有機物層のマグネシウム(Mg)またはカルシウム(Ca)含量が、0.02〜30体積%であることを特徴とする、スタック型有機発光素子:
0eV<EnL−EF1≦4eV (1)
EpH−EnL≦1eV (2)
〔前記式(1)および(2)において、EF1は前記第1電極または中間電極層の導電層のフェルミエネルギー準位であり、EnLは前記第1電極または中間電極層のn−型有機物層のLUMO(lowest unoccupied molecular orbital)エネルギー準位であり、EpHは前記第1電極または中間電極層のn−型有機物層とNP接合を形成するp−型有機物層のHOMO(highest occupied molecular orbital)エネルギー準位である〕。 - 前記マグネシウム(Mg)またはカルシウム(Ca)によってn−型ドーピングされた有機物層が、前記中間電極層または前記第2電極と接することを特徴とする、請求項22に記載のスタック型有機発光素子。
- 前記マグネシウム(Mg)またはカルシウム(Ca)によってn−型ドーピングされた有機物層が、電子注入層、電子輸送層、または電子輸送および注入層であることを特徴とする、請求項22に記載のスタック型有機発光素子。
- 前記第1電極のn−型有機物層が、2,3,5,6−テトラフルオロ−7,7,8,8−テトラシアノキノジメタン(F4TCNQ)、フッ素−置換された3,4,9,10−ペリレンテトラカルボン酸二無水物(PTCDA)、シアノ−置換されたPTCDA、ナフタレンテトラカルボン酸二無水物(NTCDA)、フッ素−置換されたNTCDA、シアノ−置換されたNTCDA、およびヘキサニトリルヘキサアザトリフェニレン(HAT)からなる群から選択された有機物を含むことを特徴とする、請求項22に記載のスタック型有機発光素子。
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