JP5694452B2 - 光学測定装置 - Google Patents
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Description
上述した従来の技術の抱えている未解決問題は次の通りである。
一つはレンズを調整しにくいことである。検査過程において、明確な画像を取るにはレンズの焦点距離を調整する必要がある。それに対し、従来の技術はレンズの焦点距離を微調整する際、レンズ12の表面とレンズホルダー11との間のねじ山121によってレンズ12の垂直方向の位置を変えるため、調整作業が複雑になるだけでなく、検査作業の効率に影響を与える。
一つはレンズホルダー11の陥没溝の壁面に位置するねじ山とレンズ12のねじ山との間に隙間があるため、レンズの位置を調整する際、誤差が生じ、結像効果に影響を与えることである。
基板51は複数のレンズ52に対応する穿孔53と、穿孔53に配置された拡散フィルム54(diffuser)とを有する。拡散フィルム54は光線を均等に散布させる。続いて固定および補強構造55によって拡散フィルム54を安定させる。
しかしながら、異なる測定対象(device under test,DUT)によってレンズ52の焦点距離を調整する際、固定および補強構造55および拡散フィルム54を取り外し、レンズ52を回し、焦点距離を調整しなければならないため、測定作業が繁雑になる。
回路基板は、少なくとも一つの第一穿孔を有する。固定基板は回路基板の上の表面または下の表面に配置され、かつ少なくとも一つの第一穿孔に対応する第二穿孔を有する。レンズホルダーは第二穿孔内に装着され、かつレンズの装着に用いる装着溝を有する。位置調整部は第二穿孔およびレンズホルダーに別々に対応するように固定基板およびレンズホルダーに接続されるため、第二穿孔においてレンズホルダーの位置調整を行うことができる。プローブモジュールはレンズホルダーに対応するように固定基板の底面に配置され、かつ複数のプローブを有する。
プローブモジュールはさらにプローブ固定座を有する。プローブ固定座は固定基板に連結されることで固定基板を回路基板とプローブ固定座との間に位置させる。プローブ固定座は垂直型プローブの固定に用いられる。プローブ固定座は第二穿孔に対応する第三穿孔を有する。スプリングピンは垂直型プローブおよび回路基板に別々に電気的に接続される。
プローブモジュールは固定基板の下の表面に配置され、プローブ基板を有する。プローブ基板は固定基板に連結されることで固定基板を回路基板とプローブ基板との間に位置させる。プローブ基板は第四穿孔および内部に配置された複数の第一導線を有する。第四穿孔は第一穿孔および第二穿孔に対応する。第一導線はスプリングピンに電気的に接続される。プローブモジュールのプローブはMEMSプローブから構成され、プローブ基板に配置され、かつ第一導線およびスプリングピンによって回路基板に電気的に接続される。
第一弾性接触ユニットは回路基板に電気的に接続される。プローブモジュールは固定基板の下の表面に配置され、プローブ基板を有する。プローブ基板は固定基板に連結されることで固定基板を回路基板とプローブ基板との間に位置させる。プローブ基板は第四穿孔および内部に配置された複数の第一導線を有する。第四穿孔は第一穿孔および第二穿孔に対応する。第一導線は第二弾性接触ユニットに電気的に接続される。プローブモジュールのプローブはMEMSプローブから構成され、プローブ基板に配置され、かつ第一導線および差込ユニットによって回路基板に電気的に接続される。
プローブ固定座は垂直型プローブの固定に用いられ、かつ第二穿孔に対応する第三穿孔を有する。光学測定装置はさらに導電層を有する。導電層はプローブ固定座と回路基板との間に装着され、かつ複数の垂直型プローブおよび回路基板に電気的に接続される。
プローブモジュールはさらにプローブ固定座を有する。回路基板は固定基板とプローブ固定座との間に配置される。プローブ固定座は垂直型プローブの固定に用いられ、かつ第二穿孔に対応する第三穿孔を有する。垂直型プローブは回路基板に電気的に接続される。
図2Aおよび図2Bは、本発明の一実施形態による光学測定装置を示す断面図である。本実施形態において、光学測定装置6は、回路基板60、固定基板20、レンズホルダー21およびプローブモジュール63を備える。
回路基板60は、電気接点および少なくとも一つの第一穿孔600を有する。固定基板20は回路基板60の下の表面602に配置され、かつ少なくとも一つの第一穿孔600に対応する第二穿孔201と、第二穿孔201に形成された第一ねじ山220とを有する。固定基板20はエンジニアリングプラスチック、ベークライトまたはセラミックスから構成される。レンズホルダー21は第二穿孔201内に装着され、かつ位置調整によって第二穿孔201内の位置が変わる。
本実施形態において、レンズホルダー21は柱状体であるが、これに限らない。レンズホルダー21は内部に装着溝210を有する。それに対し、別の一実施形態において、装着溝210は壁面にねじ山構造部2101を有する。ねじ山構造部2101はレンズ23のねじ山230と噛み合うことでレンズ23を固定する。
ねじ山構造部2101とねじ山230とを噛み合わせることによって装着溝210内のレンズ23の位置を調整し、レンズ23の焦点位置を柔軟的に調整することができる。レンズ23の装着方法は締付方式に限らない。状況に応じてレンズ23と装着溝210との接続方法を決めればよい。
本実施形態において、プローブモジュール63はカンチレバー式プローブカード(cantilever probe card,CPC)である。プローブ630はカンチレバー式プローブである。プローブモジュール63はさらにプローブ固定環65を有する。プローブ固定環65は固定基板20に連結されることで固定基板20を回路基板60とプローブ固定環65との間に位置させる。
プローブ固定環65はプローブ630の固定に用いられる。カンチレバー式プローブは回路基板に電気的に接続される。プローブ固定環65とプローブ630の接合関係を強化するために、本実施形態はエポキシなどの接着材料66によってプローブ630のボディーをプローブ固定環65に固着させることができる。
レンズホルダー21cは装着溝210を有する柱状体であるが、これに限らない。位置調整部22cは二対の調整溝224c、224dと、第一ねじ山220と、第二ねじ山221とを有する。二対の調整溝224c、224dはレンズホルダー21cの上の表面に形成され、かつ装着溝210の開口部の外側に対称的に配置される。第一ねじ山220は第二穿孔201の内壁面に形成される。第二ねじ山221は第一ねじ山220と噛み合うようにレンズホルダー21cの表面に形成される。
本実施形態は第一ねじ山220と第二ねじ山221との噛み合わせを増強するか、第一ねじ山220と第二ねじ山221との間に樹脂、例えば脱落防止用樹脂を塗布し、ねじ山の間の隙間を低減することによって位置調整および移動の精度を向上させる。別の一実施形態は、エンジニアリングプラスチックまたは金属などの異なる材料でレンズホルダー21cおよび固定基板20cを別々に製作することによってねじ山の噛み合わせを強化する。
本実施形態は、レンズホルダー21cおよび固定基板20cを硬度の異なる材料で別々に製作することによってねじ山の噛み合わせを強化することができる。例えば、固定基板20cの硬度はレンズホルダー21cの硬度より大きい。または固定基板20cの硬度はレンズホルダー21cの硬度より小さい。特に固定基板20cの硬度がレンズホルダー21cの硬度より大きい場合は比較的好ましい。装着溝210は壁面とレンズホルダー21cの外側壁面との間の厚さDが次の数式を満足させる。
0.5mm≦D≦1.5mm
本実施形態は二対の調整溝224c、224dを使用するが、これに限らず、実施形態の精神に基づいて一つまたは一対の調整溝を使用してもよい。調整溝が一つまたは一対である場合、一字型の調整治具と調整溝とを接続すれば、レンズホルダー21cを回転させることができる。
一方、別の一実施形態は全体構造からフランジ構造部202を除外する設計を採用することができる。
図3Aとの違いは次の通りである。本実施形態において、レンズホルダー21dの表面は第一エリア216および第二エリア217に分割される。位置調整部22dは複数のスリット226を有し、スリット226はレンズホルダー21dの第一エリア216に位置する本体に配置される。
レンズホルダー21dは第一エリア216に複数のねじ山噛み合わせ兆西部218を有し、ねじ山噛み合わせ調整部218は第一エリア216から外側へ広がって形成される。第一エリア216の第二ねじ山221の外径は上から漸減した。第二エリア217の第二ねじ山221の外径は上下の大きさが一致する。
本実施形態において、レンズホルダー21dの第二ねじ山221は第一エリア216および第二エリア217に配置される。第一エリア216の第二ねじ山221の外径は第二エリア217の第二ねじ山221の外径より大きい。組み立てを行う際、第二エリア217の第二ねじ山221と第一ねじ山220とを噛み合わせ、続いてレンズホルダー21dを下に移動させ、ねじ山噛み合わせ調整部218(第一エリア216)の第二ねじ山221と第一ねじ山220とを噛み合わせることによってレンズホルダー21dを締め付ける。一方、ねじ山噛み合わせ調整部218は外側へ広がる。
レンズホルダー21dが下に移動する際、ねじ山噛み合わせ調整部218は第二穿孔201によって拘束され、レンズホルダー21dの装着溝210の内部に追い詰められる。このときスリット226は緩衝空間となる。
ねじ山噛み合わせ調整部218は追い詰められると同時に外部の第二穿孔201に反発力が作用し、第二ねじ山221と第一ねじ山220とを緊密に噛み合わせるため、レンズホルダー21dを上下に移動させる際、ねじ山の間の隙間が原因で誤差を生じることを避け、位置調整および移動の精度を向上させることができる。
本実施形態において、位置調整部22eはさらに可とう性環状体227、例えばO型環状体を有するが、これに限らない。可とう性環状体227はレンズホルダー21eに嵌合され、かつ第二ねじ山221の最先端に位置付けられる。可とう性環状体227の外径D1は陥没溝200の内径D2より大きいかそれに等しい。固定基板20eにレンズホルダー21eを締め付ける際、可とう性環状体227は陥没溝200の内壁に係止されるため、レンズホルダー21eと陥没溝200とを相互に密接させ、かつ固定基板20eにレンズホルダー21eを固定する効果を向上させることができる。
一方、図3Cに示した陥没溝200の内径D2は第二穿孔201の口径より大きい。それに対し、別の一実施形態において、陥没溝200の内径D2は第二穿孔201の口径に等しい。従って、本発明はこれに限らず、状況に応じて決めることができる。
本実施形態において、第二ねじ山221と第二穿孔201の第一ねじ山220とを噛み合わせ、レンズホルダー21eを時計回りに回転させてZ軸方向に沿って下へ移動させる際、可とう性環状体227はレンズホルダー21eの降下に伴って陥没溝200の壁面に接触する。レンズホルダー21eを持続的に降下させれば、可とう性環状体227は陥没溝200によって圧縮され、変形し、陥没溝200に密着する。圧縮された可とう性環状体227に生じた反発弾力は陥没溝200を追い詰めるため、可とう性環状体227を配置する前と比べて、レンズホルダー21eと固定基板20eとをより緊密に接合することができる。
一方、可とう性環状体227と陥没溝200とが相互に密着した上でレンズホルダー21eを上下に移動させる際、可とう性環状体227の作用によって第一ねじ山220と第二ねじ山221との間の隙間を低減し、レンズホルダー21eのスライドを抑制することができるだけでなく、レンズホルダー21eを上下に移動させる際、位置を正確に制御することができる。
図4Bは図4Aの3B−3B線に沿った断面図である。上述したレンズ調整機構との違いは次の通りである。本実施形態において、レンズ調整機構はさらに光学調整ユニットおよび固定機構によって光線を均等に散布させ、雑光を取り除き、光学測定効果を向上させる。レンズ調整機構2はレンズホルダー21、光学調整ユニット24および固定機構25を有する。レンズホルダー21は装着溝210を有する柱状体であるが、これに限らない。
装着溝210は壁面2105を装着溝210の側へ突起させて形成した第一突起部2103を有する。装着溝210は光学調整ユニット24に向かい合う別の一側の壁面2105に環状突起部2102を有する。環状突起部2102は装着溝210に対応する表面にねじ山構造2101を有する。本実施形態において、環状突起部2101は必ずしも必要な構造ではない。ねじ山構造2101は図4Cに示すように装着溝210の壁面2105に形成されてもよい。
本実施形態において、固定機構25は一対の固定溝250および一対の嵌合ユニット251を有する。固定溝250は光学調整ユニット24の側面242に対応するようにレンズホルダー21の上の表面2106に近い装着溝210の壁面に形成される。嵌合ユニット251は固定溝250に嵌め込まれ、光学調整ユニット24の固定に用いられる。嵌合ユニット251の厚さは固定溝250の底面と光学調整ユニット24の側面242との間の距離Dより大きいか、それに等しいため、嵌合ユニット251は固定溝250に嵌め込まれる際、光学調整ユニット24に反発力が生じることによって光学調整ユニット24を固定することができる。
一方、別の一実施形態において、嵌合ユニット251は熱膨張・冷収縮材料から構成されるため、温度の降下に伴って体積が収縮する方式によって固定溝250に嵌合ユニット251を嵌め込み、そののち温度を上昇させ、嵌合ユニット251を膨張させ、本体の状態に復元することができる。このとき嵌合ユニット251は反発力が光学調整ユニット24に生じ、固定効果を果たす。
嵌合ユニット251は熱膨張・冷収縮材料に限らず、形状記憶材料から構成されてもよい。本実施形態は一対の固定溝250および一対の嵌合ユニット251を採用するが、これに限らず、単一の固定溝250および嵌合ユニット251の組み合わせを採用してもよい。
図5Aに示すように、レンズホルダー21の比較的深い位置を調整する際に光学調整ユニット24の表面に損傷を与えることを避けるために、本実施形態において、レンズホルダー21の上の表面2106から調整溝224aの底面までの高さはt1である。レンズホルダー21の上の表面2106から光学調整ユニット24の頂面240までの高さはt2である。
t1とt2の関係はt2>t1で表示される。この高さの関係に基づいて調整溝224aと光学調整ユニット24との間に一定の距離を保てばレンズホルダー21の比較的深い位置を調整する際に光学調整ユニット24に損傷を与えることを避けることができる。
本実施形態は二対の調整溝224a、224bを使用するが、これに限らず、実施形態の精神に基づいて奇数または少なくとも一つの調整溝を使用してもよい。別の一実施形態において、調整溝が一対である場合、一字型の調整治具と調整溝とを接続すれば、レンズホルダー21を回転させることができる。
図4Cおよび図4Dに示すように、本発明はレンズホルダー21の外側の第二ねじ山221と第一ねじ山220とを噛み合わせ、レンズホルダー21の位置を調整することによってZ軸方向上のレンズ23の焦点位置を変えることができる。一方、レンズホルダー21は可とう性環状体227の装着に用いる溝部228を有する。本実施形態において、可とう性環状体227はレンズホルダー21の外側に嵌合される。
一方、可とう性環状体227と第一穿孔600とが相互に密着した上でレンズホルダー21を上下に移動させる際、可とう性環状体227の作用によってレンズホルダー21と固定基板20との間のねじ山の隙間を低減することができるだけでなく、レンズホルダー21を上下に移動させる際、位置を正確に制御することができる。
固定基板20にレンズホルダー21を締め付ける際、可とう性環状体227は陥没溝200の内壁に係止されるため、可とう性環状体227を配置する前と比べて、レンズホルダー21と陥没溝200とをより相互に密着させることができるだけでなく、回路基板60にレンズホルダー21を固定する効果を向上させることができる。
固定基板20に締め付けられたレンズホルダー21eを降下させる際、可とう性環状体227は第一貫通孔670の内壁に係止され、第一貫通孔670に密着するため、固定効果を果たすことができる。つまり、レンズホルダーに位置する可とう性環状体によってレンズホルダーのスライドを抑制することができる。
本実施形態において、レンズホルダー21は、上の表面2106に少なくとも一つの目盛27を有する。固定基板20は少なくとも一つの標示271を有する。固定基板20にレンズホルダー21を締め付ける際、レンズホルダー21の回転した角度と、レンズホルダー21のZ軸上の位置および高さとは、目盛27および表示271によって明確にするため、このときレンズホルダー21の位置を微調整することができる。
一方、別の実施形態において、目盛27は固定基板20に配置される。標示271はレンズホルダー21の上の表面2106に配置される。
本実施形態において、嵌合ユニット251は磁気伝導性のある金属材料から構成される。固定溝250は両側に磁性ユニット252を有する。磁性ユニット252は光学調整ユニット24の側面と装着溝210の外壁との間に配置される。図4Gに示すように、光学調整ユニット24の側面と装着溝210とは相互に密着する。
本実施形態は、装着溝210の壁面2100と光学調整ユニット24の側面242との間に少なくとも一つのクリップ溝253を有する。光学調整ユニット24と装着溝210の壁面2100とが相互に密着した上で光学調整ユニット24を取り出す際、挟む・固定する工具によって光学調整ユニット24をクリップ溝253から持ち上げ、そののち取り出せばよい。
クリップ溝253が少なくとも一対である場合、同様に挟む・固定する工具によって光学調整ユニット24をクリップ溝253から取り出すことができる。本実施形態において、クリップ溝253は状況に応じて配置される。
一方、別の一実施形態は、装着溝210内に締め付けられたレンズ23と光学調整ユニット24との間の空間に負圧を保ち、負圧によってレンズホルダー21に光学調整ユニット24を固定する効果を果たす。負圧によって固定された光学調整ユニットを取り出す方式は、上述したクリップ溝253または穿孔245を利用する方式を参考にすればよい。
プローブモジュール63は固定基板20の下の表面207に配置される。プローブモジュール63のプローブは垂直型プローブ630bである。プローブモジュール63はさらにプローブ固定座632を有する。スプリングピン631は垂直型プローブ630bに対応するように固定基板20内に配置され、かつ回路基板60の電気接点に電気的に接続される。
別の一実施形態において、スプリングピン631は外側が絶縁材によって被覆される。プローブ固定座632は固定基板20に連結されることで固定基板20を回路基板60とプローブ固定座632との間に位置させる。プローブ固定座632は垂直型プローブ630bの固定に用いられる。プローブ固定座632は第二穿孔201に対応する第三穿孔6320を有する。
一方、垂直型プローブ630bは一端がプローブ固定座632を通ってスプリングピン631に電気的に接続され、そののちスプリングピン631によって回路基板60の電気接点に電気的に接続される。
本実施形態において、垂直型プローブ630bはアーム6300と垂直部6301を有する。垂直部6301はプローブ固定座632を通ってスプリングピン631に電気的に接続される。
スプリングピン631は固定基板20内に配置され、回路基板60に電気的に接続される。
別の一実施形態において、スプリングピン631は外側が絶縁材によって被覆される。プローブモジュール63は固定基板20の下の表面207に配置され、プローブ基板633を有する。プローブ基板633は固定基板20に連結されることで固定基板20を回路基板60とプローブ基板633との間に位置させる。プローブ基板633は第四穿孔6331および内部に配置された第一導線6330を有する。
第四穿孔6331は第一穿孔600および第二穿孔201に対応する。MEMSプローブ630aはプローブ基板633に配置され、第一導線6330によってスプリングピン631に電気的に接続され、そののちスプリングピン631によって回路基板60の電気接点に電気的に接続される。MEMS技術に基づいてプローブ基板633に形成されたMEMSプローブ630aは従来の技術であるため、詳細な説明を省略する。
変換ボード634は固定基板20とプローブ基板633との間に配置される。変換ボード634は第五穿孔6341および内部に配置された複数の第二導線6340を有する。第五穿孔6341は第一穿孔600、第二穿孔201および第四穿孔6331に対応する。第二導線6340はスプリングピン631、第一導線6330およびMEMSプローブ630aに電気的に接続される。
変換ボード634は空間を切り替える機構である。詳しく言えば、それぞれの表面の電気接点の分布位置および密度が異なる状態下で上下の二つの表面の電気接点を相互に対応させ、電気的に接続する際、大きいピッチ(pitch)を小さいピッチに変換するか、小さいピッチを大きいピッチに変換することができる。
一方、変換ボード634の電気接点の分布位置および密度は特に限定されず、測定対象物(device under test,DUT)9の種類および条件によって決められてもよい。
本実施形態は図6Bに示したスプリングピン631の代わりに差込ユニット6310を採用する。差込ユニット6310は固定基板20内に配置され、かつインターポーザー6311、第一弾性接触ユニット6312および第二弾性接触ユニット6313を有する。第一弾性接触ユニット6312は第二弾性接触ユニット6313に対応するように電気的に接続される。
本実施形態において、固定基板20は回路基板60の下の表面602に配置される。インターポーザー6311は上の表面が複数の第一弾性接触ユニット6312によって回路基板60に電気的に接続され、下の表面が複数の第二弾性接触ユニット6313によって複数の第一導線6330および複数のMEMSプローブ630aに別々に電気的に接続される。
一方、図6Eに示すように、図6Dに示した光学測定装置6はさらに変換ボード634を有する。
変換ボード634は固定基板20とプローブ基板633との間に配置される。変換ボード634は第五穿孔6341および内部に配置された複数の第二導線6340を有する。第五穿孔6341は第一穿孔600、第二穿孔201および第四穿孔6331に対応する。第二導線6340は第二弾性接触ユニット6313およびMEMSプローブ630aに電気的に接続される。
回路基板60は、電気接点および第一穿孔600を有する。固定基板20は回路基板60の上の表面601に配置され、かつ第一穿孔600に対応する第二穿孔201を有する。固定基板20はエンジニアリングプラスチック、ベークライトまたはセラミックスから構成される。レンズホルダー21は第二穿孔201内に装着され、かつ位置調整によって第二穿孔201内の位置が変わる。プローブモジュール63は、回路基板60の下の表面602に配置され、かつ複数の垂直型プローブ630bおよびプローブ固定座632を有する。
プローブ固定座632は回路基板60の下の表面602に配置され、垂直型プローブ630bの固定に用いられ、かつ第二穿孔201に対応する第三穿孔6320を有する。一方、光学測定装置6はさらに導電層635を備える。導電層635はプローブ固定座632と回路基板60との間に装着され、かつ複数の垂直型プローブ630bおよび回路基板60に電気的に接続される。導電層635は異方位導電膜(Anisotropic Conductive Film;ACF)、または台湾特許293938号により提示された差込ユニット504、または台湾特許I266057号により提示された弾性ユニット32、または米国特許US20120169367号により提示されたスプリングコネクター214(Spring Connectors)であってもよい。
回路基板60は、電気接点および第一穿孔600を有する。固定基板20は回路基板60の上の表面601に配置され、かつ第一穿孔600に対応する第二穿孔201を有する。レンズホルダー21は第二穿孔201内に装着され、かつ位置調整によって第二穿孔201内の位置が変わる。
プローブモジュール63は、回路基板60の下の表面602に配置され、かつ複数の垂直型プローブ630bおよびプローブ固定座632を有する。プローブ固定座632は回路基板60の下の表面602に配置され、垂直型プローブ630bの固定に用いられ、かつ第二穿孔201に対応する第三穿孔6320を有する。
20、20c、20d、20e 固定基板
200 陥没溝
201 第二穿孔
202 フランジ構造部
206 陥没溝
207 下の表面
208 第六穿孔
21、21c、21d、21e レンズホルダー
210 装着溝
2100 壁面
2101 ねじ山構造部
2102 環状突起部
2103 第一突起部
2105 壁面
2106 上の表面
216 第一エリア
217 第二エリア
218 ねじ山噛み合わせ調整部
219 斜面
22c、22d、22e 位置調整部
220 第一ねじ山
221 第二ねじ山
224aから224d 調整溝
226 スリット
227 可とう性環状体
228 溝部
23 レンズ
24 光学調整ユニット
240 頂面
241 底面
242 側面
243 第二突起部
245 穿孔
25、25c、25d 固定機構
250 固定溝
251 嵌合ユニット
252 磁性ユニット
258、258a ねじ孔
259、259a ねじ
257 貫通孔
253 クリップ溝
27 目盛
271 標示
6 光学測定装置
60 回路基板
600 第一穿孔
601 上の表面
602 下の表面
63 プローブモジュール
630 プローブ
6300 アーム
6301 垂直部
630a MEMSプローブ
630b 垂直型プローブ
631 スプリングピン
6310 差込ユニット
6311 インターポーザー
6312 第一弾性接触ユニット
6313 第二弾性接触ユニット
632 プローブ固定座
6320 第三穿孔
633 プローブ基板
6330 第一導線
6331 第四穿孔
634 変換ボード
6340 第二導線
6341 第五穿孔
635 導電層
65 プローブ固定環
66 接着材料
67 補強板
670 第一貫通孔
9 測定対象物
D 距離
D1 外径
D2、D3 孔径
t1、t2、h 高さ
T 厚さ
4 固定基板
41、53 穿孔
11、50 レンズホルダー
12、52 レンズ
121 ねじ山
51 基材
54 拡散フィルム
55 補強構造部
Claims (1)
- 回路基板と、少なくとも一つのレンズ調整機構と、少なくとも一つのプローブモジュールと、第一ねじ山と、第二ねじ山とを備え、
前記回路基板は、少なくとも一つの第一穿孔を有し、
前記レンズ調整機構は、固定基板と、少なくとも一つのレンズホルダーとを有し、
前記固定基板は、前記回路基板の下の表面に配置され、かつ少なくとも一つの前記第一穿孔に対応する第二穿孔を有し、
前記レンズホルダーは、前記第二穿孔内に装着され、かつレンズの装着に用いる装着溝を有し、前記レンズホルダーは、位置調整によって前記第二穿孔内の位置が変わり、
前記プローブモジュールは、前記レンズホルダーに対応するように前記固定基板の下の表面または前記回路基板の下の表面に配置され、かつ複数のプローブを有し、前記プローブは前記回路基板に電気的に接続され、
前記第一ねじ山は、前記第二穿孔の壁面に形成され、
前記第二ねじ山は、前記第一ねじ山と噛み合うように前記レンズホルダーの外側壁面に形成されることを特徴とする、
光学測定装置。
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