JP2008139478A - 導波路型光アイソレータが搭載された光導波路回路基板 - Google Patents

導波路型光アイソレータが搭載された光導波路回路基板 Download PDF

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Abstract

【課題】
導波路型光アイソレータが搭載された光導波路回路基板において、その挿入損失の低減を図ると共に、両者の高精度な光軸調整を不要とすることにより製造コストの低減と量産性の向上を図る。
【解決手段】
導波路型光アイソレータに設けられた導波路を構成するコア部の、光源からの光入射端近傍における断面積を他の部分に比して小さくすることにより、当該部位におけるモードフィルド径を増大せしめる。
【選択図】 図1

Description

本発明は、光通信や光を用いた放送波伝送、及び光による計測等において用いられる光導波路回路基板に関し、特に、光源となるレーザーから出射された光波が、種々の原因で光源に戻ることを防止する機能を有する導波路型光アイソレータが搭載された光導波路回路基板に関する。
図10に、従来からよく知られた、ファラデー回転子を用いた光アイソレータの構成概略を示す。図中、101はファラデー回転子、102は偏光子、103は検光子、104は永久磁石等の磁界印加手段、105は半導体レーザー等から成る光源、106は光源105から出射された光の伝播方向を示す。
従来、ファラデー回転子101の材料としては、例えば特開平7−206593号公報に記載されているように、非磁性ガーネット基板上に液相エピタキシャル法で形成されたビスマス置換希土類鉄ガーネット単結晶が用いられていた。一般的に、ファラデー回転子101に入射する光の偏光方向と、ファラデー回転子を透過した後の光の偏光方向との成す角度、すなわちファラデー回転角は、ファラデー回転子の光伝播方向の厚さに比例する。
例えば、光アイソレータの場合、ファラデー回転角は45度であることが必要であり、そのためのビスマス置換希土類鉄ガーネットの厚さは400〜500μmとなる(以下、45度のファラデー回転角を得るための厚さを「伝播長」と記す)。通常、係る伝播長を得るために、液相エピタキシャル法で、ビスマス置換希土類鉄ガーネットを前述した伝播長より厚く形成した後、基板を研磨で除去し、更に、精密研磨により所望のファラデー回転角を得るために必要な膜厚に追い込む、と云う加工方法が採られていた。
一方、所謂導波路型の光アイソレータ、及びそれを光導波路回路基板に搭載する態様については、例えば、特開平7−199119号公報に開示されている。同公報においては、置換型YIG(イットリウム鉄ガーネット)から構成されるコア部を有する導波路型光アイソレータにおいて、挿入損失として1.5〜2dB、アイソレーションとして〜26dBが達成できることが開示されている。
特開平7−206593号公報 特開平7−199119号公報
光アイソレータを光導波路回路基板に搭載させる方法の一に所謂嵌め込み型がある。嵌め込み型とは、別個独立に製造した光アイソレータ、例えば導波路型光アイソレータと光導波路回路基板とを組み合わせる方法で、光アイソレータが搭載された光導波路回路基板を製造する方法である。嵌め込み型は、導波路型光アイソレータを光導波路回路基板に直接、一体として作り込む、所謂モノリシック型に比べて、製造プロセスが単純で、かつ高い製造歩留まりが期待できる点で有利である。
しかし、導波路型光アイソレータを挿入することによる損失(以下、「挿入損失」と記す。)を小さくするためには、光導波路回路基板に設けられた導波路を構成するコア部と導波路型光アイソレータに設けられた導波路を構成するコア部との相対位置をサブミクロンオーダーで精密に調整する必要がある。例えば、斯かる調整方法としては、光導波路回路基板に設けられた導波路に試験光を入射し、導波路型光アイソレータと光導波路回路基板との相対位置を調整しつつ挿入損失量を測定し、当該損失量が極小になる位置で導波路型光アイソレータを光導波路回路基板に固着する、と云った方法を採る必要がある。
すなわち、従来の嵌め込み型の導波路型光アイソレータが搭載された光導波路回路基板においては、その量産性が低く、結果としてその製造コストは高価なものとなっていた。
前記従来技術の解決すべき課題に対して、本発明により提供される第1の手段は、
基体上に第1のクラッド層、該第1のクラッド層上に設けられたファラデー効果を有する磁性体ガーネットから成るコア部、該コア部を覆う第2のクラッド層を有する導波路と偏光手段とを具備する導波路型光アイソレータが搭載された光導波路回路基板であって、該導波路型光アイソレータの該コア部の一部の光伝搬方向に直交する面の断面積が該コア部の他の部分に比して小さくなっていることを特徴とする導波路型光アイソレータが搭載された光導波路回路基板である。
また、本発明により提供される第2の手段は、
該光導波路回路基板に設けられた導波路を構成するコア部の、該導波路型光アイソレータに設けられた導波路内を伝搬する光の出射端側に位置する部分の光伝搬方向と直交する面の断面積が、該光導波路回路基板に設けられた導波路を構成するコア部の他の部分に比して小さくなっていることを特徴とする前記第1の手段に係る導波路型光アイソレータが搭載された光導波路回路基板である。
また、本発明により提供される第3の手段は、
該偏光手段が単一の偏光板から成り、該偏光板が、該光導波路回路基板に設けられた導波路と該導波路型光アイソレータに設けられた導波路とが対向する箇所の、該導波路型光アイソレータに設けられた導波路内を伝搬する光の出射端側に位置する箇所に、該導波路の光伝搬方向と略直交するように設けられたことを特徴とする前記第1若しくは第2の手段に係る導波路型光アイソレータが搭載された光導波路回路基板である。
また、本発明により提供される第4の手段は、
該偏光手段が単一の偏光板から成り、該偏光板が、該導波路型光アイソレータに対して光源と反対側に設けられた該光導波路回路基板の導波路の途中に、該導波路の光伝搬方向と略直交するように挿入されたことを特徴とする前記第1若しくは第2の手段に係る導波路型光アイソレータを具備した光導波路回路基板である。
また、本発明により提供される第5の手段は、
該偏光手段が第1及び第2の偏光板から成り、該第1の偏光板が、該光導波路回路基板に設けられた導波路と該導波路型光アイソレータに設けられた導波路とが対向する箇所に、該導波路の光伝搬方向と略直交するように設けられたことを特徴とする前記第1若しくは第2の手段に係る導波路型光アイソレータが搭載された光導波路回路基板である。
また、本発明により提供される第6の手段は、
該偏光手段が第1及び第2の偏光板から成り、該第1の偏光板が、該光導波路回路基板に設けられた導波路と該導波路型光アイソレータに設けられた導波路とが対向する箇所の、光源側に位置する箇所に、該導波路の光伝搬方向と略直交するように設けられ、かつ該第2の偏光板が、該導波路型光アイソレータに対して光源と反対側に設けられた該光導波路回路基板の導波路の途中に、該導波路の光伝搬方向と略直交するように挿入されたことを特徴とする前記第1若しくは第2の手段に係る導波路型光アイソレータを具備した光導波路回路基板である。
更に、本発明により提供される第6の手段は、
該偏光手段が第1及び第2の偏光板から成り、該第1の偏光板が、該導波路型光アイソレータに対して光源側に設けられた該光導波路回路基板の導波路の途中に、該導波路の光伝搬方向と略直交するように挿入され、かつ第2の偏光板が、該光導波路回路基板に設けられた導波路と該導波路型光アイソレータに設けられた導波路とが対向する箇所の、該導波路型光アイソレータに設けられた導波路内を伝搬する光の出射端側に位置する箇所に、該導波路の光伝搬方向と略直交するように設けられたことを特徴とする前記第1若しくは第2の手段に係る導波路型光アイソレータが搭載された光導波路回路基板。
以下、図4〜図5(b)を用いて、光導波路回路基板に設けられた導波路を構成するコア部と導波路型光アイソレータに設けられた導波路を構成するコア部との相対位置が挿入損失に及ぼす影響等について説明する。
図4は、従来の嵌め込み型の導波路型光アイソレータが搭載された光導波路回路基板の導波路型光アイソレータが搭載された部分の構成を示す概略側断面図である。図中、40は光導波路回路基板の基板、41は光導波路回路基板に設けられた導波路のクラッド層、42は同コア部、43は導波路型光アイソレータの基板、44は導波路型光アイソレータに設けられた導波路のコア部、45は同クラッド層、46は偏光子、47は検光子、48,48‘は光源(図示せず)から出射された光がコア部42内を伝搬する方向を示す矢印、49は光源(図示せず)から出射された光がコア部44内を伝搬する方向を示す矢印である。
本構成においては、偏光子46と検光子47の透過軸が互いに45度の角度をなすように設定されている。また、様々な要因で光源に戻る帰還光に対しては、検光子36は偏光子として、偏光子35は検光子と機能する。
以下、図4に示した導波路型光アイソレータが搭載された光導波路回路基板において、損失が発生する原因、及び光導波路回路基板に設けられた導波路を構成するコア部と導波路型光アイソレータに設けられた導波路を構成するコア部との相対位置が挿入損失に及ぼす影響等について説明する。
図5aは、導波路から出射された光が拡がる様子を模式的に示した図であり、図5bは、図4において、偏光子46近傍における光の伝搬の様子を模式的に示す概略側断面図である。図5a中、51は基板、52はクラッド層、53はコア部、54は模式的に示した光の拡がり、55はコア部53の端部近傍から出射された光が伝搬する平均的な方向を示す矢印である。また、図5b中、56は模式的に示した偏光子46の内部を伝搬する光の拡がりである。
図5aに示したように、コア部53の端部から空間に出射された光は拡散し、そのビーム幅は拡がる。斯かるビーム幅の拡がり量は、コア部53の出射端からの距離の増大と共に増加し、また当該距離が一定の場合には、コア部53の出射端における面積の減少と共に増大する。
一般的に、光導波路回路基板に設けられる導波路は、石英ガラスを主材料とする、所謂石英系導波路であり、そのコア部の光伝搬方向に直交する面内における形状(以下、係る形状を「コア部の断面形状」と記す)は、一辺が〜10μmの略正方形状である。これに対して、導波路型光アイソレータに設けられる導波路のコア部の断面形状は、屈折率の関係から、その一辺が3〜8μmの略正方形状となる。従って、導波路型光アイソレータに構成された導波路か出射された光のビーム幅は、石英系導波路から空間に出射された光のビーム幅に比べて大きい。
また、図5bに示したように、偏光子46を介して、光導波路回路基板に設けられた導波路と導波路型光アイソレータに設けられた導波路とを対向させた場合においても、前述した場合と同様、コア部42を伝搬する光48は、偏光子46内を伝搬する際に、そのビーム幅は拡がることになる(図中拡がり56)。従って、そのビーム幅の拡がりに対応した分だけ、コア部44内を伝搬する光49のパワーは損失を受けることになる。更に、前述したように、導波路型光アイソレータに設けられたコア部44の断面積は、光導波路回路基板に設けられたコア部42の断面積に比して小さいために、その損失量は更に増大することになる。
従って、斯かる構成において挿入損失を極小にするためには、光導波路回路基板に設けられた導波路と導波路型光アイソレータに設けられた導波路との相対位置を高精度に合わせる必要がある。
一般的に、光導波路における光の取り込み効率、ηは、光導波路の入射端面をxy面とした場合、(1)式によって与えられる。
Figure 2008139478
式(1)において、φ(x,y)は、xy面における入射光の電界強度分布を与える式、ψ(x,y)は導波路を伝搬する光の電界強度分布を与える式、δx、δyは各々電界強度分布の中心位置のずれ量である。
式(1)より、挿入損失を低減する方法として、受け側であるコア部(例えば、図5b中のコア部44)の電界強度分布の拡がり幅を増大せしめる方法が有効である。係る方法として、コア部の断面積自体を増大せしめる方法が考えられる。しかし、同方法をとる場合には、コア部内を伝搬する光のシングルモード条件が満足されなくなることから適当ではない。
すなわち、本発明は、導波路を伝搬する光の電界強度分布の幅、所謂モードフィルド径(伝搬する光の電界強度が1/eになる径)が、導波路を構成するコア部の断面形状に大きく依存することに着目し、その効果を利用することにより完成されたものである。
以下、本発明における挿入損失の低減手段について説明する。
図6に導波路内を伝搬する光の電界強度分布の計算結果の一例を示す。計算に用いたコア部の屈折率は2.20、クラッド層の屈折率は2.19である。また、コア部の断面形状は正方形である。図6は、コア部の中心を原点として、中心からの距離と電界強度との関係を示した図である。同図において、規格化電界強度とは、各位置における電界強度をコア部の中心における電界強度で規格化した電界強度を意味し、中心からの距離とは、コア部の正方断面における一辺に平行方向の距離である。 図中、61はコア部の断面形状が5μm角の正方形状の場合、62はコア部の形状が0.8μm角の正方形状の場合についての計算結果である。
図6に示したように、コア部の形状が0.8μm角の正方形状の場合、同5μmの場合に比べて、電界強度分布は拡がっていることが理解される。すなわち、モードフィルド径は、コア幅の減少と共に単純に減少した後、コア幅がある一定の臨界値よりも狭くなった場合、同径は、コア幅の増大と共に急激に増大する傾向を示す。
本発明は、係るモードフィルド径の増大効果を利用して、前述した光アイソレータの挿入損失を改善し、それと同時にサブミクロンオーダーの高精度の位置合わせを要することなく、挿入損失の小さな導波路型光アイソレータが搭載された光導波路回路基板を提供せんとするものである。
本発明により、安価で量産性が高く、かつ挿入損失が小さい、導波路型光アイソレータが搭載された光導波路回路基板が提供される。
図1に本発明により成る導波路型光アイソレータが搭載された光導波路回路基板の第1の実施形態を示す。図中、1は光導波路回路基板の基板、2は光導波路回路基板に設けられた導波路を構成するクラッド層、3、3‘は同コア部、4は基板1に設けられた凹部、5は導波路型光アイソレータの基板、6は導波路型光アイソレータに設けられた導波路を構成するコア部、7は同クラッド層、8は偏光子、9は検光子、10,10‘は光源(図示せず)から出射された光がコア部3,3‘内を伝播する方向を示すブロック矢印、11は光源(図示せず)から出射された光がコア部6内を伝播する方向を示すブロック矢印、13はコア部3‘に設けられた光伝搬方向10‘に直交する面におけるコア部断面積が他の部分に比して小さい部分、16はコア部6に設けられた光伝搬方向10‘に直交する面におけるコア部断面積が他の部分に比して小さい部分である。
光導波路回路基板に設けられた導波路(コア部3とクラッド層2から構成される)、若しくはコア部の出射端とは、図1において、偏光子8側の同導波路、若しくはコア部3の端部を、また、導波路型光アイソレータに設けられた導波路((コア部6とクラッド層7から構成される)、若しくはコア部の出射端とは、図1において、検光子9側の同導波路、若しくはコア部6の端部を云う。(以下、同様)
光導波路回路基板に設けられた導波路(コア部3‘とクラッド層2から構成される)、若しくはコア部の入射端とは、図1において、検光子9側の同導波路、若しくはコア部3‘の端部を、また、導波路型光アイソレータに設けられた導波路((コア部6とクラッド層7から構成される)、若しくはコア部の入射端とは、図1において、偏光子8側の同導波路、若しくはコア部6の端部を云う。(以下、同様)
なお、光伝搬方向とは、光源から出射された光が伝搬する方向を云うものとする。
同図に示したように、光導波路回路基板に搭載される導波路型光アイソレータに設けられた導波路の入射端におけるコア部16の断面積は、コア部6における他の部位の断面積に比して小さくなっていることから、当該部位における、前述した電界強度の分布は拡がり、光導波路回路基板に設けられた導波路の出射端から出射された光を高効率で、コア部6に導波することができる。
更に同図に示したように、光導波路回路基板に設けられた導波路の入射端におけるコア部13の断面積は、コア部3‘における他の部位の断面積に比して小さくなっていることから、当該部位における、前述した電界強度の分布は拡がり、導波路型光アイソレータに設けられた導波路の出射端から出射された光を高効率で、コア部3‘に導波することができる。
以上の結果、本実施形態においては低挿入損失が達成されることになる。
図2−1〜図2−6に、本発明により成るコア部の先端の形状(図1におけるコア部13、16の形状)の主たる態様を概略的に記す。同図において、(a)はコア部13、16の光伝搬方向からみた概略正面図、(b)は基板1、5の反対側からみたコア部13、16の概略上面図、(c)はコア部13、16の概略側面図である。
図2−1に示した態様は、コア部8の先端が四角錐台形状となっている場合であり、四角錐台の頂点は、コア部の中心線とほぼ一致する態様である。
図2−2に示した態様は、コア部8の先端部に、他に比して断面積が小さな矩形の凸部を設けた態様で、当該矩形の凸部の中心線は、コア部の中心線とほぼ一致する態様である。
図2−3に示した態様は、コア部の一方向、すなわち基板面に対して平行方向の幅のみが、その先端に向けて減少している態様である。
図2−4に示した態様は、コア部の基板法線方向の幅(換言すると膜厚)が、その先端に向けて減少している態様である。
図2−5に示した態様は、図2−1に示した態様において四角錐台の頂点が、コア部の中心位置からずれてその底面(下部クラッド層と接する面)にある場合である。
図2−6に示した態様は、図2−2に示した態様において、矩形の突部の一側面がコア部の底面と略同一の面にある場合である。
図2−1〜図2−6に示した態様の内、図2−1と図2−2に示した態様が電界強度分布の中心とコア部の中心とが一致する点で最良の態様であると云える。しかし、他の態様の場合でにおいても、モードフィルドの拡大効果は期待されるため、本発明により成る低挿入損失の導波路型光アイソレータが搭載された光導波路回路基板には有効である。
なお、本発明により成る導波路型光アイソレータが搭載された光導波路回路基板におけるコア部13、16の形状として、図2−1〜図2−6に示した態様に限定されず、要はその断面積が他の部分に比して小さくなっており、かつモードフィルドが拡大する限りにおいて、他のバリーエーシヨンも採りうるものであることは、改めて言及するまでもない。
以下、本発明について、実施例を用いて、更に詳細に説明する。
(1)導波路型光アイソレータの作成
導波路型光アイソレータの製造方法について、図7を用いて説明する。図7は、光導波路回路基板に搭載する導波路型光アイソレータの製造工程を示す流れ図で、各工程に示した図は工程を経た後の状態を示す概略側断面図である。
図中、1011は3インチφの(111)面 (CaGd)(MgZrGa)12単結晶基板、1012はTb2.3Bi0.7Fe4.6Ga0.412単結晶から成る下部クラッド層、1013は下部クラッド層に設けられた凹部、1013‘は下部クラッド層1013に設けられたテーパー部、1014はTb2.3Bi0.7Fe4.7Ga0.312単結晶膜から成るコア部、1014‘はコア部1014のテーパー部、1015はTb2.3Bi0.7Fe4.6Ga0.412から成る上部クラッド層、1016は偏光ガラス挿入溝、1017は光導波路回路基板との接合面、1018、1018‘は偏光ガラスである。なお、偏光ガラス1018と1018‘の透過軸は互いに45度の角度を成す。
通常の液相エピタキシャル成長法により、(CaGd)(MgZrGa)12単結晶基板1011の表面にTb2.3Bi0.7Fe4.6Ga0.412単結晶から成る下部クラッド層1012を〜7μm厚に形成し、フォトリソエッチング法を用いた凹部1013を形成した。凹部のテーパー部1013‘の基板表面に対するテーパー角度は〜2度で、深さは〜2.5μmであった(図7(a)参照)。
その後、Tb2.3Bi0.7Fe4.7Ga0.312単結晶膜から成るコア層を〜5μm厚に形成し、フォトリソエッチング法によりコア部1014を形成した。形成されたコア部の幅は〜5μmで、テーパー部1014‘の基板表面に対するテーパー角度は〜2度であった。以上の方法で、図2−1に示した形状と同型のほぼ正四角錐の先端形状を有するコア部1014を形成した(図7(b)参照)
コア部のパターニング後、コア部を覆うように下部クラッド層形成と同様の条件で、液相エピタキシャル成長法により上部クラッド層1015として、Tb2.3Bi0.7Fe4.6Ga0.412を〜7μm厚に形成した。(図7(c))
上部クラッド層1015の形成後、幅〜50μm、深さ〜80μmの偏光ガラス挿入溝1016をコア部1014の先端とその中間位置に高精度ダイサーで形成した。溝間隔は〜700μmであった。(図7(d)) その後、不要部を広幅のブレードを装着した高精度ダイサーで除去することにより、光導波路回路基板との接合に際して基準となる接合面1017を形成した。(図7(e)) なお、コア部1014と後述する光導波路回路基板に設けられた導波路のコア部との位置整合を図るため、コア部1014の中心位置から接合面1017との距離が〜23μmとなるように当該接合面1017を形成した。
上述した方法で、3インチφ基板1011の全面に形成された多数の素子を、素子毎にチップ分割した後に、〜45μm厚の偏光ガラス1018及び1018‘を溝に挿入し、光導波路回路基板に搭載する導波路型光アイソレータを完成した。(図7(f))
(2)光導波路回路基板の作成
光導波路回路基板の製造方法について図8を用いて説明する。図8は、前述した方法で作成された導波路型光アイソレータが搭載される光導波路回路基板の製造方法、特に嵌め込み部の製造方法を説明するための製造工程流れ図である。
図中、1101は基板として用いた3インチφのSi基板、1102はSiO膜から成る下部クラッド層、1103は下部クラッド層に設けられた凹部、1103‘は凹部1103に設けられたテーパー部、1104、1105はGeがドープされたSiO膜から成るコア部、1104‘、1105‘はコア部1104,1105に設けられたテーパー部、1106はSiO膜から成る上部クラッド層、1107は嵌め込み部に形成された凹部である。
Si基板1101上にCVD法により、SiO膜から成る下部クラッド層1102を〜18μm厚に形成した後、凹部1103をフォトリソエッチング法で形成した。テーパー部1103‘の基板1101表面にするテーパー角度は〜2度で、深さは〜5μmであった(図8(a))。
その後、コア層としてGeがドープされたSiO膜を〜10μm厚に形成し、フォトリソエッチング法によりコア部1104、1105を形成した。コア部1104,1105の幅は〜10μmで、テーパー部1104‘、1105‘の基板1101に対するテーパー角度は〜2度であった。以上の方法で、図2−1に示した形状と同型のほぼ正四角錐の先端形状を有するコア部1104、1105を形成した(図7(b)参照) なお、Geのドープ量はコア層1103の屈折率が〜1.462になるように調節し、特に含有率等に関しては評価しなかった。ちなみに、SiO膜から成る下部クラッド層1102の屈折率は〜1.455であった。(図8(b))
その後、上部クラッド層1106を、下部クラッド層1102と同様の条件で〜18μm厚に形成し(図8(c))、幅が〜810μm、深さが〜150μmの凹部1107を形成した。(図8(d)) 図8(d)に示したように、凹部1107の一の端面はコア部1105の先端と略一致し、その反対側の端面は、コア部1104の厚さが均一な部分に位置する。
以上、前述した方法で作成した導波路型光アイソレータと光導波路回路基板とを、各々結合部が対向するように貼り合わせて、図1に示したものとほぼ同型の導波路型光アイソレータが搭載された光導波路回路基板を作成した。なお、貼り合わせは、導波路型光アイソレータと光導波路回路基板との相対的な位置を調整した後、光の伝搬に影響を与えない部分に接着剤を塗布することにより固定した。
作成した導波路型光アイソレータが搭載された光導波路回路基板について、波長が1.55μmの光を入射し、挿入損失とアイソレーションを測定した結果、挿入損失は〜1.5dB及びアイソレーションは〜21dBであった。
更に、位置ずれ(図1において紙面垂直方向の位置ずれ)と挿入損失量との関係を評価するため、導波路型光アイソレータを光導波路回路基板に固着せずに、導波路型光アイソレータの光導波路回路基板に対する相対位置を変化させて挿入損失を測定した。その結果を図9に示す。図10は位置ずれ量と挿入損失との関係を示したものである。図中、91は当該実施例の場合についての結果であり、92は後述する比較例についての結果である。なお、いずれの場合も挿入損失が最も小さくなる位置を基準としてずれ量を求めた。
図に示したように、位置ずれ量が5μm以内の領域で挿入損失の増加量が〜0.5dBで、同範囲内で〜2.0dB以下の挿入損失が達成された。
比較例
比較例として、図4に示したものとほぼ同型の、導波路型光アイソレータが搭載された光導波路回路基板を作成した。作成方法は実施例とほぼ同様である。ただし、導波路型光アイソレータ、及び光導波路回路基板の作成条件において、以下の相違点がある。
導波路型光アイソレータの作成においては、下部クラッド層1012とコア層を一度に積層した後に、コア部1014をパターニングした。コア部1014のパターニングの際、テーパー部1014‘は設けず、コア部の厚さは全面にわたって一様(〜5μm)となるようにパターニングした。このときのコア幅は〜5μmであった。また、特に偏光板挿入溝を設けず、コア部1014の長さが〜700μmとなるように、基板1011を含めて切断した。その切断面を研磨した後、偏光ガラスから成る偏光板46,47を貼りつけ、図4に示されている導波路型光アイソレータを作成した。
また、光導波路回路基板の作成も同様で、下部クラッド層1102とコア層を一度に積層した後に、コア部1104,1105をパターニングした。コア部1104、1105のパターニングの際、テーパー部は設けず、コア部の厚さは全面にわたって一様(〜10μm)となるようにパターニングした。このときのコア幅は〜10μmであった。
以上の方法で作成した、導波路型光アイソレータと光導波路回路基板とを、実施例1と同様の方法で貼り付けて、図4に示したものとほぼ同型の、導波路型光アイソレータが搭載された光導波路回路基板を作成した。
実施例1と同様の方法で、挿入損失、及びアイソレーションを測定した結果、挿入損失は〜3.7dB、及びアイソレーションは〜23dBであった。また、実施例1と同様の方法で位置ずれ量が挿入損失に及ぼす影響を評価した結果を図10に示す。図10に示したように、位置ずれ量に対する挿入損失の変化量は大きく、例えば位置ずれ量が〜5μmの場合、挿入損失の増加量は〜2.8dBとなり、実施例1の場合に比べて極めて大きい。従って、挿入損失の最小化を図るためには、高精度の位置合わせが必要であることが判る。
第2の実施例として、図3(a)に示した構成の導波路型光アイソレータが搭載された光導波路回路基板を作成した。同図は、導波路型光アイソレータが搭載された導波路基板の概略側断面図である。当該構成が、実施例1に示された構成(図1に示された構成)と異なる点は、光導波路回路基板に設けられた導波路のコア部1105の先端形状が先鋭化されていない点にある。
本実施例における導波路型光アイソレータは実施例1に記載された方法で、また光導波路回路基板は比較例に記載された方法で、各々作成した。
作成された導波路型光アイソレータと光導波路回路基板とを、実施例1と同様の方法で結合し、実施例1と同様の方法で、アイソレーション及び挿入損失を測定した結果、各々〜21dB及び〜2dBで、挿入損失は比較例に比べて小さいことが確認された。
また、実施例1と同様の方法で、位置ずれ量と挿入損失との関係を評価した結果、位置ずれ量が〜5μmの場合、その挿入損失の増加量は〜1.8dBで比較例に比べて小さいことが確認された。
第3の実施例として、図3(b)に示した構成の導波路型光アイソレータが搭載された光導波路回路基板を作成した。同図は、導波路型光アイソレータが搭載された導波路基板の概略側断面図である。当該構成が、実施例1に示された構成(図1に示された構成)と異なる点は、光導波路回路基板に設けられた導波路のコア部1105の先端形状が先鋭化されていない点、及び偏光ガラス1018‘が光導波路回路基板に設けられた導波路の途中に挿入されている点にある。
本実施例における導波路型光アイソレータは実施例1に記載された方法とほぼ同様の方法で、また光導波路回路基板は比較例に記載された方法とほぼ同様の方法で、各々作成した。なお、偏光板1018‘は、図8に示された光導波路回路基板作成工程の凹部形成工程(図8(d))を経た後、高精度ダイサーを用いて、幅〜50μm、深さ〜80μmの偏光ガラス挿入溝を形成した後、当該挿入溝に嵌め込んだ。
作成された導波路型光アイソレータと光導波路回路基板とを、実施例1と同様の方法で結合し、実施例1と同様の方法で、アイソレーション及び挿入損失を測定した結果、各々〜22dB及び〜1.5dBで、挿入損失は比較例に比べて小さいことが確認された。
また、実施例1と同様の方法で、位置ずれ量と挿入損失との関係を評価した結果、位置ずれ量が〜5μmの場合、その挿入損失の増加量は〜0.7dBで比較例に比べて小さいことが確認された。
第4の実施例として、図3(c)に示した構成の導波路型光アイソレータが搭載された光導波路回路基板を作成した。同図は、導波路型光アイソレータが搭載された導波路基板の概略側断面図である。当該構成が、実施例3に示された構成(図3(b)に示された構成)と異なる点は、偏光ガラス1018が光導波路回路基板に設けられた導波路の途中に挿入されている点にある。
本実施例における導波路型光アイソレータは実施例3に記載された方法とほぼ同様の方法で、また光導波路回路基板も実施例3に記載された方法とほぼ同様の方法で、各々作成した。なお、偏光板1018は、図8に示された光導波路回路基板作成工程の凹部形成工程(図8(d))を経た後、高精度ダイサーを用いて、コア部1104とコア部1105の両方に幅〜50μm、深さ〜80μmの偏光ガラス挿入溝を形成した後、当該挿入溝に嵌め込んだ。
作成された導波路型光アイソレータと光導波路回路基板とを、実施例1と同様の方法で結合し、実施例1と同様の方法で、アイソレーション及び挿入損失を測定した結果、各々〜22dB及び〜1.5dBで、挿入損失は比較例に比べて小さいことが確認された。
また、実施例1と同様の方法で、位置ずれ量と挿入損失との関係を評価した結果、位置ずれ量が〜5μmの場合、その挿入損失の増加量は〜1.8dBで比較例に比べて小さいことが確認された。
第5の実施例として、図3(d)に示した構成の導波路型光アイソレータが搭載された光導波路回路基板を作成した。同図は、導波路型光アイソレータが搭載された導波路基板の概略側断面図である。当該構成が、実施例1に示された構成(図1に示された構成)と異なる点は、偏光ガラス1018、1018‘が共に光導波路回路基板に設けられた導波路の途中に挿入されている点にある。
本実施例における導波路型光アイソレータは実施例4に記載された方法と同様の方法で、また光導波路回路基板も実施例1に記載された方法とほぼ同様の方法で、各々作成した。なお、偏光板1018、1018‘は、図8に示された光導波路回路基板作成工程の凹部形成工程(図8(d))を経た後、高精度ダイサーを用いて、コア部1104とコア部1105の両方に幅〜50μm、深さ〜80μmの偏光ガラス挿入溝を形成した後、当該挿入溝に嵌め込んだ。
作成された導波路型光アイソレータと光導波路回路基板とを、実施例1と同様の方法で結合し、実施例1と同様の方法で、アイソレーション及び挿入損失を測定した結果、各々〜21dB及び〜1.5dBで、挿入損失は比較例に比べて小さいことが確認された。
また、実施例1と同様の方法で、位置ずれ量と挿入損失との関係を評価した結果、位置ずれ量が〜5μmの場合、その挿入損失の増加量は〜1.0dBで比較例に比べて小さいことが確認された。
第6の実施例として、図3(e)に示した構成の導波路型光アイソレータが搭載された光導波路回路基板を作成した。同図は、導波路型光アイソレータが搭載された導波路基板の概略側断面図である。当該構成が、実施例4に示された構成(図3(c)に示された構成)と異なる点は、偏光ガラスが1個で偏光ガラス1018‘のみになっている点にある。
本実施例における導波路型光アイソレータは実施例4に記載された方法と同様の方法で、また光導波路回路基板は実施例4に記載された方法とほぼ同様の方法で、各々作成した。
作成された導波路型光アイソレータと光導波路回路基板とを、実施例1と同様の方法で結合し、実施例1と同様の方法で、挿入損失を測定した結果、〜1dBで、挿入損失は比較例に比べて小さいことが確認された。
また、実施例1と同様の方法で、位置ずれ量と挿入損失との関係を評価した結果、位置ずれ量が〜5μmの場合、その挿入損失の増加量は〜2.5dBで比較例に比べて小さいことが確認された。
第7の実施例として、図3(f)に示した構成の導波路型光アイソレータが搭載された光導波路回路基板を作成した。同図は、導波路型光アイソレータが搭載された導波路基板の概略側断面図である。当該構成が、実施例1に示された構成(図1に示された構成)と異なる点は、偏光ガラスが1個で偏光ガラス1018‘のみになっている点にある。
本実施例における導波路型光アイソレータは実施例1に記載された方法とほぼ同様の方法で、また光導波路回路基板も実施例1に記載された方法と同様の方法で、各々作成した。
作成された導波路型光アイソレータと光導波路回路基板とを、実施例1と同様の方法で結合し、実施例1と同様の方法で、挿入損失を測定した結果、〜−0.5dBで、挿入損失は比較例に比べて小さいことが確認された。
また、実施例1と同様の方法で、位置ずれ量と挿入損失との関係を評価した結果、位置ずれ量が〜5μmの場合、その挿入損失の増加量は〜1.0dBで比較例に比べて小さいことが確認された。

以上、本発明により成る導波路型光アイソレータについて、実施例を用いて詳細に説明した。本発明は、実施例に記載した形状、製法に限定されるものではなく、所望の特性に応じて、形状及び製法を適宜選定することができることは改めて言及するまでもない。
本発明は、光通信や光を用いた放送波伝送、及び光による計測等において用いられる光導波路回路基板であって、特に、光源となるレーザーから出射された光波が、種々の原因で光源に戻ることを防止する機能を有する光アイソレータが搭載された光導波路回路基板として利用できる。
本発明により成る導波路型光アイソレータが搭載された光導波路回路基板の概略側断面図。 本発明により成るコア部の先端の形状概略図。 本発明により成るコア部の先端の形状概略図。 本発明により成るコア部の先端の形状概略図。 本発明により成るコア部の先端の形状概略図。 本発明により成るコア部の先端の形状概略図。 本発明により成るコア部の先端の形状概略図。 本発明により成る導波路型光アイソレータが搭載された導波路基板の概略側断面図。 従来の嵌め込み型の導波路型光アイソレータが搭載された光導波路回路基板の導波路型光アイソレータが搭載された部分の構成を示す概略側断面図。 導波路から出射された光が拡がる様子を模式的に示した図。 図4において、偏光子46近傍における光の伝搬の様子を模式的に示す概略側断面図。 導波路内を伝搬する光の電界強度分布の計算結果。 光導波路回路基板に搭載する導波路型光アイソレータの製造工程を示す流れ図。 光導波路回路基板の製造方法を示す工程流れ図。 位置ずれ量と挿入損失との関係。 従来の光アイソレータの構成概略図。
符号の説明
1 光導波路回路基板の基板
2 光導波路回路基板に設けられた導波路を構成するクラッド層
3、3‘ 同コア部
4 基板1に設けられた凹部
5 導波路型光アイソレータの基板
6 導波路型光アイソレータに設けられた導波路を構成するコア部
7 同クラッド層
8 偏光子
9 検光子
10,10‘ 光源(図示せず)から出射された光がコア部3,3‘内を伝播する方向
11 光源(図示せず)から出射された光がコア部6内を伝播する方向
13 コア部3‘に設けられた光伝搬方向10‘に直交する面におけるコア部断面積が他の部分に比して小さい部分
16 コア部6に設けられた光伝搬方向10‘に直交する面におけるコア部断面積が他の部分に比して小さい部分
40 光導波路回路基板の基板
41 光導波路回路基板に設けられた導波路のクラッド層
42 光導波路回路基板に設けられた導波路のコア部
43 導波路型光アイソレータの基板
44 導波路型光アイソレータに設けられた導波路のコア部
45 導波路型光アイソレータに設けられた導波路のコア部クラッド層
46 偏光子
47 検光子
48,48‘ 光源(図示せず)から出射された光がコア部42内を伝搬する方向
49 光源(図示せず)から出射された光がコア部44内を伝搬する方向
51 基板
52 クラッド層
53 コア部
54 模式的に示した光の拡がり
55 コア部近傍から出射された光が伝搬する方向
56 模式的に示した偏光子46の内部を伝搬する光の拡がり
61 コア部の形状が5μm角の正方形状の場合の計算結果
62 コア部の形状が0.8μm角の正方形状の場合についての計算結果
91 位置ずれ量と挿入損失との関係(実施例1の場合)
92 位置ずれ量と挿入損失との関係(比較例)
1011 3インチφの(111)面 (CaGd)(MgZrGa)12単結晶基板
1012 Tb2.3Bi0.7Fe4.6Ga0.412単結晶から成る下部クラッド層
1013 下部クラッド層に設けられた凹部
1014 Tb2.3Bi0.7Fe4.7Ga0.312単結晶膜から成るコア部
1014‘ コア部1014のテーパー部
1015 Tb2.3Bi0.7Fe4.6Ga0.412から成る上部クラッド層
1016 偏光ガラス挿入溝
1017 光導波路回路基板との接合面
1018、1018‘ 偏光ガラス
1101 3インチφのSi基板
1102 SiO膜から成る下部クラッド層
1103 下部クラッド層に設けられた凹部
1103‘ 凹部1103に設けられたテーパー部
1104、1105 GeがドープされたSiO膜から成るコア部
1104‘、1105‘ コア部1104,1105に設けられたテーパー部
1106 SiO2膜から成る上部クラッド層
1107 嵌め込み部に形成された凹部
101 ファラデー回転子
102 偏光子
103 検光子
104 永久磁石等の磁界印加手段
105 半導体レーザー等から成る光源
106 光源105から出射された光の伝播方向

Claims (7)

  1. 基体上に第1のクラッド層、該第1のクラッド層上に設けられたファラデー効果を有する磁性体ガーネットから成るコア部、該コア部を覆う第2のクラッド層を有する導波路と偏光手段とを具備する導波路型光アイソレータが搭載された光導波路回路基板であって、該導波路型光アイソレータの該コア部の一部の光伝搬方向に直交する面の断面積が該コア部の他の部分に比して小さくなっていることを特徴とする導波路型光アイソレータが搭載された光導波路回路基板。
  2. 該光導波路回路基板に設けられた導波路を構成するコア部の、該導波路型光アイソレータに設けられた導波路内を伝搬する光の出射端側に位置する部分の光伝搬方向と直交する面の断面積が、該光導波路回路基板に設けられた導波路を構成するコア部の他の部分に比して小さくなっていることを特徴とする請求項1記載の導波路型光アイソレータが搭載された光導波路回路基板。
  3. 該偏光手段が単一の偏光板から成り、該偏光板が、該光導波路回路基板に設けられた導波路と該導波路型光アイソレータに設けられた導波路とが対向する箇所の、該導波路型光アイソレータに設けられた導波路内を伝搬する光の出射端側に位置する箇所に、該導波路の光伝搬方向と略直交するように設けられたことを特徴とする請求項1若しくは2記載の導波路型光アイソレータが搭載された光導波路回路基板。
  4. 該偏光手段が第1及び第2の偏光板から成り、該第1の偏光板が、該光導波路回路基板に設けられた導波路と該導波路型光アイソレータに設けられた導波路とが対向する箇所に、該導波路の光伝搬方向と略直交するように設けられたことを特徴とする請求項1若しくは2記載の導波路型光アイソレータが搭載された光導波路回路基板。
  5. 該偏光手段が単一の偏光板から成り、該偏光板が、該導波路型光アイソレータに対して光源と反対側に設けられた該光導波路回路基板の導波路の途中に、該導波路の光伝搬方向と略直交するように挿入されたことを特徴とする請求項1若しくは2記載の導波路型光アイソレータを具備した光導波路回路基板。
  6. 該偏光手段が第1及び第2の偏光板から成り、該第1の偏光板が、該光導波路回路基板に設けられた導波路と該導波路型光アイソレータに設けられた導波路とが対向する箇所の、光源側に位置する箇所に、該導波路の光伝搬方向と略直交するように設けられ、かつ該第2の偏光板が、該導波路型光アイソレータに対して光源と反対側に設けられた該光導波路回路基板の導波路の途中に、該導波路の光伝搬方向と略直交するように挿入されたことを特徴とする請求項1若しくは2記載の導波路型光アイソレータを具備した光導波路回路基板。
  7. 該偏光手段が第1及び第2の偏光板から成り、該第1の偏光板が、該導波路型光アイソレータに対して光源側に設けられた該光導波路回路基板の導波路の途中に、該導波路の光伝搬方向と略直交するように挿入され、かつ第2の偏光板が、該光導波路回路基板に設けられた導波路と該導波路型光アイソレータに設けられた導波路とが対向する箇所の、該導波路型光アイソレータに設けられた導波路内を伝搬する光の出射端側に位置する箇所に、該導波路の光伝搬方向と略直交するように設けられたことを特徴とする請求項1若しくは2記載の導波路型光アイソレータが搭載された光導波路回路基板。
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