JP5659280B1 - 光学デバイス、光学デバイス製造方法、及び光アイソレータ - Google Patents

Abstract

【課題】複数の光学部品が基材に対して精度よく配置された光学デバイス及びその製造方法を提供する。【解決手段】本発明の光学デバイスは、第１方向に沿って配列される複数の光学部品と、複数の光学部品が一体的に保持される基材と、を備え、光学部品のそれぞれは、光学面と、光学面と交差する第１面と、光学面及び第１面と交差する第２面と、を備え、基材は、光学部品と第１面で当接したときに、光学部品を第１方向と交差する第２方向に位置決めして保持する第１保持面と、光学部品と接着剤を介して第２面を保持し、光学部品を第１方向及び第２方向と交差する第３方向に位置決めする第２保持面とを備えることを特徴とする。【選択図】図１

Description

本発明は、光学デバイス、光学デバイス製造方法、及び光アイソレータに関する。

複数の光学部品から構成される光学デバイスにおいて、複数の光学部品の接着方法を工夫することによって、各光学部品の適切な位置や角度からのずれを抑制する方法が提案されている（例えば、特許文献１，２）。

特許文献１には、基板上に設けられた凹部内に、接合材を溢れるように充填した後、接合材を介して光学部品を基板上に固定する方法が開示されている。
特許文献２では、固定部材上に設けられた溝の中に、接着剤を充填することによって、光学部品を固定部材上に固定する方法が開示されている。

特許第４６８３９１６号公報 実開平７−３６１０９号公報

しかし、特許文献１，２に示すような光学部品の固定方法では、光学部品を基板上に接着する際に、光学部品の設置角度が所望の角度に対してずれてしまう場合があった。この場合、光学デバイスに求められる所定の光学特性が得られなくなる可能性がある。

本発明は、上記の問題点に鑑みて成されたものであって、複数の光学部品が基材に対して精度よく配置された光学デバイス、その製造方法、及びその光学デバイスを用いた光アイソレータを提供することを目的の一つとする。

本発明の光学デバイスの一つの態様は、第１方向に沿って配列される複数の光学部品と、前記複数の光学部品が一体的に保持される基材と、を備え、前記光学部品のそれぞれは、光学面と、前記光学面と交差する第１面と、前記光学面及び前記第１面と交差する第２面と、を備え、前記基材は、前記光学部品と前記第１面で接着剤を介さずに当接したときに、前記光学部品を前記第１方向と交差する第２方向に位置決めして保持する第１保持面と、前記光学部品と接着剤を介して前記第２面を保持し、前記光学部品を前記第１方向及び前記第２方向と交差する第３方向に位置決めする第２保持面と、前記光学面の前記第１方向に関する位置決めの指標となる指標部と、前記第１保持面を有する第１壁部と、を備え、前記指標部は、前記光学面の前記第１方向の範囲で前記第１壁部を貫通する指標孔部を含むことを特徴とする。
本発明の光学デバイスの一つの態様は、第１方向に沿って配列される複数の光学部品と、前記複数の光学部品が一体的に保持される基材と、を備え、前記光学部品のそれぞれは、光学面と、前記光学面と交差する第１面と、前記光学面及び前記第１面と交差する第２面と、を備え、前記基材は、前記光学部品と前記第１面で接着剤を介さずに当接したときに、前記光学部品を前記第１方向と交差する第２方向に位置決めして保持する第１保持面と、前記光学部品と接着剤を介して前記第２面を保持し、前記光学部品を前記第１方向及び前記第２方向と交差する第３方向に位置決めする第２保持面と、前記第２保持面を有する第２壁部と、を備え、前記第２壁部は、前記第２保持面上で前記光学面と交差する領域の少なくとも一部を含む範囲で前記第２壁部を貫通する第１孔部を含むことを特徴とする。
本発明の光学デバイスの一つの態様は、第１方向に沿って配列される複数の光学部品と、前記複数の光学部品が一体的に保持される基材及び第２基材と、を備え、前記光学部品のそれぞれは、前記第１方向と交差する方向の断面が矩形状に形成され、光学面と、前記光学面と交差する第１面と、前記光学面及び前記第１面と交差する第２面と、前記第１面と対向する位置に配される第３面と、前記第２面と対向する位置に配される第４面と、を備え、前記基材は、前記光学部品と前記第１面で接着剤を介さずに当接したときに、前記光学部品を前記第１方向と交差する第２方向に位置決めして保持する第１保持面と、前記光学部品と接着剤を介して前記第２面を保持し、前記光学部品を前記第１方向及び前記第２方向と交差する第３方向に位置決めする第２保持面と、を備え、前記第２基材は、前記光学部品と前記第３面で接着材を介さずに当接して保持する第３保持面と、前記光学部品と接着剤を介して前記第４面を保持する第４保持面と、を備えることを特徴とする。
本発明の光学デバイスの一つの態様は、第１方向に沿って配列される複数の光学部品と、前記複数の光学部品が一体的に保持される基材及び第２基材と、を備え、前記光学部品のそれぞれは、前記第１方向と交差する方向の断面が矩形状に形成され、光学面と、前記光学面と交差する第１面と、前記光学面及び前記第１面と交差する第２面と、前記第１面と対向する位置に配される第３面と、前記第２面と対向する位置に配される第４面と、を備え、前記基材は、前記光学部品と前記第１面で接着剤を介さずに当接したときに、前記光学部品を前記第１方向と交差する第２方向に位置決めして保持する第１保持面と、前記光学部品と接着剤を介して前記第２面を保持し、前記光学部品を前記第１方向及び前記第２方向と交差する第３方向に位置決めする第２保持面と、前記光学部品と前記第３面で接着剤を介さずに当接して保持する第３保持面と、を備え、前記第２基材は、前記光学部品と接着剤を介して前記第４面を保持する第４保持面を有することを特徴とする。
本発明の光学デバイスは、第１方向に沿って配列される複数の光学部品と、前記複数の光学部品が一体的に保持される基材と、を備え、前記光学部品のそれぞれは、光学面と、前記光学面と交差する第１面と、前記光学面及び前記第１面と交差する第２面と、を備え、前記基材は、前記光学部品と前記第１面で当接したときに、前記光学部品を前記第１方向と交差する第２方向に位置決めして保持する第１保持面と、前記光学部品と接着剤を介して前記第２面を保持し、前記光学部品を前記第１方向及び前記第２方向と交差する第３方向に位置決めする第２保持面とを備えることを特徴とする。

この構成によれば、複数の光学部品の第１面が、基材の第１保持面によって第２方向に位置決めされる。また、複数の光学部品の第２面が、基材の第２保持面によって第３方向に位置決めされる。これにより、複数の光学部品における第１面と第２面とに交差する光学面が、第２方向及び第３方向に精度よく位置決めされた状態で、複数の光学部品が基材によって一体的に保持される。また、第２面と第２保持面との間には接着剤が介在しているため、第２面と第２保持面とは接着され、複数の光学部品は基材に対して固定される。その結果、複数の光学部品が基材に対して精度よく配置された光学デバイスが得られる。

前記基材は、前記光学面の前記第１方向に関する位置決めの指標となる指標部を備える構成としてもよい。
この構成によれば、複数の光学部品を基材によって保持する際に、指標部を指標として、複数の光学面の第１方向を位置決めする方法が採用できる。これより、複数の光学部品が第１方向に対して精度よく配置された光学デバイスが得られる。

前記基材は、前記第１保持面を有する第１壁部を備え、前記指標部は、前記光学面の前記第１方向の範囲で前記第１壁部を貫通する指標孔部を含む構成としてもよい。
この構成によれば、指標孔部は光学面の第１方向の範囲で第１壁部を貫通しているため、指標孔部を指標として、光学面を第１方向に位置決めする方法が採用できる。

前記基材は、前記第２保持面を有する第２壁部を備え、前記第２壁部は、前記第２保持面上で前記光学面と交差する領域の少なくとも一部を含む範囲で第２壁部を貫通する第１孔部を含む構成としてもよい。
この構成によれば、第２保持面を有する第２壁部には、第１孔部が設けられている。第１孔部は、第２保持面上で光学面と交差する領域の少なくとも一部を含んで、第２壁部を貫通している。言い換えると、光学面は第１孔部上に位置している。これにより、第１基材の第２保持面と複数の光学部品の第２面とを接着する際に、過剰な接着剤は第１孔部から外部へと排出されるため、接着剤が光学面へと回り込むことが抑制される。その結果、信頼性に優れた光学デバイスが得られる。

前記第２面の面積は、前記第１面の面積よりも広い構成としてもよい。
この構成によれば、接着剤を介して基材の第２保持面と接着される第２面の面積が、第１面よりも広いため、複数の光学部品の接着強度に優れた光学デバイスが得られる。

前記光学部品は、前記第１方向と交差する方向の断面が矩形状に形成され、前記第１面と対向する位置に配される第３面と、前記第２面と対向する位置に配される第４面とを備え、前記光学部品と前記第３面で接着剤を介さずに当接して保持する第３保持面と、前記光学部品と接着剤を介して前記第４面を保持する第４保持面と、を有する第２基材を備える構成としてもよい。
この構成によれば、基材と第２基材との両方によって、断面矩形状の光学部品を挟持して保持するため、複数の光学部品の接着強度に優れた光学デバイスが得られる。

前記光学部品は、前記第１方向と交差する方向の断面が矩形状に形成され、前記第１面と対向する位置に配される第３面と、前記第２面と対向する位置に配される第４面とを備え、前記基材は、前記光学部品と前記第３面で接着剤を介さずに当接して保持する第３保持面を備え、前記光学部品と接着剤を介して前記第４面を保持する第４保持面を有する第２基材を備える構成としてもよい。
この構成によれば、基材と第２基材との両方によって、断面矩形状の光学部品を挟持して保持するため、複数の光学部品の接着強度に優れた光デバイスが得られる。

前記第２基材は、前記第３保持面を有する第３壁部と、前記第４保持面を有する第４壁部と、を備え、前記第４壁部は、前記第４保持面上で前記光学面と交差する領域の少なくとも一部を含む範囲で第４壁部を貫通する第２孔部を含む構成としてもよい。
この構成によれば、第４保持面を有する第４壁部には、第２孔部が設けられている。第２孔部は、第４保持面上で光学面と交差する領域の少なくとも一部を含んで、第４壁部を貫通している。言い換えると、光学面は第２孔部上に位置している。これにより、第２基材の第４保持面と複数の光学部品の第４面とを接着する際に、過剰な接着剤は第２孔部から外部へと排出されるため、接着剤が光学面へと回り込むことが抑制される。その結果、信頼性に優れた光学デバイスが得られる。

前記接着剤は、弾性接着剤である構成としてもよい。
光学部品と基材とが熱膨張した際においては、光学部品と基材との熱膨張係数が異なることによって、光学部品と基材との間に応力が生じる場合がある。光学部品に応力が加えられると、光学部品が変質し、光学部品の光学特性が低下する場合がある。
これに対して、この構成によれば、光学部品と基材との間に生じる応力が、弾性接着剤によって吸収されるため、光学部品の光学特性が低下することを抑制できる。

本発明の光アイソレータは、本発明の光デバイスを備えることを特徴とする。
この構成によれば、信頼性に優れた光アイソレータが得られる。

本発明の光学デバイス製造方法の一つの態様は、第１保持面と、第２保持面と、を有する基材、及び、第３保持面を有する第３壁部と、第４保持面を有する第４壁部と、を有する第２基材を準備する工程と、光学面を有する複数の光学部品を第１方向に沿って前記基材に保持させる保持工程と、前記基材に保持された前記光学部品を、反転させて前記第２基材に保持させる第２保持工程と、を含み、前記保持工程は、前記光学部品の前記光学面と交差する第１面を前記基材の前記第１保持面に接着剤を介さずに当接させ、前記光学部品を前記第１方向と交差する第２方向に位置決めして保持する工程と、前記光学部品の前記光学面及び前記第１面と交差する第２面を、前記基材の前記第２保持面に接着剤を介して保持させ、前記光学部品を前記第１方向及び前記第２方向と交差する第３方向に位置決めする工程と、を含み、前記第２保持工程は、前記光学部品の前記第１面と対向する位置に配される第３面を前記第２基材の前記第３保持面に接着剤を介さずに当接させる工程と、前記光学部品の前記第２面と対向する位置に配される第４面を前記第２基材の前記第４保持面に接着剤を介して保持させる工程と、を含み、前記基材は、前記第１保持面を有する第１壁部と、前記第２保持面を有する第２壁部と、を有し、前記第２壁部は、前記第２保持面上で前記光学面と交差する領域の少なくとも一部を含む範囲で前記第２壁部を貫通する第１孔部を含み、前記第４壁部は、前記第４保持面上で前記光学面と交差する領域の少なくとも一部を含む範囲で前記第４壁部を貫通する第２孔部を含み、前記保持工程においては、前記複数の光学部品を鉛直方向上方側から、前記基材に保持させ、前記第２保持工程においては、前記基材に保持された前記複数の光学部品を鉛直方向上側から、前記第２基材に保持させることを特徴とする。
本発明の光学デバイス製造方法は、第１保持面と、第２保持面と、を有する基材を準備する工程と、光学面を有する複数の光学部品を第１方向に沿って前記基材に保持させる保持工程と、を含み、前記保持工程は、前記光学部品の前記光学面と交差する第１面を前記基材の前記第１保持面に当接させ、前記光学部品を前記第１方向と交差する第２方向に位置決めして保持する工程と、前記光学部品の前記光学面及び前記第１面と交差する第２面を、前記基材の前記第２保持面に接着剤を介して保持させ、前記光学部品を前記第１方向及び前記第２方向と交差する第３方向に位置決めする工程と、を含むことを特徴とする。

この方法によれば、複数の光学部品が第２方向及び第３方向に対して精度よく位置決めすることができる。

前記光学部品の第２面に前記接着剤を供給する工程と、前記基材の第２保持面に前記接着剤を供給する工程と、前記接着剤を供給した第２面と、前記接着剤を供給した前記第２保持面とを接合する工程と、を含む製造方法としてもよい。
この方法によれば、光学部品の第２面と基材の第２保持面との両方に接着剤が供給されるため、第２面と第２保持面とを接着させる際に、接着界面に空隙が発生することを抑制できる。これにより、光学部品の接着強度に優れた光学デバイスが得られる。

第３保持面を有する第３壁部と、第４保持面を有する第４壁部と、を有する第２基材を準備する工程と、前記基材に保持された前記光学部品を、反転させて前記第２基材に保持させる第２保持工程と、を含み、前記第２保持工程は、前記光学部品の前記第１面と対向する位置に配される第３面を前記第２基材の前記第３保持面に当接させる工程と、前記光学部品の前記第２面と対向する位置に配される第４面を前記第２基材の前記第４保持面に接着剤を介して保持させる工程と、を含み、前記基材は、前記第１保持面を有する第１壁部と、前記第２保持面を有する第２壁部と、を有し、前記第２壁部は、前記第２保持面上で前記光学面と交差する領域の少なくとも一部を含む範囲で第２壁部を貫通する第１孔部を含み、前記第４壁部は、前記第４保持面上で前記光学面と交差する領域の少なくとも一部を含む範囲で第４壁部を貫通する第２孔部を含み、前記保持工程においては、前記複数の光学部品を鉛直方向上方側から、前記基材に保持させ、前記第２保持工程においては、前記基材に保持された前記複数の光学部品を鉛直方向上側から、前記第２基材に保持させる製造方法としてもよい。
この方法によれば、保持工程においては、光学部品を鉛直方向上方側から基材に保持させる。言い換えると、基材の第２保持面と光学部品の第２面とでは、第２保持面の方が鉛直方向下方側となるようにして、光学部品が基材に保持される。これにより、過剰な接着剤は、第１孔部を介して、鉛直方向下方側へと排出される。

また、第２保持工程においては、基材に保持された光学部品を反転させ、光学部品を鉛直方向上方側から第２基材に保持させる。言い換えると、第２基材の第４保持面と光学部品の第４面とでは、第４保持面の方が鉛直方向下方側となるようにして、光学部品が第２基材に保持される。これにより、過剰な接着剤は、第２孔部を介して、鉛直方向下方側へと排出される。

以上により、複数の光学部品を基材と第２基材とで保持する際に、接着剤の量が多いような場合であっても、過剰な接着剤が、それぞれ第１孔部及び第２孔部を介して排出される。そのため、光学面への接着剤の回り込みが抑制され、信頼性に優れた光学デバイスが得られる。

本発明によれば、複数の光学部品が基材に対して精度よく配置された光学デバイス、その製造方法、及びその光学デバイスを用いた光アイソレータが提供される。

第１実施形態の光学結晶アセンブルを示す斜視図である。 第１実施形態の光学結晶アセンブルを示す図であって、（ａ）は、正面図、（ｂ）は、平面図、（ｃ）は、図２（ｂ）におけるＡ−Ａ断面図である。 第１実施形態の基材ユニットを示す斜視図。 第１実施形態の基材ユニットを示す図であって、（ａ）は、正面図、（ｂ）は、平面図である。 第１実施形態の光学結晶アセンブルの光学特性を説明する説明図である。 第１実施形態の光学結晶アセンブルの製造方法を示すフローチャートである。 第１実施形態の光学結晶アセンブルの製造手順を示す断面図である。 第１実施形態の光学結晶アセンブルの効果を説明する説明図である。 第２実施形態の光学結晶アセンブルを示す図であって、（ａ）は、正面図、（ｂ）は、平面図である。 第２実施形態の基材ユニットを示す斜視図である。 第２実施形態の基材ユニットを示す図であって、（ａ）は、正面図、（ｂ）は、平面図である。 第１実施形態の実施例として製造した光アイソレータを示す分解斜視図である。

以下、図を参照しながら、本発明の実施形態に係る光学デバイスについて説明する。
なお、本発明の範囲は、以下の実施の形態に限定されるものではなく、本発明の技術的思想の範囲内で任意に変更可能である。また、以下の図面においては、各構成をわかりやすくするために、実際の構造と各構造における縮尺や数等を異ならせる場合がある。
本実施形態においては、光学デバイスとして偏光無依存型の光アイソレータに用いる光学結晶アセンブルを例示して説明する。

まず、第１実施形態について説明する。
図１（ａ），（ｂ）及び図２（ａ）〜（ｃ）は、本実施形態の光学結晶アセンブル（光学デバイス）２を示す図である。図１（ａ），（ｂ）は、斜視図である。図２（ａ）は、正面図（ＹＺ面図）である。図２（ｂ）は、平面図（ＸＹ面図）である。図２（ｃ）は、図２（ｂ）におけるＡ−Ａ断面図（ＺＸ面図）である。図１（ｂ）及び図２（ｂ），（ｃ）においては、第２基材１ｂの図示を省略している。

なお、以下の説明においてはＸＹＺ座標系を設定し、このＸＹＺ座標系を参照しつつ各部材の位置関係を説明する。この際、基材ユニット１（図１参照）が延在する方向をＸ軸方向（第１方向）、鉛直方向をＺ軸方向（第３方向）、Ｘ軸方向とＺ軸方向の両方と直交する方向をＹ軸方向（第２方向）とする。また、Ｚ軸方向においては、鉛直方向上方の向きを＋の向きとする。また、以下の説明において、延在方向とは、基材ユニット１の長手方向（Ｘ軸方向，第１方向）を意味するものとする。

本実施形態の光学結晶アセンブル２は、図１（ａ），（ｂ）及び図２（ａ）〜（ｃ）に示すように、複数の光学部品５と、基材ユニット１とを備えている。

本実施形態の光学結晶アセンブル２においては、複数の光学部品５の具体的な例として、図１（ｂ）及び図２（ｂ），（ｃ）に示すように、第１偏光子２０と、ファラデー回転子２１と、波長板２２と、第２偏光子２３とが備えられている。光学部品５において、第１偏光子２０、ファラデー回転子２１、波長板２２、第２偏光子２３は、この順に直線状に一列に配置されている。光学部品５に対して、光は光学部品５の配列方向（Ｘ軸方向）に平行な方向で入射される。図に示す矢印は、光が順方向で光学部品５に入射する向きＤを示している。

第１偏光子２０及び第２偏光子２３は、例えば、イットリウムバナデート（ＹＶＯ_４）結晶を用いることができる。
波長板２２としては、例えば、λ／２板を用いることができる。

ファラデー回転子２１は、ファラデー効果を生じる結晶で構成される。ファラデー効果とは、印加磁界によって、光の偏光面が回転する現象のことである。ファラデー効果を生じる結晶としては、例えば、Ｔｂ_３Ｇａ_５Ｏ_１２（ＴＧＧ：Ｔｅｒｂｉｕｍ Ｇｌｌｉｕｍ Ｇａｒｎｅｔ）単結晶や、Ｙ_３Ｆｅ_５Ｏ_１２（ＹＩＧ：Ｙｔｔｒｉｕｍ Ｉｒｏｎ Ｇａｒｎｅｔ）単結晶が挙げられる。ファラデー回転子２１は、磁気回路から印加される磁界によって、偏光面が回転する。

各光学部品５は、本実施形態においては、直方体状である。光学部品５は、図２（ａ）に示すように、第１面５ａと、第２面５ｂと、第３面５ｃと、第４面５ｄと、光学面５ｅとを有している。第１面５ａと第３面５ｃとは平行である。第２面５ｂと第４面５ｄとは平行である。第１面５ａ及び第３面５ｃは、第２面５ｂ及び第４面５ｄとそれぞれ直交している。言い換えると、光学部品５の延在方向（Ｘ軸方向）に交差する方向の断面（ＹＺ断面）は、矩形状である。光学部品５の第２面５ｂの面積は、第１面５ａの面積よりも広い。光学部品５の第４面５ｄの面積は、第３面５ｃの面積よりも広い。

光学面５ｅは、第１面５ａ、第２面５ｂ、第３面５ｃ及び第４面５ｄと交差している。すなわち、各光学部品５は、図２（ｂ），（ｃ）に示すように、それぞれの光学面５ｅが光の入射される方向（Ｘ軸方向）と交差するように配置されている。

本実施形態においては、図２（ｂ）に示すように、第１偏光子２０及び第２偏光子２３の平面視（ＸＹ面視）形状は、矩形状として図示しているが、実際には、例えば、平行四辺形状等、矩形状以外の形状であってもよい。

図３は、基材ユニット１を示す斜視図である。
図３に示すように、基材ユニット１は、第１基材１ａと、第２基材１ｂとを備えている。第１基材１ａ及び第２基材１ｂは同一形状である。図２（ａ）に示すように、基材ユニット１は、第１基材１ａと第２基材１ｂとで光学部品５を挟み込んで保持する。

図４（ａ）は、基材ユニット１の第１基材１ａ（第２基材１ｂ）を示す正面図（ＹＺ面図）である。図４（ｂ）は、基材ユニット１の第１基材１ａ（第２基材１ｂ）を示す平面図（ＸＹ面図）である。
第１基材１ａは、図３及び図４（ｂ）に示すように、長尺の板が縁部において互いに直交するように接続された形状を有する部材である。第１基材１ａの正面視形状は、図４（ａ）に示すように、Ｌ字形状である。第１基材１ａは、第１保持面１０ａを有する第１壁部１５ａと、第２保持面１１ａを有する第２壁部１６ａとを備える。

第１壁部１５ａと第２壁部１６ａとは、第１保持面１０ａと第２保持面１１ａとが垂直となるようにして、互いの長辺で接続されている。第２壁部１６ａにおける第２保持面１１ａの幅Ｗ２は、第１壁部１５ａにおける第１保持面１０ａの幅Ｗ１よりも大きい。これにより、第１保持面１０ａと第２保持面１１ａとの長さは同一であるため、第２保持面１１ａの面積は、第１保持面１０ａの面積よりも広い。

図４（ｂ）に示すように、第２壁部１６ａの第２保持面１１ａには、延在方向（Ｘ軸方向）に沿って並ぶように、複数の第１孔部１２ａが形成されている。第１孔部１２ａは、第２壁部１６ａを第２保持面１１ａの厚さ方向（Ｚ軸方向）に貫通している。第１孔部１２ａの位置は、複数の光学部品５を第１基材１ａ上に並べて配置した際の光学面５ｅの位置に応じて設定される。すなわち、第１孔部１２ａは、光学部品５を所定位置に配置した際に、光学面５ｅの一辺が第１孔部１２ａと平面視で重なるように設けられている。言い換えると、第１孔部１２ａは、光学面５ｅと第２保持面１１ａとが交差する領域の少なくとも一部を含むようにして形成されている。第１孔部１２ａの平面視（ＸＹ面視）形状は、後述する接着剤３０を排出できる範囲内において、特に限定されない。例えば、本実施形態においては、第１孔部１２ａの平面視形状は、長円形状である。また、本実施形態においては、隣り合う光学部品５の対向する２つの光学面５ｅの一辺が、それぞれ１つの第１孔部１２ａと平面視で重なっている。

第１壁部１５ａには、図３及び図４（ｂ）に示すように、複数の第１切欠部（指標部，指標孔部）１３ａが形成されている。第１切欠部１３ａは、光学部品５の光学面５ｅの位置決め標識として設けられている。第１切欠部１３ａは、延在方向に関して光学面５ｅの位置を含む範囲で第１壁部１５ａを貫通して形成されている。

第１切欠部１３ａの平面視（ＺＸ面視）形状は、特に限定されない。例えば、本実施形態においては、図２（ｃ）に示すように、第１切欠部１３ａの側方（Ｙ軸方向）から見た形状は、鉛直方向上方側（＋Ｚ側）に開口する矩形状である。
第１基材１ａの厚み及び材質は、光学部品５を固定できる範囲内で、特に限定されない。

第２基材１ｂは、第１基材１ａと同一形状の部材である。
第２基材１ｂは、図４（ａ）に示すように、第３保持面１０ｂを有する第３壁部１５ｂと、第４保持面１１ｂを有する第４壁部１６ｂとを備える。

第４壁部１６ｂには、第１基材１ａの第１孔部１２ａと同様にして、第２孔部１２ｂが形成されている。
第３壁部１５ｂには、第１基材１ａの第１切欠部１３ａと同様にして、第２切欠部１３ｂが形成されている。

図２（ａ）に示すように、光学部品５の第１面５ａは、第１基材１ａの第１保持面１０ａと、接着剤３０を介さずに当接している。光学部品５の第２面５ｂは、第１基材１ａの第２保持面１１ａと、接着剤３０で接着されている。光学部品５の第３面５ｃは、第２基材１ｂの第３保持面１０ｂと、接着剤３０を介さずに当接している。光学部品５の第４面５ｄは、第２基材１ｂの第４保持面１１ｂと、接着剤３０で接着されている。これにより、光学部品５は、基材ユニット１に保持されている。

基材ユニット１と光学部品５とを接着固定する接着剤３０は、本実施形態においては、弾性接着剤である。弾性接着剤は、硬化状態において弾性変形が可能な接着剤である。弾性接着剤としては、例えば、ポリプロピレンオキシドを主成分とする変成シリコーン系接着剤が挙げられる。

次に、光学結晶アセンブル２の光学特性について説明する。
図５（ａ），（ｂ）は、偏光無依存型光アイソレータ用の光学結晶アセンブル２の光学特性について説明する図である。図５（ａ）は、光学結晶アセンブル２に順方向から光Ｌを入射した場合を示した図である。図５（ｂ）は、光学結晶アセンブル２に逆方向から光Ｌを入射した場合を示した図である。図５（ａ），（ｂ）に示すように、光学結晶アセンブル２の長さ方向（Ｘ軸方向）両側には、入射側アパーチャ４０と射出側アパーチャ４１とが設置されている。なお、図５（ａ），（ｂ）においては、基材ユニット１の図示は省略している。また、順方向とは、光Ｌが第１偏光子２０から第２偏光子２３へと向かう向き（＋Ｘ向き，図１（ｂ）及び図２（ｂ），（ｃ）に示す向きＤ）を意味する。逆方向とは、光Ｌが第２偏光子２３から第１偏光子２０へと向かう向き（−Ｘ向き）を意味する。

図５（ａ）に示すように、光学結晶アセンブル２に順方向で光Ｌを入射させた場合には、光Ｌは、入射側アパーチャ４０の開口部から第１偏光子２０に入射される。第１偏光子２０に入射された光Ｌは、第１偏光子２０によって常光と異常光とに分岐される。そして、第１偏光子２０から射出された常光及び異常光は、ファラデー回転子２１と、波長板２２とを介して、第２偏光子２３に入射される。そして、第２偏光子２３において、分岐されていた常光と異常光は、再び１つの光Ｌに合波される。合波された光Ｌは、射出側アパーチャ４１の開口部から射出される。

一方、図５（ｂ）に示すように、光学結晶アセンブル２に逆方向で光Ｌを入射させた場合には、光Ｌは、射出側アパーチャ４１の開口部から第２偏光子２３に入射される。第２偏光子２３に入射された光Ｌは、第２偏光子２３によって常光と異常光とに分岐される。そして、第２偏光子２３から射出された常光及び異常光は、波長板２２と、ファラデー回転子２１とを介して、第１偏光子２０に入射される。ここで、逆方向から光Ｌが入射された場合においては、ファラデー回転子２１によって偏光が回転される方向が逆になる。これにより、常光及び異常光が、第１偏光子２０内で近付く方向には屈折されなくなるため１つの光にならない。その結果、第１偏光子２０から射出された常光と異常光とは、それぞれ入射側アパーチャ４０によって遮光される。したがって、光Ｌは入射側アパーチャ４０の開口部から射出されない。

以上に説明したように、光アイソレータ用の光学結晶アセンブル２は、光学結晶アセンブル２に順方向から光Ｌを入射させた場合においては、光Ｌを透過させるという光学特性を有する。また、光学結晶アセンブル２は、光学結晶アセンブル２に逆方向から光Ｌを入射した場合においては、光Ｌを遮断するという光学特性を有する。言い換えると、光学結晶アセンブル２の複数の光学部品５は協働して、入射した光Ｌを射出させるとともに、射出した光の戻り光Ｌ（逆方向の光Ｌ）を遮光する。

本実施形態においては、各光学部品５の光学面５ｅの配置角度が光Ｌの入射方向（Ｘ軸方向）に対して精度よく適切に設定されているため、上記のような光学特性を有する。しかし、光学部品５の配置角度が、適切な角度に対してずれているような場合には、上記のような光学特性が得られないおそれがある。
図５（ｃ）は、本実施形態とは異なり、光学部品５がずれて配置された光学結晶アセンブル８０に順方向から光Ｌを入射した場合を示す図である。

光学結晶アセンブル８０は、図５（ｃ）に示すように、例えば、ファラデー回転子２１の配置角度が適切な位置からずれて配置されている。このような場合においては、ファラデー回転子２１に入射された光Ｌは、ファラデー回転子２１が正しく配置されている場合と異なる方向に屈折される。その結果、第２偏光子２３によって常光と異常光とが合波されて射出される光Ｌの位置が適切な位置からずれることで、射出される光Ｌの強度が低下したり、光Ｌが射出側アパーチャ４１によって遮断されたりする。したがって、光アイソレータ用の光学結晶アセンブルにおいては、各光学部品５の配置精度が重要となる。

次に、本実施形態の光学結晶アセンブルの製造方法（光学デバイス製造方法）について、図６及び図７（ａ）〜（ｄ）を用いて説明する。
図６は、本実施形態の光学結晶アセンブルの製造方法を示すフローチャートである。
図７（ａ）〜（ｄ）は、本実施形態の光学結晶アセンブルの製造手順を示す断面図（ＹＺ断面図）である。
本実施形態の光学結晶アセンブルの製造方法は、図６に示すように、第１塗布工程Ｓ１と、第２塗布工程Ｓ２と、第１保持工程（保持工程）Ｓ３と、第１硬化工程Ｓ４と、第３塗布工程Ｓ５と、第４塗布工程Ｓ６と、第２保持工程Ｓ７と、第２硬化工程Ｓ８とを有する。

まず、第１塗布工程Ｓ１では、図７（ａ）に示すように、光学部品５の第２面５ｂ上に接着剤３０を塗布する（供給する）。
次に、第２塗布工程Ｓ２では、第１基材１ａにおける第２壁部１６ａの第２保持面１１ａ上に接着剤３０を塗布する（供給する）。
第１塗布工程Ｓ１及び第２塗布工程Ｓ２により、各光学部品５の第２面５ｂと、第１基材１ａの第２保持面１１ａと、のそれぞれに接着剤３０が塗布される。

次に、第１保持工程Ｓ３は、光学面５ｅを有する複数の光学部品５を第１基材１ａの延在方向（Ｘ軸方向）に沿って第１基材１ａに保持させる工程である。第１保持工程Ｓ３は、図６に示すように、第１当接工程Ｓ３ａと、第１接合工程Ｓ３ｂとを有する。
まず、第１当接工程Ｓ３ａでは、図７（ａ）に示すようにして、光学部品５の第１面５ａを、第１壁部１５ａの第１保持面１０ａに押し付けて当接させる。この工程により、光学部品５は、第１保持面１０ａと垂直な方向（Ｙ軸方向，第２方向）に位置決めされて保持される。

次に、第１接合工程Ｓ３ｂでは、接着剤３０が供給された光学部品５の第２面５ｂと、接着剤３０供給された第１基材１ａの第２保持面１１ａとを接合する。図７（ａ）に示すように、光学部品５を鉛直方向上方側（＋Ｚ側）から、第１基材１ａに接近させる。そして、第２面５ｂと第２保持面１１ａとを接着剤３０によって接着する。この工程により、光学部品５は、第２保持面１１ａと垂直な方向（Ｚ軸方向，第３方向）に位置決めされて保持される。

以上の工程により、第１保持工程Ｓ３が終了する。この工程により、図７（ｂ）に示すように、各光学部品５は、第２保持面１１ａと第２面５ｂとの間に接着剤３０を介して、第１基材１ａに一体的に保持される。第１保持工程Ｓ３において、光学部品５の延在方向（Ｘ軸方向，第１方向）の位置決めは、第１切欠部１３ａを指標として行う。

次に、第１硬化工程Ｓ４では、第１基材１ａの第２保持面１１ａと各光学部品５の第２面５ｂとの間に介在する接着剤３０を硬化させる。硬化させる方法は、接着剤３０の材質に応じて適宜選択できる。本実施形態のように、接着剤３０として弾性接着剤を用いる場合には、例えば、所定時間放置することによって接着剤３０を硬化させる方法を選択できる。

次に、第３塗布工程Ｓ５では、図７（ｂ）に示すように、光学部品５の第４面５ｄ上に接着剤３０を塗布する（供給する）。
次に、第４塗布工程Ｓ６では、第２基材１ｂにおける第４壁部１６ｂの第４保持面１１ｂ上に接着剤３０を塗布する（供給する）。
第３塗布工程Ｓ５及び第４塗布工程Ｓ６により、図７（ｂ）に示すように、各光学部品５の第４面５ｄと、第２基材１ｂの第４保持面１１ｂと、のそれぞれに接着剤３０が塗布される。

次に、第２保持工程Ｓ７は、第１基材１ａに一体的に保持された各光学部品５を、上下反転させて、第２基材１ｂに保持させる工程である。第２保持工程Ｓ７は、図６に示すように、第２当接工程Ｓ７ａと、第２接合工程Ｓ７ｂとを有する。

まず、第２当接工程Ｓ７ａでは、第２基材１ｂを、接着剤３０が塗布された第４保持面１１ｂが鉛直方向上方側（＋Ｚ側）となるように設置する。そして、第１基材１ａに保持された光学部品５を、図７（ｂ）に示す矢印のようにして上下反転させる。より詳細には、図７（ｃ）に示すように、光学部品５の第４面５ｄが、鉛直方向下方側（−Ｚ側）となるようにする。そして、光学部品５の第３面５ｃを、第３壁部１５ｂの第３保持面１０ｂに押し付けて当接させる。この工程により、第１基材１ａに保持された光学部品５が、第３保持面１０ｂと垂直な方向（Ｙ軸方向）に位置決めされて保持される。

次に、第２接合工程Ｓ７ｂでは、接着剤３０が供給された光学部品５の第４面５ｄと、接着剤３０が供給された第２基材１ｂの第４保持面１１ｂとを接合する。図７（ｃ）に示すように、第１基材１ａに保持された光学部品５を鉛直方向上方側（＋Ｚ側）から、第２基材１ｂに接近させる。そして、第４面５ｄと第４保持面１１ｂとを接着剤３０によって接着する。この工程により、第１基材１ａに保持された光学部品５は、第４保持面１１ｂと垂直な方向（Ｚ軸方向）に位置決めされて保持される。

以上の工程により、第２保持工程Ｓ７が終了する。この工程により、図７（ｄ）に示すように、各光学部品５は、第４保持面１１ｂと第４面５ｄとの間に接着剤３０を介して、第２基材１ｂに保持される。第２保持工程Ｓ７において、光学部品５の延在方向（Ｘ軸方向，第１方向）の位置決めは、第２切欠部１３ｂを指標として行う。

次に、第２硬化工程Ｓ８では、第２基材１ｂの第４保持面１１ｂと各光学部品５の第４面５ｄとの間に介在する接着剤３０を硬化させる。硬化させる方法は、第１硬化工程Ｓ４と同様にできる。

以上の工程により、図７（ｄ）に示すように、第１基材１ａと第２基材１ｂとによって、各光学部品５が一体的に保持された本実施形態の光学結晶アセンブル２が製造される。
なお、図７（ｄ）では、光学結晶アセンブル２は、図１及び図２（ａ）〜（ｃ）に示す状態に対して、上下反転した状態で示している。

本実施形態によれば、各光学部品５が精度よく配置された光学結晶アセンブルが得られる。以下、図を用いて説明する。

図８（ａ），（ｂ）は、本実施形態の光学結晶アセンブル２の効果を説明する説明図である。
本実施形態によれば、図８（ａ）に示すように、光学部品５の第１面５ａを第１基材１ａの第１保持面１０ａに押し当てて当接させることにより、第１保持面１０ａに垂直な方向（Ｙ軸方向）に精度よく位置決めされる。第１保持面１０ａと第１面５ａとの間には、接着剤３０が介在しない。そのため、第１面５ａを第１保持面１０ａに当接させた状態で、光学部品５の第２面５ｂを第１基材１ａの第２保持面１１ａに接近させることができる。そして、光学部品５の第２面５ｂが第２保持面１１ａと接着剤３０を介して接合されることにより、光学部品５は、第２保持面１１ａに垂直な方向（Ｚ軸方向）に精度よく位置決めされる。したがって、各光学部品５が基材ユニット１の延在方向（Ｘ軸方向）に沿って直線的に精度よく配置された光学結晶アセンブルが得られる。

また、本実施形態によれば、図８（ａ），（ｂ）に示すように、第２壁部１６ａの第２保持面１１ａには、第１孔部１２ａが形成されている。第１孔部１２ａは光学部品５の光学面５ｅと交差する領域の少なくとも一部を含むようにして形成されている。そのため、光学部品５の第２面５ｂと第２保持面１１ａとを接着する接着剤３０の量が多いような場合であっても、図８（ｂ）の矢印に示すように、過剰な接着剤３０は、第１孔部１２ａから鉛直方向下方側（−Ｚ側）に排出される。したがって、余剰な接着剤３０が光学部品５の光学面５ｅに回り込むことが抑制され、信頼性に優れた光学結晶アセンブルが得られる。

また、本実施形態によれば、第１壁部１５ａの第１保持面１０ａには、第１切欠部１３ａが形成されている。第１切欠部１３ａは、光学面５ｅの延在方向（Ｘ軸方向）の位置が含まれる範囲に形成されている。そのため、光学部品５を第１基材１ａに保持させる際に、第１切欠部１３ａを指標として、光学部品５を延在方向に位置決めする方法を採用できる。

また、本実施形態においては、第１切欠部１３ａは、延在方向において第１孔部１２ａの範囲内となるように形成されている。すなわち、図４（ｂ）に示すように、第１孔部１２ａの幅Ｗ３は、第１切欠部１３ａの幅Ｗ４以上となっている。そのため、延在方向における第１切欠部１３ａが形成されている範囲内であれば、光学面５ｅがどの位置となるように光学部品５を設置した場合であっても、光学面５ｅの延在方向の位置を第１孔部１２ａの延在方向の範囲内とすることができる。言い換えると、光学面５ｅが第１孔部１２ａ上となるようにして、光学部品５を第１基材１ａに保持させることができる。

また、第３壁部１５ｂの第３保持面１０ｂには、第２切欠部１３ｂが形成されている。第２切欠部１３ｂは、光学面５ｅの延在方向（Ｘ軸方向）の位置が含まれる範囲に形成されている。そのため、上述したのと同様にして、光学部品５の光学面５ｅの延在方向の位置が、第２孔部１２ｂの延在方向の範囲内となるように、光学部品５を第２基材１ｂに容易に保持させることができる。

また、本実施形態によれば、各光学部品５を、第１基材１ａと第２基材１ｂとで挟んで保持するため、光学部品５の接着強度に優れた光学結晶アセンブルが得られる。

また、本実施形態によれば、光学部品５の第２面５ｂの面積は、第１面５ａの面積よりも広い。そのため、接着剤３０を塗布して第１基材１ａの第２保持面１１ａと接着させる面として第２面５ｂを選択することで、光学部品５が第１基材１ａと接着剤３０を介して接着される面積を大きくできる。その結果、光学部品５の接着強度を向上できる。

また、光学部品５の第４面５ｄの面積は、第３面５ｃの面積よりも広い。そのため、接着剤３０を塗布して第２基材１ｂの第４保持面１１ｂと接着させる面として第４面５ｄを選択することで、光学部品５が第２基材１ｂと接着剤３０を介して接着される面積を大きくできる。その結果、光学部品５の接着強度を向上できる。

また、本実施形態によれば、接着剤３０として弾性接着剤を用いていることにより、光学デバイスの光学特性の低下を抑制することができる。
光学部品５と基材ユニット１とが半田やエポキシ系接着剤によって固定されている場合においては、光学部品５と基材ユニット１とが熱によって膨張した際に、光学部品５と基材ユニット１と間に応力が生じる。これは、光学部品５と基材ユニット１との熱膨張係数が異なるためである。このような応力が光学部品５に加えられると、光学部品５の光学特性が変質し、光学結晶アセンブル全体としての光学特性を低下させてしまう場合がある。

これに対して、本実施形態では、複数の光学部品５と基材ユニット１とが弾性接着剤で接着されている。そのため、熱膨張によって生じる応力は、弾性接着剤によって吸収される。これにより、光学部品５の光学特性が低下することを抑制できる。

また、本実施形態によれば、第１塗布工程Ｓ１と第２塗布工程Ｓ２とにおいて、第１基材１ａの第２保持面１１ａと光学部品５の第２面５ｂとの両方に接着剤３０を塗布する。これにより、接着される面の両方に接着剤３０が塗布されるため、第２保持面１１ａと光学部品５の第２面５ｂとを接着する際に、接着界面に空隙が生じることを抑制できる。
第３塗布工程Ｓ５と第４塗布工程Ｓ６とにおいても、同様である。
したがって、光学部品５と基材ユニット１との接着強度に優れた光学結晶アセンブルが得られる。

また、本実施形態によれば、第２保持工程Ｓ７において、第１基材１ａに保持された光学部品５を、上下反転させて鉛直方向上方側から第２基材１ｂに保持させる。そのため、第２基材１ｂの第４保持面１１ｂと光学部品５の第４面５ｄとの間に塗布された接着剤３０のうち過剰な分の接着剤３０は、第２孔部１２ｂから鉛直方向下方側へと排出される。その結果、第２基材１ｂに光学部品５を保持させる際に、接着剤３０が光学面５ｅに回り込むことを抑制できる。

また、本実施形態では、第１硬化工程Ｓ４において、第２保持面１１ａと光学部品５の第２面５ｂとの間の接着剤３０を硬化させる。そのため、第２保持工程Ｓ７において、光学部品５を上下反転させた際に、第２保持面１１ａと第２面５ｂとの間に介在する接着剤３０が鉛直方向下方側に流動することを抑制できる。その結果、光学面５ｅに接着剤３０が回り込むことを抑制できる。

なお、本実施形態においては、下記の構成及び方法を採用することもできる。

１つの第１孔部１２ａに対して、１つの光学面５ｅのみが平面視で重なるように、第１孔部１２ａが設けられてもよい。この場合においては、第１孔部１２ａが第２壁部１６ａを貫通する面積を低減できるため、基材ユニット１の強度を向上できる。

また、第１切欠部１３ａの幅Ｗ４は、第１孔部１２ａの幅Ｗ３よりも大きくてもよい。

第１切欠部１３ａ及び第２切欠部１３ｂは、どちらか一方が形成されていなくてもよく、また両方形成されていなくてもよい。
また、第１切欠部１３ａ及び第２切欠部１３ｂの代わりに、光学部品５を配置する際に基材ユニット１の延在方向（Ｘ軸方向）の位置指標となるような指標部を設ける構成であってもよい。指標部の構成としては、特に限定されず、例えば、第１壁部１５ａ及び第３壁部１５ｂに凹部や凸部を形成する構成でもよく、第１壁部１５ａ及び第３壁部１５ｂにアライメントマークを付すような構成であってもよい。

第２基材１ｂは、第１基材１ａと異なる形状であってもよい。
第２孔部１２ｂは、形成されていなくてもよい。
基材ユニット１は、第２基材１ｂを備えなくてもよい。

接着剤３０は、弾性接着剤でなくてもよい。

第１硬化工程Ｓ４においては、接着剤３０の流動が抑制される範囲内において、接着剤３０を半硬化させてもよい。この場合においては、別途本硬化工程を設けてもよい。
第１硬化工程Ｓ４及び第２硬化工程Ｓ８は、省略してもよい。

第１塗布工程Ｓ１及び第２塗布工程Ｓ２のうち、どちらか一方の工程を省略してもよい。すなわち、第２保持面１１ａと第２面５ｂとのうち、どちらか一方に接着剤３０を塗布することで、第１基材１ａと光学部品５とを接着してもよい。
また、第３塗布工程Ｓ５及び第４塗布工程Ｓ６のうち、どちらか一方の工程を省略してもよい。すなわち、第４保持面１１ｂと第４面５ｄとのうち、どちらか一方に接着剤３０を塗布することで、第２基材１ｂと光学部品５とを接着してもよい。

第２保持工程Ｓ７においては、第１基材１ａに保持された光学部品５を上下反転させなくてもよい。この場合においては、第２基材１ｂを鉛直方向上方側（＋Ｚ側）から、第１基材１ａに保持された光学部品５に接近させて、光学部品５を第２基材１ｂに保持させてもよい。

次に、第２実施形態について説明する。
第２実施形態は、第１実施形態に対して、第１基材に第３保持面を有する第３壁部が備えられている点において異なる。
なお、上記実施形態と同様の構成については、適宜同一の符号を付けることにより説明を省略する。

図９（ａ），（ｂ）は、本実施形態の光学結晶アセンブル４を示す図である。図９（ａ）は、正面図であり、図９（ｂ）は、平面図である。図９（ｂ）においては、第２基材３ｂの図示を省略している。
本実施形態の光学結晶アセンブル４は、図９（ａ），（ｂ）に示すように、光学部品５と、基材ユニット３とを備えている。

図１０及び図１１（ａ），（ｂ）は、基材ユニット３を示す図である。図１０は、斜視図である。図１１（ａ）は、正面図（ＹＺ面図）である。図１１（ｂ）は、平面図（ＸＹ面図）である。図１１（ｂ）においては、第２基材３ｂの図示を省略している。
基材ユニット３は、図１０及び図１１（ａ）に示すように、第１基材３ａと、第２基材３ｂとを備えている。

第１基材３ａは、第１保持面５０ａを有する第１壁部５２ａと、第２保持面５１ａを有する第２壁部５３と、第３保持面５０ｂを有する第３壁部５２ｂとを備えている。第１壁部５２ａと、第２壁部５３と、第３壁部５２ｂとによって、溝部５４が形成されている。

第２保持面５１ａには、図１１（ｂ）に示すように、第２壁部５３を第２保持面５１ａに垂直な方向（Ｚ軸方向）に貫通する孔部（第１孔部）１２ｃが形成されている。
第１壁部５２ａ及び第３壁部５２ｂには、切欠部（指標孔部，指標部）１３ｃが形成されている。切欠部１３ｃは、それぞれ第１壁部５２ａ及び第３壁部５２ｂを厚さ方向に貫通する。
第２基材３ｂは、図１０に示すように、平面視矩形状の板状部材である。第２基材３ｂは、図１１（ａ）に示すように、第４保持面５１ｂを有している。

各光学部品５は、図９（ａ）に示すように、第１基材３ａの溝部５４内に収容されている。そして、光学部品５は、溝部５４の開口部が第２基材３ｂによって閉塞されることで、基材ユニット３に保持されている。光学部品５の第１面５ａは、第１基材３ａの第１保持面５０ａと、接着剤３０を介さずに当接している。光学部品５の第２面５ｂは、第１基材３ａの第２保持面５１ａと接着剤３０によって接着されている。光学部品５の第３面５ｃは、第１基材３ａの第３保持面５０ｂと、接着剤３０を介さずに当接している。光学部品５の第４面５ｄは、第２基材３ｂの、第４保持面５１ｂと接着剤３０によって接着されている。
また、第２基材３ｂは、第１基材３ａの第１壁部５２ａ及び第３壁部５２ｂと接着剤３０によって接着されている。

本実施形態によれば、第１基材３ａに形成された溝部５４に光学部品５を挿入することによって、光学部品５を、第１保持面５０ａ及び第３保持面５０ｂと垂直な方向（Ｙ軸方向）に位置決めできる。そして、第１保持面５０ａ及び第３保持面５０ｂと、第１面５ａ及び第３面５ｃと、の間には接着剤３０が介在していないため、光学部品５を第１保持面５０ａ及び第３保持面５０ｂと垂直な方向に位置決めした状態で、光学部品５の第２面５ｂを第２保持面５１ａに接近させることができる。そして、第２面５ｂと第２保持面５１ａとを接着することで、光学部品５を第２保持面５１ａと垂直な方向（Ｚ軸方向）に位置決めできる。したがって、各光学部品５が基材ユニット１の延在方向（Ｘ軸方向）に沿って直線的に精度よく配置された光学結晶アセンブルが得られる。

なお、本実施形態においては、下記の構成を採用してもよい。

第２基材３ｂの第４保持面５１ｂには、光学部品５の光学面５ｅと交差する領域の少なくとも一部を含むようにして、第２基材３ｂを第４保持面５１ｂに垂直な方向（Ｚ軸方向）に貫通する孔部が形成されていてもよい。これにより、第２基材３ｂを光学部品５の第４面５ｄに接着する際に、過剰な接着剤３０は孔部を介して外部に排出される。この場合において、第２基材３ｂと光学部品５とを接着する際には、光学部品５を鉛直方向上方側から第２基材３ｂに接近させて接着する方法を採用してもよい。

第２基材３ｂは、設けられなくてもよい。
第１壁部５２ａと第３壁部５２ｂとのうち、どちらか一方には切欠部１３ｃが形成されていなくてもよい。
また、第１壁部５２ａと第３壁部５２ｂとの両方に切欠部１３ｃが形成されていなくてもよい。

次に、第１実施形態の実施例として、実際に製造した光学結晶アセンブル２Ａについて説明する。
光学結晶アセンブル２Ａは、第１偏光子と、第２偏光子と、ファラデー回転子と、波長板とを備える構成とした。第１偏光子及び第２偏光子としては、ＹＶＯ_４を用いた。ファラデー回転子としては、ＴＧＧ単結晶を用いた。波長板としては、水晶によって構成されたλ／２板を用いた。

各光学部品を保持する第１基材及び第２基材の延在方向の長さは、７８．６８ｍｍとした。当接壁部（当接面）の幅は、２．３ｍｍとした。接着壁部（接着面）の幅は、５．５ｍｍとした。各基材の厚みは、０．４ｍｍとした。

各接着壁部には、それぞれ４つずつ孔部を形成した。孔部は、各接着面上で、各光学部品の光学面と交差する領域の少なくとも一部を貫通するように形成した。孔部は、平面視長円形状の２×３長穴とした。

各当接壁部には、当接壁部を貫通する切欠部を形成した。切欠部は、各光学部品の光学面の延在方向の位置を含むように形成した。切欠部の平面視（ＺＸ面視）形状は、矩形状とした。切欠部の延在方向（Ｘ軸方向）長さは、０．５ｍｍとした。切欠部の高さ方向（Ｚ軸方向）の長さは、１ｍｍとした。

次に、上述した光学結晶アセンブル２Ａを用いた光アイソレータの実施例として、実際に製造した偏光無依存型の光アイソレータ７０について説明する。
図１２は、製造した光アイソレータ７０を示す分解斜視図である。
図１２に示すように、まず、光学結晶アセンブル２Ａを磁気回路６５内に挿入した。そして、磁気回路６５に挿入された光学結晶アセンブル２Ａを覆うようにして、前面パネル６０と、側面パネル６１と、後面パネル６２と、底面パネル６３と、天面パネル６４とを設置した。これにより、光学結晶アセンブル２Ａを用いた光アイソレータ７０を製造した。前面パネル６０及び後面パネル６２には、それぞれアパーチャが設けられている。これにより、光学結晶アセンブルに入射する光を透過・遮断することができる。

また、比較例１として、光学部品を固定する基材として１枚の平板状部材を用いた場合の光アイソレータを製造した。光学部品の構成は、上記実施例と同様である。
また、比較例２として、上記実施例の光アイソレータ７０に対して、光学結晶アセンブルの基材に孔部が形成されていない点においてのみ異なる光アイソレータを製造した。

製造した本実施例の光アイソレータ７０及び比較例１，２の光アイソレータのそれぞれに、ファイバレーザを入射した。その結果、比較例１の光アイソレータでは、所望の光学特性が得られなかった。これは、基材に光学部品を保持させる際に、各光学部品の配置がずれてしまったためと考えられる。
また、比較例２の光アイソレータでは、光学結晶アセンブルの光学部品に破損が見られた。比較例２においては、光学部品の光学面が、固定用の接着剤が回り込むことによって汚染されていたためと考えられる。

これに対して、本実施例の光アイソレータ７０では、所望の光学特性が得られた。本実施例においては、第１基材及び第２基材の当接面と接着面とによって、基材に対して光学部品が精度よく位置決めされているためと考えられる。これにより、本実施例によれば、光学部品が精度よく配置された光学結晶アセンブル及び光アイソレータが得られることが確かめられた。

また、本実施例の光アイソレータ７０では、光学部品に破損は見られなかった。本実施例においては、各基材に孔部が形成されていることにより、過剰な接着剤は孔部を介して排出され、光学面に接着剤が回り込むことが抑制されたためと考えられる。これにより、本実施例によれば、光学面への接着剤の回り込みを抑制でき、信頼性に優れた光学結晶アセンブル及び光アイソレータが得られることが確かめられた。

なお、上記実施例では、第１実施形態の光学結晶アセンブルを用いたが、第２実施形態の光学結晶アセンブルを用いてもよい。

また、上記実施形態においては、本発明を偏光無依存型の光アイソレータに用いる光学結晶アセンブルに適用した例を示したが、これに限られない。例えば、本発明は、偏光依存型の光アイソレータに用いる光学結晶アセンブルや、光サーキュレータに用いる光学結晶アセンブルに適用することもできる。

１，３…基材ユニット（基材）、１ａ，３ａ…第１基材（基材）、１ｂ，３ｂ…第２基材、２…光学結晶アセンブル（光学デバイス）、５…光学部品、５ａ…第１面、５ｂ…第２面、５ｃ…第３面、５ｄ…第４面、５ｅ…光学面、１０ａ…第１保持面、１０ｂ…第３保持面、１１ａ…第２保持面、１１ｂ…第４保持面、１２ａ…第１孔部、１２ｂ…第２孔部、１２ｃ…孔部（第１孔部）、１３ａ…第１切欠部（指標孔部，指標部）、１５ａ…第１壁部、１６ａ…第２壁部、１５ｂ…第３壁部、１６ｂ…第４壁部、３０…接着剤、５２ａ…第１壁部、５３…第２壁部、５２ｂ…第３壁部、７０…光アイソレータ、Ｌ…光、Ｓ３…第１保持工程（保持工程）、Ｓ７…第２保持工程

Claims (12)

1. 第１方向に沿って配列される複数の光学部品と、
   前記複数の光学部品が一体的に保持される基材と、を備え、
   前記光学部品のそれぞれは、光学面と、前記光学面と交差する第１面と、前記光学面及び前記第１面と交差する第２面と、を備え、
   前記基材は、前記光学部品と前記第１面で接着剤を介さずに当接したときに、前記光学部品を前記第１方向と交差する第２方向に位置決めして保持する第１保持面と、前記光学部品と接着剤を介して前記第２面を保持し、前記光学部品を前記第１方向及び前記第２方向と交差する第３方向に位置決めする第２保持面と、前記光学面の前記第１方向に関する位置決めの指標となる指標部と、前記第１保持面を有する第１壁部と、を備え、
   前記指標部は、前記光学面の前記第１方向の範囲で前記第１壁部を貫通する指標孔部を含むことを特徴とする光学デバイス。
2. 第１方向に沿って配列される複数の光学部品と、
   前記複数の光学部品が一体的に保持される基材と、を備え、
   前記光学部品のそれぞれは、光学面と、前記光学面と交差する第１面と、前記光学面及び前記第１面と交差する第２面と、を備え、
   前記基材は、前記光学部品と前記第１面で接着剤を介さずに当接したときに、前記光学部品を前記第１方向と交差する第２方向に位置決めして保持する第１保持面と、前記光学部品と接着剤を介して前記第２面を保持し、前記光学部品を前記第１方向及び前記第２方向と交差する第３方向に位置決めする第２保持面と、前記第２保持面を有する第２壁部と、を備え、
   前記第２壁部は、前記第２保持面上で前記光学面と交差する領域の少なくとも一部を含む範囲で前記第２壁部を貫通する第１孔部を含むことを特徴とする光学デバイス。
3. 前記第２面の面積は、前記第１面の面積よりも広いことを特徴とする請求項１または２に記載の光学デバイス。
4. 第１方向に沿って配列される複数の光学部品と、
   前記複数の光学部品が一体的に保持される基材及び第２基材と、を備え、
   前記光学部品のそれぞれは、
   前記第１方向と交差する方向の断面が矩形状に形成され、
   光学面と、前記光学面と交差する第１面と、前記光学面及び前記第１面と交差する第２面と、前記第１面と対向する位置に配される第３面と、前記第２面と対向する位置に配される第４面と、を備え、
   前記基材は、前記光学部品と前記第１面で接着剤を介さずに当接したときに、前記光学部品を前記第１方向と交差する第２方向に位置決めして保持する第１保持面と、前記光学部品と接着剤を介して前記第２面を保持し、前記光学部品を前記第１方向及び前記第２方向と交差する第３方向に位置決めする第２保持面と、を備え、
   前記第２基材は、前記光学部品と前記第３面で接着材を介さずに当接して保持する第３保持面と、前記光学部品と接着剤を介して前記第４面を保持する第４保持面と、を備えることを特徴とする光学デバイス。
5. 前記光学部品は、前記第１方向と交差する方向の断面が矩形状に形成され、前記第１面と対向する位置に配される第３面と、前記第２面と対向する位置に配される第４面とを備え、
   前記光学部品と前記第３面で接着材を介さずに当接して保持する第３保持面と、前記光学部品と接着剤を介して前記第４面を保持する第４保持面と、を有する第２基材を備えることを特徴とする請求項１から３のいずれか一項に記載の光学デバイス。
6. 第１方向に沿って配列される複数の光学部品と、
   前記複数の光学部品が一体的に保持される基材及び第２基材と、を備え、
   前記光学部品のそれぞれは、
   前記第１方向と交差する方向の断面が矩形状に形成され、
   光学面と、前記光学面と交差する第１面と、前記光学面及び前記第１面と交差する第２面と、前記第１面と対向する位置に配される第３面と、前記第２面と対向する位置に配される第４面と、を備え、
   前記基材は、前記光学部品と前記第１面で接着剤を介さずに当接したときに、前記光学部品を前記第１方向と交差する第２方向に位置決めして保持する第１保持面と、前記光学部品と接着剤を介して前記第２面を保持し、前記光学部品を前記第１方向及び前記第２方向と交差する第３方向に位置決めする第２保持面と、前記光学部品と前記第３面で接着剤を介さずに当接して保持する第３保持面と、を備え、
   前記第２基材は、前記光学部品と接着剤を介して前記第４面を保持する第４保持面を有することを特徴とする光学デバイス。
7. 前記光学部品は、前記第１方向と交差する方向の断面が矩形状に形成され、前記第１面と対向する位置に配される第３面と、前記第２面と対向する位置に配される第４面とを備え、
   前記基材は、前記光学部品と前記第３面で接着剤を介さずに当接して保持する第３保持面を備え、
   前記光学部品と接着剤を介して前記第４面を保持する第４保持面を有する第２基材を備えることを特徴とする請求項１から５のいずれか一項に記載の光学デバイス。
8. 前記第２基材は、前記第３保持面を有する第３壁部と、前記第４保持面を有する第４壁部と、を備え、
   前記第４壁部は、前記第４保持面上で前記光学面と交差する領域の少なくとも一部を含む範囲で前記第４壁部を貫通する第２孔部を含むことを特徴とする請求項４または５に記載の光学デバイス。
9. 前記接着剤は、弾性接着剤である、請求項１から８のいずれか一項に記載の光学デバイス。
10. 請求項１から９のいずれか一項に記載の光学デバイスを備えることを特徴とする光アイソレータ。
11. 第１保持面と、第２保持面と、を有する基材、及び、第３保持面を有する第３壁部と、第４保持面を有する第４壁部と、を有する第２基材を準備する工程と、
    光学面を有する複数の光学部品を第１方向に沿って前記基材に保持させる保持工程と、
    前記基材に保持された前記光学部品を、反転させて前記第２基材に保持させる第２保持工程と、
    を含み、
    前記保持工程は、前記光学部品の前記光学面と交差する第１面を前記基材の前記第１保持面に接着剤を介さずに当接させ、前記光学部品を前記第１方向と交差する第２方向に位置決めして保持する工程と、前記光学部品の前記光学面及び前記第１面と交差する第２面を、前記基材の前記第２保持面に接着剤を介して保持させ、前記光学部品を前記第１方向及び前記第２方向と交差する第３方向に位置決めする工程と、
    を含み、
    前記第２保持工程は、前記光学部品の前記第１面と対向する位置に配される第３面を前記第２基材の前記第３保持面に接着剤を介さずに当接させる工程と、前記光学部品の前記第２面と対向する位置に配される第４面を前記第２基材の前記第４保持面に接着剤を介して保持させる工程と、を含み、
    前記基材は、前記第１保持面を有する第１壁部と、前記第２保持面を有する第２壁部と、を有し、
    前記第２壁部は、前記第２保持面上で前記光学面と交差する領域の少なくとも一部を含む範囲で前記第２壁部を貫通する第１孔部を含み、
    前記第４壁部は、前記第４保持面上で前記光学面と交差する領域の少なくとも一部を含む範囲で前記第４壁部を貫通する第２孔部を含み、
    前記保持工程においては、前記複数の光学部品を鉛直方向上方側から、前記基材に保持させ、
    前記第２保持工程においては、前記基材に保持された前記複数の光学部品を鉛直方向上側から、前記第２基材に保持させることを特徴とする光学デバイス製造方法。
12. 前記光学部品の第２面に前記接着剤を供給する工程と、
    前記基材の第２保持面に前記接着剤を供給する工程と、
    前記接着剤を供給した第２面と、前記接着剤を供給した前記第２保持面とを接合する工程と、を含むことを特徴とする請求項１１に記載の光学デバイス製造方法。

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