JP5664157B2 - シリコンノズル基板及びその製造方法 - Google Patents

シリコンノズル基板及びその製造方法 Download PDF

Info

Publication number
JP5664157B2
JP5664157B2 JP2010255586A JP2010255586A JP5664157B2 JP 5664157 B2 JP5664157 B2 JP 5664157B2 JP 2010255586 A JP2010255586 A JP 2010255586A JP 2010255586 A JP2010255586 A JP 2010255586A JP 5664157 B2 JP5664157 B2 JP 5664157B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
silicon
water
substrate
film
protective film
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Active
Application number
JP2010255586A
Other languages
English (en)
Japanese (ja)
Other versions
JP2012106364A (ja
JP2012106364A5 (enrdf_load_stackoverflow
Inventor
大谷 和史
和史 大谷
正博 山下
正博 山下
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Seiko Epson Corp
Original Assignee
Seiko Epson Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Seiko Epson Corp filed Critical Seiko Epson Corp
Priority to JP2010255586A priority Critical patent/JP5664157B2/ja
Publication of JP2012106364A publication Critical patent/JP2012106364A/ja
Publication of JP2012106364A5 publication Critical patent/JP2012106364A5/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP5664157B2 publication Critical patent/JP5664157B2/ja
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Images

Landscapes

  • Particle Formation And Scattering Control In Inkjet Printers (AREA)
JP2010255586A 2010-11-16 2010-11-16 シリコンノズル基板及びその製造方法 Active JP5664157B2 (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2010255586A JP5664157B2 (ja) 2010-11-16 2010-11-16 シリコンノズル基板及びその製造方法

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2010255586A JP5664157B2 (ja) 2010-11-16 2010-11-16 シリコンノズル基板及びその製造方法

Publications (3)

Publication Number Publication Date
JP2012106364A JP2012106364A (ja) 2012-06-07
JP2012106364A5 JP2012106364A5 (enrdf_load_stackoverflow) 2013-11-28
JP5664157B2 true JP5664157B2 (ja) 2015-02-04

Family

ID=46492553

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2010255586A Active JP5664157B2 (ja) 2010-11-16 2010-11-16 シリコンノズル基板及びその製造方法

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP5664157B2 (enrdf_load_stackoverflow)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN109664617A (zh) * 2017-10-13 2019-04-23 佳能株式会社 穿孔基板处理方法和液体喷射头制造方法

Families Citing this family (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP6899211B2 (ja) * 2016-11-29 2021-07-07 ローム株式会社 ノズル基板、インクジェットプリントヘッドおよびノズル基板の製造方法
JP2022049855A (ja) 2020-09-17 2022-03-30 株式会社リコー 液体吐出ヘッド、液体吐出ユニット及び液体を吐出する装置

Family Cites Families (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH1016240A (ja) * 1996-07-08 1998-01-20 Ricoh Co Ltd インクジェットヘッド及びインクジェット記録装置
JP3785852B2 (ja) * 1999-05-20 2006-06-14 コニカミノルタホールディングス株式会社 インクジェットヘッドの製造方法
JP2004034331A (ja) * 2002-06-28 2004-02-05 Konica Minolta Holdings Inc インクジェットヘッド
JP4200484B2 (ja) * 2003-05-07 2008-12-24 セイコーエプソン株式会社 ノズルプレートの撥液膜形成方法及びノズルプレート並びにインクジェットプリンタヘッド
JP4957896B2 (ja) * 2007-03-13 2012-06-20 セイコーエプソン株式会社 ノズル形成部材の製造方法及び液体噴射ヘッドの製造方法並びに液体噴射ヘッドユニットの製造方法
JP5187486B2 (ja) * 2007-07-05 2013-04-24 セイコーエプソン株式会社 液体噴射ヘッドユニットの製造方法
JP5315975B2 (ja) * 2008-12-19 2013-10-16 セイコーエプソン株式会社 ノズル基板、液滴吐出ヘッド及び液滴吐出装置並びにこれらの製造方法
JP5287447B2 (ja) * 2009-04-09 2013-09-11 セイコーエプソン株式会社 ノズル基板、及びそれを備えた液滴吐出ヘッド、液滴吐出装置

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN109664617A (zh) * 2017-10-13 2019-04-23 佳能株式会社 穿孔基板处理方法和液体喷射头制造方法
CN109664617B (zh) * 2017-10-13 2021-04-20 佳能株式会社 穿孔基板处理方法和液体喷射头制造方法

Also Published As

Publication number Publication date
JP2012106364A (ja) 2012-06-07

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP5145985B2 (ja) ノズル基板及びノズル基板の製造方法
JP5728795B2 (ja) ノズルプレートの製造方法、及び、液滴吐出ヘッドの製造方法
CN105398220B (zh) 液体喷出装置的制造方法和液体喷出装置
JP2011121218A (ja) ノズルプレート、吐出ヘッド及びそれらの製造方法並びに吐出装置
US7997697B2 (en) Droplet discharge head, droplet discharge device, method for manufacturing droplet discharge head and method for manufacturing droplet discharge device
JP5218164B2 (ja) ノズル基板の製造方法及び液滴吐出ヘッドの製造方法
JP5315975B2 (ja) ノズル基板、液滴吐出ヘッド及び液滴吐出装置並びにこれらの製造方法
JP4321574B2 (ja) ノズル基板の製造方法、液滴吐出ヘッドの製造方法、液滴吐出ヘッドおよび液滴吐出装置
JP5664157B2 (ja) シリコンノズル基板及びその製造方法
JP4983361B2 (ja) ノズル基板の製造方法及び液滴吐出ヘッドの製造方法
JP2011037053A (ja) ノズルプレートの製造方法
JP4678298B2 (ja) ノズル基板の製造方法、液滴吐出ヘッドの製造方法、液滴吐出装置の製造方法及びデバイスの製造方法
JP2012213967A (ja) 液体噴射ヘッドの製造方法
JP2012096499A (ja) シリコンノズルプレートの製造方法
JP2010142991A (ja) ノズル基板、液滴吐出ヘッド及び液滴吐出装置並びにこれらの製造方法
JP2009178948A (ja) ノズル基板、ノズル基板の製造方法、液滴吐出ヘッド及び液滴吐出装置
JP2009073072A (ja) 液滴吐出ヘッドの製造方法及び液滴吐出装置の製造方法
JP2010149375A (ja) ノズル基板の製造方法及び液滴吐出ヘッドの製造方法
JP5648262B2 (ja) シリコン製ノズル基板の製造方法、液滴吐出ヘッドの製造方法、及び液滴吐出装置の製造方法
JP2010214923A (ja) ノズル基板の製造方法、その製造方法で製造されたノズル基板、液滴吐出ヘッドの製造方法、その製造方法で製造された液滴吐出ヘッド及び液滴吐出装置
JP2012126070A (ja) シリコンノズル基板及びシリコンノズル基板の製造方法
JP2007320254A (ja) ノズルプレートの製造方法、ノズルプレート、液滴吐出ヘッドの製造方法、液滴吐出ヘッド、液滴吐出装置の製造方法及び液滴吐出装置
JP2007245588A (ja) デバイス用基板の製造方法
JP2011178145A (ja) シリコンデバイスの製造方法及び液体噴射ヘッドの製造方法
JP5929276B2 (ja) ノズルプレートの製造方法、および液滴吐出ヘッドの製造方法

Legal Events

Date Code Title Description
A521 Written amendment

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20131011

A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20131011

A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20140319

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20140408

A521 Written amendment

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20140528

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20141111

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20141124

R150 Certificate of patent or registration of utility model

Ref document number: 5664157

Country of ref document: JP

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

S531 Written request for registration of change of domicile

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313531

R350 Written notification of registration of transfer

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350