JP2008216714A - 導波路型光アイソレータ - Google Patents

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義從 三浦
Atsushi Watabe
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Abstract

【課題】
光導波路との結合が容易な、磁性ガーネット等を用いない導波路型光アイソレータを提供する。
【解決手段】
シングルモード条件が充足されることを前提として、導波路のモードフィルド径を導波路の部位によって異ならしめることにより、順方向に伝搬する光に対しては、最小限の損失で透過しせしめ、また光源に帰還する戻り光に対しては、最大限これを遮断するという機能を付与することにより、所望の挿入損失とアイソレーションを得る。
【選択図】 図1

Description

本発明は、光通信や光を用いた放送波伝送、及び光による計測等において、光源となるレーザーから出射された光波が、種々の原因で光源に戻ることを防止するために用いる導波路型光アイソレータに関する。
図15に、従来からよく知られた、ファラデー回転子を用いた光アイソレータの構成概略を示す。図中、121はファラデー回転子、122は偏光子、123は検光子、124は永久磁石等の磁界印加手段、125は半導体レーザー等から成る光源、126は光源125から出射された光の伝播方向を示す。
従来、ファラデー回転子121の材料としては、例えば特開平7−206593号公報に記載されているように、非磁性ガーネット基板上に液相エピタキシャル法で形成されたビスマス置換希土類鉄ガーネット単結晶が用いられていた。一般的に、ファラデー回転子121に入射する光の偏光方向と、ファラデー回転子を透過した後の光の偏光方向との成す角度、すなわちファラデー回転角は、ファラデー回転子の光伝播方向の厚さに比例する。
例えば、光アイソレータの場合、ファラデー回転角は45度であることが必要であり、そのためのビスマス置換希土類鉄ガーネットの厚さは400〜500μmとなる(以下、45度のファラデー回転角を得るための厚さを「伝播長」と記す)。通常、係る伝播長を得るために、液相エピタキシャル成長法で、ビスマス置換希土類鉄ガーネットを前述した伝播長より厚く形成した後、基板を研磨で除去し、更に、精密研磨により所望のファラデー回転角を得るために必要な膜厚に追い込む、と云う加工方法が採られていた。
斯かる形態の光アイソレータにおいては、〜35dB若しくはそれ以上のアイソレーションが得られるものの、その寸法上の制約から光導波路回路に直接組み込むことは決して容易ではない。光導波路回路に直接組み込むことが可能な光アイソレータとして、例えば、特許第2784496号に、所謂導波路型光アイソレータが開示されている。当該導波路型光アイソレータは、単結晶磁性ガーネットから成る光導波路を別途個別に製造し、モード選択素子と共に光導波路に組み込むことにより光アイソレータ機能を発現させるものである。
従来の導波路型光アイソレータは、非相反素子として磁性ガーネット等から成るファラデー回転子が用いられている場合が殆どであり、かつ磁性ガーネットの場合、スパッタ法等で形成された多結晶ガーネットにおいては光の伝搬損失が大きいことから、液相エピタキシャル成長法で形成された単結晶ガーネットが用いられている。更に、液相エピタキシャル成長法で単結晶ガーネットを形成する場合、用いる基板と成長させる単結晶基板との格子定数の整合を図ることが不可欠であり、この点から非晶質基板、あるいは光導波路回路基板として一般的に用いられているSi単結晶基板上に実用に耐えうる単結晶ガーネットを成長させることはできない。以上の理由から、従来は、別途個別に作成された単結晶ガーネットから成る導波路を、モード選択機能を有する例えば偏光素子等と共に光導波路回路に組み込み光アイソレータ機能を発現させる、と云う手法が採用されていた。
特開平7−206593号公報 特許2784496号
しかし、当該従来手法においては、光アイソレータの挿入損失の増大を回避するために、単結晶ガーネットから成る導波路と光導波路回路基板に設けられた導波路との極めて高精度の光軸調整、及び両導波路における屈折率の整合を図る必要があること、また脆性材料であるガーネットを所望形状に加工することが容易ではないこと等の点で、その量産性が低く、かつ製造コストが高くなる、と云う問題点があった。本発明の目的は、低挿入損失と良好なアイソレーションを有し、本質的に光導波路回路に組み込むことが容易で、安価かつ量産に適した導波路型光アイソレータの構成を提供することにある。
前記解決すべき課題に対して、本発明により提供される第1の手段は、
第1の屈折率を有するコア部と該第1の屈折率に比べて小さい第2の屈折率を有し、かつ該コア部を覆うクラッド層とを具備する導波路型光アイソレータであって、該コア部の光軸に直交する面内における断面積が一様でないことを特徴とする導波路型光アイソレータである。
また、本発明により提供される第2の手段は、
第1の屈折率を有するコア部と該第1の屈折率に比べて小さい第2の屈折率を有し、かつ該コア部を覆うクラッド層とを具備する導波路型光アイソレータであって、該コア部が光軸に沿って所定の間隔で配設され、かつ該コア部の光軸に直交する面内における断面積が一様でないことを特徴とする導波路型光アイソレータである。
また、本発明により提供される第3の手段は、
第1若しくは第2の手段に係る導波路型光アイソレータであって、該コア部の光軸に直交する面内における断面積が、光源から出射された光の伝搬方向に沿って増大し、所定の断面積に到達する部分を含むことを特徴とする導波路型光アイソレータである。
更に、本発明により提供される第4の手段は、
第1乃至第3の手段に係る導波路型光アイソレータであって、該コア部の光軸に直交する面内における断面形状が、いずれの箇所においても単一モード条件を満足する形状であることを特徴とする導波路型光アイソレータである。
本発明により成る導波路型光アイソレータの動作原理を説明する前に、導波路のモードフィルドの大きさとコア部の大きさとの関係について、正方形状コアの場合を例に採り説明する。ここで、正方形状コアとは、光軸に直交する面内のコア部形状が正方形であるコアを云う。
図3及び図4に、コア部の中心からの距離と導波路内を伝搬する光の電界強度との関係、及びモードフィルド直径と正方形状コアのコア幅との関係に係る計算結果の一例を各々示す。図中、31はコア幅が10μm、32は同1μmの場合の電界強度分布である。また計算に用いたコア部屈折率は1.462、クラッド層屈折率は1.455である。図3に示された電界強度は、原点(中心からの距離、X、が零の場合に相当)における電界強度で規格化された値である。
モードフィルド直径とは、図3に示した電界強度分布において、規格化電界強度が1/e(eは自然対数の底)、換言すると約0.368になる距離、X、を2倍した値である。図3に示された電界強度分布から、コア幅が1μmの場合の電界強度分布32は、同10μmの場合の分布31よりも拡がっており、モードフィルド直径が増大していることが判る。更に図4に示されたように、コア幅の減少と共に、モードフィルド直径は減少するが、コア幅が〜2μm以下となるとモードフィルド直径は、コア幅の減少と共に増大する。すなわち、本発明は斯かるモードフィルド直径とコア部との関係に基づいてなされたものである。以下、本発明により成る導波路型光アイソレータの動作原理を説明する。
図1は、本発明により成る導波路型光アイソレータの一部破断斜視図、図2は同概略側断面図ある。図中、10は導波路型光アイソレータ、11は導波路の光軸、12、14は光軸と直交する面内における断面積が一様なコア部、13は光軸と直交する面内における断面積が一様ではないコア部、15、15’は光源から出射された光が伝搬する方向、16は導波路型光アイソレータを構成する構成単位、21はコア部13において光軸に直交する面内の断面積が最小となる箇所であり、30は上記コア部の材料より屈折率小さい材料で構成されているとともに上記コア部全体を覆うように設けられたクラッド部である。
なお、光軸11はコア部の中心を貫通する線と一致する。また、図1及び図2に示した構成では、構成単位16が所定の間隔(後述するように、間隔は必ずしも一定である必要はない。)をもって、光軸上に配設されており、かつコア部12及び14の断面形状及びその大きさは、所謂シングルモード条件を充足する形状及び大きさである。
光アイソレータにおいては、光源から出射された光を最小限の損失で透過し、かつ光源に帰還する戻り光を最大限に遮断することが必要となり、斯かる要求は導波路型光アイソレータにおいても何ら変わるものではない。まず、最初に本発明における導波路型光アイソレータにおいて、最小限の損失で光源から出射された光が(一般的には、ディジタル信号によって強度が変調された光)最小限の損失で透過される機構について説明する。
図5は、図1に示された本発明により成る導波路型光アイソレータにおいて、光源から出射された光が伝搬する様子を模式的に示した概略図である。同図において、51、52は導波路型光アイソレータ10を構成する構成単位の一部、53はコア部12の端部から出射された光が拡散する様子を模式的に示す矢印群、54はコア部12が形成するモードフィルドの大きさを模式的に示す矢印、55はコア部21が形成するモードフィルドの大きさを示す矢印である。なお、同図において、構成単位51と52は互いに隣接する関係にある。また、同図においても導波路を構成するクラッド層は図示されていない。
すなわち、本発明により成る導波路型光アイソレータにおいては、コア部21によって形成されるモードフィルドの大きさ55を、その位置におけるコア部12の端部から出射された光53の拡がり幅と同等、若しくはそれ以上になるようにコア部21のコア幅を設定することにより、光源から出射された光を、最小限の損失でコア部13,14,及び後段に配設された構成単位、あるいは導波路型光アイソレータに接続される光学素子に導波せんとするものであり、かつ斯かるモードフィルドの拡大は、図4に示した結果から、例えばコア部21の幅を〜2μm以下に設定することにより達成される。
次に、本発明における導波路型光アイソレータにおいて、光源に帰還する戻り光を最大限に遮断する機構について説明する。図6は、図1に示された構成において、コア部14、13内を導波された戻り光が、コア部21から出射され、所定の間隔を持って配設されたコア部12に到達する様子を模式的に示した概略図である。同図においても、図5と同様、クラッド層は図示されていない。図中、61は戻り光が伝搬する方向を示す矢印、62はコア部21から出射される戻り光が拡散する様子を模式的に示す矢印群である。
同図に示したように、コア部21から出射される戻り光は、コア部21によって形成されるモードフィルドの大きさに応じた拡がりを持ち、かつその拡がりはコア部12によって形成されるモードフィルドの大きさよりも大きいことから、コア部12に導波される戻り光は、コア部21から出射された光の一部分となる。
すなわち、本発明により成る導波路型光アイソレータにおいては、後述するように図6に示した構成のみでは戻り光の遮断能が充分ではないことから、構成単位を多段に設けた、例えば図1のような構成にすることにより、戻り光を最大限に遮断せんとするものであ
る。
以上説明したように、本発明により成る導波路型光アイソレータによって、単結晶磁性ガーネットを用いることなく、低挿入損失と高いアイソレーションを実現することができる。
本発明により、低挿入損失と良好なアイソレーションを有し、本質的に光導波路回路基板に組み込むことが容易で、安価かつ量産に適した導波路型光アイソレータの構成が提供される。
以下、本発明の実施の形態について説明する。まず、図7〜図8を用いて、本発明によりなる導波路型光アイソレータの挿入損失、及び光源に帰還する戻り光の遮断特性について説明する。ここで、遮断特性とは、図5あるいは図6に示したように、本発明により成る導波路型光アイソレータを構成する一単位、換言するとモードフィルドの大きさが異なる部分が一カ所のみ含まれる部分において、戻り光が当該部分を透過する際に受ける損失を云う。遮断特性と導波路型光アイソレータのアイソレーションとの関係については後述する。
図7は、本発明により成る導波路型光アイソレータの一部の概略側断面図で、図中71、72は導波路型光アイソレータを構成する構成単位の一部、73は構成単位71のコア部、74は構成単位72のコア部、Wはコア部74の端部のコア幅、Dは構成単位71と72との間隔、75は光源(図示せず)から出射された光の伝搬方向(以下、「順方向」と記す)、76は光源に帰還する戻り光の伝搬方向(以下、「逆方向」と記す)である。なお、同図において、クラッド層は図示されていない。また、コア部73及び74の光伝搬方向に直交する面内の形状はいずれも正方形状で、かつシングルモード条件を充足する形状である場合について以下説明する。
図8〜図10に、順方向75と逆方向76に伝搬する光の伝搬損失とコア幅Wとの関係についての計算結果を示す。図8は間隔Dが30μmの場合、図9は間隔が零で接している場合、及び図9は間隔が60μmの場合の結果である。いずれの場合も、コア部屈折率は1.462でクラッド層屈折率は1.455である。なお、本計算においては、コア部74におけるコア幅の変化は非常に緩やかであり当該部分における伝搬損失は零であると仮定した。
図8に示したように、順方向の損失はコア幅Wが1μm近傍以下で非常に小さいのに対して、逆方向の損失はコア幅Wの減少と共に増大する。例えば、コア幅Wが〜0.8μmの場合、順方向損失が〜0dB、逆方向損失、換言すると遮断特性が〜5dBになっていることから、例えば図1に示した導波路型光アイソレータにおいて、7段の当該構成を設けることにより、アイソレーションの値として〜35dBを達成することができる。すなわち、本発明により成る導波路型光アイソレータのアイソレーションは、ほぼ導波路型光アイソレータに含まれる構成単位の数に遮断特性を乗じた値として捉えることができる。
図8〜図10に示した計算結果を考慮すると、コア幅Wが一定の場合、順、逆方向共に、伝搬する光の損失は、間隔Wの増加と共に増大する。斯かる傾向は、コア部71、及び72端から出射される光の回折効果による拡がりが、間隔Dの増加と共に大きくなることに起因する。従って、本発明により成る導波路型光アイソレータにおいて、間隔D及びコア幅Wは、含まれる構成単位の数、及び所望の光アイソレータとしての特性に応じて適宜選択することができる設計事項として捉えることができる。
すなわち、本発明により成る導波路型光アイソレータは、シングルモード条件が充足されることを前提として、導波路のモードフィルド径を導波路の部位によって異ならしめることにより、順方向に伝搬する光に対しては、最小限の損失で透過しせしめ、また光源に帰還する戻り光に対しては、最大限これを遮断するという機能を付与することにより、所望のアイソレーションを得るものであり、斯かる作用効果が発現する範囲内において、コア部及びクラッド層の屈折率の値、あるいは各構成単位の数、全体形状、光伝搬方向に直交する面内のコア部形状と寸法、構成単位間の距離等によって制限を受けるものではない。
また、本発明により成る導波路型光アイソレータは、コア幅W、間隔Dあるいは構成単位の数等を適宜選択することにより、光導波路回路基板を構成する導波路材料として一般的に用いられている石英系材料によって構成することが可能であることから、本質的に光導波路回路に組み込むことが容易である。
以下、実施例を用いて本発明について更に詳細に説明する。
(実施例1)
本実施例における、導波路型光アイソレータの作成方法について、図11〜図14を用いて説明する。本実施例における導波路型光アイソレータの作成工程は、フォトリソ・エッチング工程を主体するから工程から構成され、それ等の工程は、(a)下部クラッド形成工程(図11)、(b)凹部形成工程(図12)、(c)コア層及びコア部形成工程(図13)、及び(d)上部クラッド層形成工程(図14)に大別される。
図11〜図14は各工程を経た後の状態を示す概略側断面図である。図中、1101はSi単結晶から成る基板、1102はSiOから成る下部クラッド層、1103、1103’は導波路のコア部が形成される凹部、1104は本発明により成る導波路型光アイソレータの構成単位が形成される凹部、1105は凹部1104に形成されたテーパー部、1106、1106’はGe添加SiOから成る導波路のコア部、1107はGe添加SiOから成る導波路型光アイソレータの構成単位におけるコア部、1102’はSiOから成る上部クラッド層である。
以下、図11〜図14に示された製造工程に則して、本発明により成る導波路型光アイソレータの製造方法について詳述する。Si単結晶基板(4インチφ)1101上にCVD法により、SiO膜から成る下部クラッド層1102を、〜15μm厚に形成した((a)下部クラッド層形成)。形成された下部クラッド層1102の屈折率は〜1.455であった。
下部クラッド層1102を、RIE(Reactive Ion Etching)法を用いて、図12中に示された形状の凹部を形成した。凹部の深さは、いずれの部位も〜4μmであった。また導波路型光アイソレータの構成単位が形成される凹部1104における深さが均一な部分の長さは、〜10μm、テーパー部1105の基板1101の表面に対する角度は〜2度であった((b)凹部形成)。
凹部形成工程を経た後、GeがドープされたSiO膜から成るコア層1103を〜8μm厚に形成した後、図13に示された形状にパターニングし、コア部1106、1107、1106’を形成した。Geのドープ量はコア層の屈折率が〜1.462になるように調節し、特に含有率等に関しては評価しなかった。
コア層のパターニング方法は、前述した凹部形成方法と同様のRIE法である。コア部1106,及び1106’は導波路を構成するコア部であり、1107で代表的に示され
たコア部は、導波路型光アイソレータの構成単位を構成するコア部である。コア部1107のテーパー部の開き角度は〜4度、同コア幅が均一な部分の長さは〜10μm、また構成単位間の距離は〜10μmであった。また、コア部1107のテーパー部先端における形状は、一辺が〜0.7μmの略正方形状であった。本実施例における構成単位の数は、コア部1106’も含めると9個である((c)コア層形及びコア部形成工程)。
その後、上部クラッド層1102’を、下部クラッド1102と同様の条件で、〜15μm厚に形成し((d)上部クラッド層形成)、図1に示した導波路型光アイソレータを完成した。
前述した方法で作成した導波路型光アイソレータを具備する導波路の端部(コア部1106から構成される導波路の端部に相当)から、波長1.55μmの光を入射し、順方向損失を測定した結果、その値は〜1dBであった。また、反対側の導波路端部(コア部1106’から構成される導波路の端部に相当)から、同一の波長の光を入射し、逆方向損失を測定した結果、その値は〜36dBであった。
以上の結果から、本実施例における導波路型光アイソレータの挿入損失は〜1dB、またアイソレーションは〜35dBであった。
(実施例2)
実施例1と同様の方法で、構成単位間隔が零で、かつその数が実施例1と同様の9個の導波路型光アイソレータを作成した。ただし、本実施例においてはコア部1107のテーパー部先端における形状は、一辺が〜1.0μmの略正方形状であった。本導波路型光アイソレータの挿入損失、及びアイソレーションを測定評価した結果、挿入損失は〜0.7dB、及びアイソレーションは〜27dBであった。
(実施例3)
実施例1と同様の方法で、構成単位間隔が30μmで、かつその数が実施例1と同様の9個の導波路型光アイソレータを作成した。ただし、本実施例においてはコア部1107のテーパー部先端における形状は、一辺が〜0.8μmの略正方形状であった。本導波路型光アイソレータの挿入損失、及びアイソレーションを測定評価した結果、挿入損失は〜1.5dB、及びアイソレーションは〜40dBであった。
以上、本発明により成る導波路型光アイソレータについて、実施例を用いて詳細に説明した。本発明は、実施例に記載した形状、製法に限定されるものではなく、所望の特性に応じて、形状及び製法を適宜選定することができることは前述したとおりである。
本発明は、光通信や光を用いた放送波伝送、及び光による計測等において用いられる導波路型光アイソレータとして利用することができる。
本発明により成る導波路型光アイソレータの一部破断斜視図である。 本発明により成る導波路型光アイソレータの一例を示す構成概略側断面図である。 コア部の中心からの距離と導波路内を伝搬する光の電界強度との関係を示す図である。 モードフィルド直径と正方形状コアのコア幅との関係を示す図である。 本発明により成る導波路型光アイソレータにおいて、光源から出射された光が伝搬する様子を模式的に示した概略図である。 本発明により成る導波路型光アイソレータにおいて、光源に帰還する戻り光が、伝搬する様子を模式的に示した概略図である。 本発明により成る導波路型光アイソレータの一部の概略側断面図である。 光の伝搬損失とコア幅Wとの関係(間隔:30μm)を示す図である。 光の伝搬損失とコア幅Wとの関係(間隔:零)を示す図である 光の伝搬損失とコア幅Wとの関係(間隔:60μm)を示す図である。 本発明により成る導波路型光アイソレータの製造工程における下部クラッド形成工程を示す図である。 本発明により成る導波路型光アイソレータの製造工程における凹部形成工程を示す図である。 本発明により成る導波路型光アイソレータの製造工程におけるコア層及びコア部形成工程を示す図である。 本発明により成る導波路型光アイソレータの製造工程における上部クラッド層形成工程を示す図である。 従来からよく知られた、ファラデー回転子を用いた光アイソレータの構成概略図である。
符号の説明
10 導波路型光アイソレータ
11 導波路の光軸
13 光軸と直交する面内における断面積が一様ではないコア部
12、14 光軸と直交する面内における断面積が一様なコア部
15、15’ 光源から出射された光が伝搬する方向
16 導波路型光アイソレータを構成する構成単位
21 コア部13において光軸に直交する面内の断面積が最小となる箇所
30 クラッド部
31 コア幅が10μmの場合の電界強度分布
32 コア幅が1μmの場合の電界強度分布
51、52 導波路型光アイソレータ10を構成する構成単位の一部
53 コア部12の端部から出射された光が拡散する様子を模式的に示す矢印群
54 コア部12が形成するモードフィルドの大きさを模式的に示す矢印
55 コア部21が形成するモードフィルドの大きさを示す矢印
61 戻り光が伝搬する方向を示す矢印
62 コア部21から出射される戻り光が拡散する様子を模式的に示す矢印群
71、72 導波路型光アイソレータを構成する構成単位の一部
73 構成単位71のコア部
74 構成単位72のコア部
75 光源(図示せず)から出射された光の伝搬方向
76 光源に帰還する戻り光の伝搬方向
121 ファラデー回転子
122 偏光子
123 検光子
124 永久磁石等の磁界印加手段
125 半導体レーザー等から成る光源
126 光源125から出射された光の伝播方向
1101 Si単結晶から成る基板
1102 SiOから成る下部クラッド層
1103、1103’ 導波路のコア部が形成される凹部
1104 本発明により成る導波路型光アイソレータの構成単位が形成される凹部
1105 凹部1104に形成されたテーパー部
1106、1106’ Ge添加SiOから成る導波路のコア部
1107 Ge添加SiOから成る導波路型光アイソレータの構成単位におけるコア部1102’ SiOから成る上部クラッド層
W コア部74の端部のコア幅
D 構成単位71と72との間隔

Claims (4)

  1. 第1の屈折率を有するコア部と該第1の屈折率に比べて小さい第2の屈折率を有し、かつ該コア部を覆うクラッド層とを具備する導波路型光アイソレータであって、該コア部の光軸に直交する面内における断面積が一様でないことを特徴とする導波路型光アイソレータ。
  2. 第1の屈折率を有するコア部と該第1の屈折率に比べて小さい第2の屈折率を有し、かつ該コア部を覆うクラッド層とを具備する導波路型光アイソレータであって、該コア部が光軸に沿って所定の間隔で配設され、かつ該コア部の光軸に直交する面内における断面積が一様でないことを特徴とする導波路型光アイソレータ。
  3. 該コア部の光軸に直交する面内における断面積が、光源から出射された光の伝搬方向に沿って増大し、所定の断面積に到達する部分を含むことを特徴とする請求項1若しくは請求項2のいずれかに記載の導波路型光アイソレータ。
  4. 該コア部の光軸に直交する面内における断面形状が、いずれの箇所においても単一モード条件を満足する形状であることを特徴とする請求項1乃至3のいずれかに記載の導波路型光アイソレータ。
JP2007055109A 2007-03-06 2007-03-06 導波路型光アイソレータ Pending JP2008216714A (ja)

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