JP5654099B2 - ガスの流量を決定する方法、ガス・フロー・コントローラの動作を決定する方法、ガスフローコントロールシステムの一部の容量を決定する方法、及びガス搬送システム - Google Patents
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- 238000000034 method Methods 0.000 title claims description 74
- 230000036961 partial effect Effects 0.000 title description 2
- 238000005259 measurement Methods 0.000 claims description 75
- 238000012360 testing method Methods 0.000 claims description 33
- 238000011144 upstream manufacturing Methods 0.000 claims description 31
- 230000008859 change Effects 0.000 claims description 18
- 230000007423 decrease Effects 0.000 claims description 7
- 230000003247 decreasing effect Effects 0.000 claims description 2
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 230
- 238000012545 processing Methods 0.000 description 49
- 230000008569 process Effects 0.000 description 26
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 17
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 14
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 13
- 230000008901 benefit Effects 0.000 description 9
- 239000012530 fluid Substances 0.000 description 9
- 238000009530 blood pressure measurement Methods 0.000 description 6
- 238000004364 calculation method Methods 0.000 description 6
- 230000006641 stabilisation Effects 0.000 description 6
- 238000011105 stabilization Methods 0.000 description 6
- 238000004891 communication Methods 0.000 description 5
- 230000006835 compression Effects 0.000 description 5
- 238000007906 compression Methods 0.000 description 5
- 230000004044 response Effects 0.000 description 5
- 230000001052 transient effect Effects 0.000 description 5
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 238000010998 test method Methods 0.000 description 4
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 238000007796 conventional method Methods 0.000 description 3
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 3
- 238000001020 plasma etching Methods 0.000 description 3
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 3
- 235000012431 wafers Nutrition 0.000 description 3
- QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-N Ammonia Chemical compound N QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000012937 correction Methods 0.000 description 2
- 230000008878 coupling Effects 0.000 description 2
- 238000010168 coupling process Methods 0.000 description 2
- 238000005859 coupling reaction Methods 0.000 description 2
- 238000013461 design Methods 0.000 description 2
- 230000000977 initiatory effect Effects 0.000 description 2
- 238000000691 measurement method Methods 0.000 description 2
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 2
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 2
- 238000012544 monitoring process Methods 0.000 description 2
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 2
- 238000005192 partition Methods 0.000 description 2
- 230000000007 visual effect Effects 0.000 description 2
- UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N Hydrogen Chemical compound [H][H] UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BLRPTPMANUNPDV-UHFFFAOYSA-N Silane Chemical compound [SiH4] BLRPTPMANUNPDV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910003074 TiCl4 Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000002411 adverse Effects 0.000 description 1
- 229910021529 ammonia Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000013459 approach Methods 0.000 description 1
- 230000009286 beneficial effect Effects 0.000 description 1
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 1
- 239000003990 capacitor Substances 0.000 description 1
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 1
- 230000003749 cleanliness Effects 0.000 description 1
- 238000010276 construction Methods 0.000 description 1
- 230000002354 daily effect Effects 0.000 description 1
- 238000006073 displacement reaction Methods 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 1
- 230000003203 everyday effect Effects 0.000 description 1
- 230000005284 excitation Effects 0.000 description 1
- 238000011010 flushing procedure Methods 0.000 description 1
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 description 1
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000006872 improvement Effects 0.000 description 1
- 238000010348 incorporation Methods 0.000 description 1
- 238000003780 insertion Methods 0.000 description 1
- 230000037431 insertion Effects 0.000 description 1
- 230000000670 limiting effect Effects 0.000 description 1
- 239000000463 material Substances 0.000 description 1
- 238000009428 plumbing Methods 0.000 description 1
- 230000009467 reduction Effects 0.000 description 1
- 230000002829 reductive effect Effects 0.000 description 1
- 238000005070 sampling Methods 0.000 description 1
- 229910000077 silane Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000000087 stabilizing effect Effects 0.000 description 1
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 1
- XJDNKRIXUMDJCW-UHFFFAOYSA-J titanium tetrachloride Chemical compound Cl[Ti](Cl)(Cl)Cl XJDNKRIXUMDJCW-UHFFFAOYSA-J 0.000 description 1
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
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- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01F—MEASURING VOLUME, VOLUME FLOW, MASS FLOW OR LIQUID LEVEL; METERING BY VOLUME
- G01F25/00—Testing or calibration of apparatus for measuring volume, volume flow or liquid level or for metering by volume
- G01F25/10—Testing or calibration of apparatus for measuring volume, volume flow or liquid level or for metering by volume of flowmeters
- G01F25/17—Testing or calibration of apparatus for measuring volume, volume flow or liquid level or for metering by volume of flowmeters using calibrated reservoirs
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- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01F—MEASURING VOLUME, VOLUME FLOW, MASS FLOW OR LIQUID LEVEL; METERING BY VOLUME
- G01F25/00—Testing or calibration of apparatus for measuring volume, volume flow or liquid level or for metering by volume
- G01F25/10—Testing or calibration of apparatus for measuring volume, volume flow or liquid level or for metering by volume of flowmeters
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- Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
- Y10T—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
- Y10T137/00—Fluid handling
- Y10T137/0318—Processes
- Y10T137/0324—With control of flow by a condition or characteristic of a fluid
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- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
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- Y10T—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
- Y10T137/00—Fluid handling
- Y10T137/0318—Processes
- Y10T137/0324—With control of flow by a condition or characteristic of a fluid
- Y10T137/0379—By fluid pressure
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- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
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- Y10T137/00—Fluid handling
- Y10T137/7722—Line condition change responsive valves
- Y10T137/7758—Pilot or servo controlled
- Y10T137/7759—Responsive to change in rate of fluid flow
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- Y10T137/00—Fluid handling
- Y10T137/7722—Line condition change responsive valves
- Y10T137/7758—Pilot or servo controlled
- Y10T137/7761—Electrically actuated valve
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- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
- Y10T—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
- Y10T137/00—Fluid handling
- Y10T137/7722—Line condition change responsive valves
- Y10T137/7758—Pilot or servo controlled
- Y10T137/7762—Fluid pressure type
Description
プラズマエッチングは特に重要な半導体プロセスであり、いくつかの異なるガスの流れが慎重に制御されるか否かで善し悪しが決まるプロセスである。プラズマエッチングにおいては、さまざまなガスが真空チャンバに供給される。電力(一般的には無線周波数励起(Radio Frequency Excitation)の形式)が、反応ガス種を生成するプラズマを発生させるために用いられる。反応ガス種は、シリコンウェーハに対しパターンエッチングを施し、ICの異なる構成要素を作り出す。
しかし、一般的には、ガスの流れを制御するのに使用される電気機械式マス・フロー・コントローラ(MFC)は、時間とともに変動しやすい。半導体の製造工程は特にこれらの変動に特に敏感である。数パーセント程度の変動により、ICの性能は大きく悪化することがある。したがって、安定したガス流の維持のためには、マス・フロー・コントローラ(MFC)の頻繁なテストおよび校正が必要になることがある。
圧力、容量及び導入されるガスの量(それは、ガスの分子数を特定する)との間の既知の相関関係に基づいて、真空チャンバにガス流が流れ込んだときの圧力の上昇(上昇率)は、モニタされ得る。そして、チャンバの中の圧力変化に関する情報は、マス・フロー・コントローラを通るガスの実際の流量を決定するために用いられ得る。
この方法を更に改良したものとしては、容量の内部に熱伝導アセンブリを設け、ガスが容量内に流れ込み又は容量から流れ出したときにおいて温度を一定に保つものがある。1つの方法においては、別の容量の代わりに、マス・フロー・コントローラ内に既にある容量を既知の容量として使用する。
(1)容量110を流出するガス流が、MFCまたは流量制限器を通過するガス流と等しくならない。
(2)流量制限器を通過するガス流は、流量制限器の上流の圧力に比例するが、所望の値とならない。
さらなる情報としては、Hinkleの特許(特許文献4)、Laragione他の特許(特許文献5)、Shajii他の特許(特許文献6及び特許文献7)、Kennedyの特許(特許文献8)、及びOllivierの特許(特許文献9)を参照されたい。以上の説明から、ガス・フロー・コントローラによるガス流をテストするための改良された技術が要求されることが理解されよう。
開通/遮断動作は、手動でも、若干の制御スキームを使用した自動でもよい。
計量バルブは、流体の流れを遮断または完全にもしくは部分的に開通するために用いる配管要素である。これは、家庭用水配管において使われているものと類似の軽量バルブであり、ユーザは流れを所望のレベルにすることができる。開通/遮断及び部分的な動作は、手動でも、若干の制御スキームを使用した自動でもよい。圧力調整器は、その出力側が特定の圧力なるまで流体の流れを自動的に遮断する配管要素である。圧力調整器は、その出力側の圧力に反応し、配管の圧力が指定されたレベルに達すると閉じる。圧力が下がると(例えば誰かがコックを開いた場合、すなわち、調整器の下流の計量バルブを開いた場合)、調整器は圧力がその所望のレベルに戻るまで流れを開通して流れを許容する。所望レベルは、設定点と一般的に呼ばれる。一般的な圧力調整器は、出力側(つまり、下流側)の圧力を所望の設定点に持っていく基準として、外界の空気、つまり気圧を利用する。圧力調整器は、入力側と出力側との圧力差でなく、出力側と気圧との圧力差に基づいて調整する。
本発明の実施例は、ガス・フロー・コントローラの上流で圧力低下率を用いて、ガス・フロー・コントローラを通る流量を正確に測定する。しかしながら、従来技術とは対照的に、これらの実施例は、いかなる特別なもしくは高機能な圧力調整器またはその他の特別な構成要素を必要とすることなしに、今日生産使用されている多くのガス・フロー・コントローラによるガス流の測定を許容する。一実施例によれば、弁を閉じるタイミングは、測定の最中もしくは後に起こる圧力変化のいずれもが、試験対象のガス・フロー・コントローラを通過するガスの安定した流れを乱すことのないように選択される。
ガス・フロー・コントローラは、加工チャンバに向かうガスの所望の流量を確立するものであり、半導体産業又はその他の分野で一般的に採用される幾つかのタイプのフロー・コントローラのいずれかであってもよい。最も一般的には、ガス・フロー・コントローラは、マス・フロー・コントローラ(MFC)である。あるいは、ガス・フロー・コントローラは、容積測定フロー・コントローラであってもよい。
温度センサ214は、構成要素の近傍の温度を測定するために配置されている。
いくつかの実施形態では、センサ214は、一つ以上の構成要素と直接熱のやりとりを行う特殊なセンサであってもよい。しかしながら、一般的な半導体製造設備は温度制御されているので、場所によって、もしくは時間によって温度が大幅に変化することは考えにくい。したがって、他の実施例では、ガス供給システムの近傍に配置される温度計によって、関心対象の温度について十分な情報が提供される。
1.ステップ252において、ガス・フロー・コントローラを所望の流量にセットし、ガス流を確立する。
2.ステップ254において、弁206を閉じる。
3.ステップ256において、圧力変換器212によって圧力を一定の周期で、通常、毎秒もしくは何分の1秒毎に、所定の期間にわたり、通常数秒ないし数分にわたり測定する。
4.圧力がいくらかの量(通常、出発値の5―30%)だけ低下したあと、ステップ258で弁206を開き、テスト手順は完了する。
5.ステップ260において、図2に示す構成要素の近傍の温度を観察する。
n=PV/RT
n:ガス量(モルで測定)
P:圧力変換器で測定される圧力
V:ガスの体積
R:理想気体定数==1.987cal/(mol・K)
T:絶対温度(K)
n=PV/ZRT
Z:圧縮係数
流量=Δn/Δt
t:時間
流量=(ΔP/Δt)V/ZRT
多くのガス・フロー・コントローラ、特に半導体産業において使用されるマス・フロー・コントローラは、上流の圧力における遅い変化には適応して一定の流量を維持することができる。しかしながら、圧力があまりに急に変化する場合、所望の流量からの狂いを呈する。図2の実施例において、弁206が閉じられている間の圧力の変化率は、一般的なマス・フロー・コントローラを通過する流れが中断しない程度に十分に低い。他方、弁206を開くと、圧力の急速な上昇によりマス・フロー・コントローラを通過する流量に著しい乱れが必ず生じる。これらの乱れの例が図2Cに示されており、約57秒弁を開くと、流量が50sccmから70sccmに上昇し、その後、所望の50sccmに戻って安定する前に40sccmへと低下する。従って、図2の実施例の実施態様のうちの一つにおいては、弁206を閉止、開放するタイミングは、実際の処理ステップ中において開くことがないように選択される。
前記実施例は、半導体製造等の標準的な産業プロセスにおいてガス流量を測定するという所望の目的を達成するには完全に効果的ではあるが、高機能な圧力調整器を追加しない限り、容量の上流に制御された弁を追加することが依然として必要であり、弁を開くタイミングまたは弁を開いたときの圧力上昇率のいずれかをある程度制御する必要がある。
ガス純度が重要とされる半導体および関連産業では特に、ガス供給システムのどのような配管の変更を行うことも大いに躊躇される。このことは、既に設置済みのシステムについては確実に真実であるが、構築中の新しいシステムについても真実である。設計構築中の新しいシステムのほぼすべては、図5と同一である。しかし、これは、構成要素が変更されることはないということではない。事実、ガス供給システムは、弁、圧力調整器、マス・フロー・コントローラ、等の交換が可能なように設計されている。単に、構成要素の追加ができないだけである。したがって、図1、2、または4に示す実施例の実施は、半導体及び関連産業においては困難である。
上流の圧力調整器が固定容量を規定するとは考えられない。例えば、圧力調整器は本発明の目的のために弁として働くのであるから、調整器の重要な特性は、ガス・フロー・コントローラを通過するガス流の測定の最中に、圧力調整器を介していずれの方向にもガスが流れないということである。圧力調整器の挙動によると、調整器の下流のガスの圧力がその設定値より低くない限り、調整器の下流側へのガスの流れは調整器によって許容されない。加えて、調整器の下流のガスの圧力が確立されるべく設定された圧力より高い場合であっても、ガスを下流側から上流側へと流すことを可能にする調整器の能力はない。これらの条件下では、調整器によってどちらの方向にもガスは流れないので、本発明に係るガス・フロー・コントローラを通過するガス流の測定に必要とされる条件を調整器は満たす。
1.ステップ652において、ガス・フロー・コントローラを所望の流量に設定し、ガス流を確立する。
2.ステップ654において、弁606を開く。
3.ステップ656において、調整器602の下流で所定の圧力を確立した後に弁を閉じる。この圧力は圧力変換器612によって測定してもよく、それにしたがって弁606をシステム・コントローラによって制御してもよい。あるいは、弁606によって供給されてくるガスの圧力は、所定の圧力に維持され得る。これにより、弁606を十分な時間開いてから閉じたときに、容量610における圧力上昇を最適な値に設定することができる。弁606が閉じられたとき、もしくはその直後において、調整器602の設定点はその通常値(つまり、ステップ2の前のその値)に戻される。これは、弁606を適切に選択することにより(たとえば、三方弁(3ウェイバルブ)を使用することにより)、または、大気圧に対して開き、調整器の隔壁より上の圧力が大気圧へと戻ることを可能にする弁606’を追加することにより行うことができる。
弁606を閉じ、且つ設定点が通常値に戻った時点で、調整器602の下流の圧力はその設定点より高いため、調整器602は閉じられ、調整器602の下流には流体は流れない。しかし、チャンバでの処理は続行し、調整器602の下流の配管からの流体を消費するので、容量610の中の圧力は低下し始める。
4.ステップ658において、チャンバでの処理が進行する間、圧力変換器612によって圧力を一定の周期で、通常、毎秒もしくは何分の1秒毎に、所定の期間にわたり、通常数秒ないし数分にわたり測定する。
5.圧力がいくらか(通常、出発値の5―30%)低下した後、圧力が圧力調整器の設定点に低下する前に、テスト手順は終了する。
6.ステップ660において、図6に示す構成要素の近傍の温度を観察する。
弁606を開閉する前にガス・フロー・コントローラを所望の流量に設定することは重要ではない。事実、弁606を開いた後に、しかし閉じる前に、ガス・フロー・コントローラを所望の流量にセットしてよい。あるいは、弁を開いて閉じることの両方を行った後に、ガス・フロー・コントローラを所望の流量に設定してもよい。
上記のように圧力低下のタイミングを十分に制御して決定するさらに別の方法は、圧力変換器412に対して閉ループ制御される計量弁406を用いる図4に示す実施例を使用することである。流量測定を実行するには、計量弁406を閉じる。しかし、測定の終了後に圧力を開始点に戻すべく計量弁を用いるよりも、弁の下流の圧力が一定値に、つまり流量測定の実行直後の圧力値に維持されるように弁の開放を制御してもよい。計量弁をこのように用いる場合、計量弁は図6の圧力調整器602の代わりとなり得、また、既存のガス供給システムに簡単に組み込むことができる。
たとえば、ある実施例では、2セットの圧力低下測定値を取得して、変化した流量の相対的値を取得してよい。一実施例では、テスト対象のガス・フロー・コントローラから第1の測定値を取得し、既知性能のガス・フロー・コントローラから第2の測定値を取得してよい。実際の流量を測定しなくとも、2つの圧力測定値から、テスト対象の装置による流量の狂いが明らかになりうる。
この概念をその論理的結論に帰結させた例として、図8は、テスト対象のガス・フロー・コントローラを制御弁に置き換えた実施例を示す。ガス・フロー・コントローラの設定点を訂正して所望の流量を達成するべく本発明を用いるのでなく、本例では、出力制御弁を直接的に制御して所望の流量を達成するべく本発明を用いる。
1.ステップ852において、温度を測定する。これは、参照テーブルと、実際の流量の計算とにおいて使用される。
2.ステップ854において、流れが始まる時間より前から開始して、圧力を一定間隔で、通常何分の1秒毎に測定する。ステップ852で測定した温度と、本ステップで測定した圧力とを用いて、参照テーブルを使用し、まさに所望とする流量を得るために必要とされる制御弁808の駆動信号を決定する。
3.ステップ856において、流れが開始する時間において、ステップ854で決定した駆動信号を制御弁808に対して発動する。
4.ステップ857において、圧力を一定間隔で測定し続ける。この圧力は、制御弁808のあるべき位置を決定するために参照テーブルにおいて使用される。制御弁808の位置は、圧力が変化すると変化する。
5.ステップ858において、圧力がいくらか(通常、開始値の5−30%)低下した後、しかし圧力が圧調整器802の設定点に低下する前に、測定した圧力低下から([数4]によって)流量を計算する。
6.ステップ860において、圧力、温度、および制御弁の駆動信号の関数としての計算された流量を、参照テーブルの中の値と比較する。
7.ステップ862において、差があまりに大きい場合、通常1%を超える場合、警報が発され、担当の人々に対して、その差についての可能性のある原因を調査するよう通知が発される。
8.ステップ864において、差が十分に小さい場合は、参照テーブルを新しい値で更新するのみである。
9.ステップ866において、圧力が低下し続け、最終的に圧力調整器802が確立した値、つまり通常の調整器設定点に達したとき、コントローラは、新しい参照テーブルに基づいて制御弁への駆動信号を制御する。
10.ステップ868において、プロセス終了後、または、その他の適切な時機に、制御弁808を閉じる。
1.ステップ952において、弁912を開く(閉じていた場合)。弁906は既に開いていると仮定する。
2.ステップ954において、調節器902を、その標準値(または他のいずれかの適切な値)に設定する。
3.ステップ956において、ガス・フロー・コントローラをゼロ流量に設定する。
4.ステップ957において、弁912を閉じる。
5.ステップ958において、弁906を閉じる。
6.ステップ960において、これらの条件下での圧力P1を、圧力変換器913で観察する。
7.ステップ962において、ガス・フロー・コントローラを、圧力が妥当な時間でほぼゼロに低下するような流量に設定し、固定容量V1を排気する。
8.ステップ964において、圧力がゼロに達したあと、ガス・フロー・コントローラをゼロ流量に設定する。
9.ステップ966において、弁912を開き、固定容量V1をチャンバ911の既知容量と結合する。
10.ステップ968において、これらの条件下での圧力P2を、圧力変換器913で観察する
n=P1V2/Z1RT
Z:圧力P1での圧縮係数
n=P2V/Z2RT
V:V1+V2
Z2=圧力P2での圧縮係数
P1V2/Z1RT=P2V/Z2RT
流量=(ΔP/Δt)V/ZRT
(ΔP/Δt)’V/ZRT=(ΔP/Δt)”V1/ZRT
V1=V2/((ΔP/Δt)”/(ΔP/Δt)’−1)
Claims (7)
- 設定点を有する圧力調整器の下流に位置するガス・フロー・コントローラを通るガスの流量を決定する方法であって、
前記ガス・フロー・コントローラを通るガスの流れを一定量に定め、
前記ガス・フロー・コントローラの上流にあるが、前記圧力調整器の下流にある既知容量における圧力を、前記圧力調整器の前記設定点より上のレベルに上昇させ、
第1回目に、前記容量における第1の圧力を測定し、
前記第1回目より後の第2回目に、前記容量における第2の圧力を測定し、
前記第1の圧力および前記第2の圧力から、圧力の低下率を決定し、
前記圧力の低下率および前記既知容量に基づいて前記一定量を決定する
ことを特徴とする方法。 - 圧力の前記上昇は、大気圧より上のガス圧を、前記圧力調整器の本体へと所定の期間導入し て前記設定点を上昇させることによりもたらされる
ことを特徴とする請求項1の方法。 - 圧力の前記上昇は、前記圧力調整器を迂回することにより、前記圧力調整器の上流から前記圧力調整器の下流へと、所定の期間ガスを流すことによりもたらされる
ことを特徴とする請求項1の方法。 - ガス・フロー・コントローラの性能を決定する方法であって、
ガス・フロー・コントローラを通るガスの流れを一定量に定め、
前記ガス・フロー・コントローラの上流にあるが、設定点を有する圧力調整器の下流にある既知容量における圧力を、前記圧力調整器の前記設定点より上のレベルに上昇させ、
前記既知容量の第1の圧力低下を測定し、
期間の経過後、前記ガス・フロー・コントローラの上流にあるが、前記圧力調整器の下流にある前記既知容量における圧力を、再び前記圧力調整器の前記設定点より上のレベルに上昇させ、
前記固定容量における第2の圧力低下を測定し、
前記第1の圧力低下と前記第2の圧力低下との差に基づいて、前記ガス・フロー・コントローラの流量の変動を検出する
ことを特徴とする方法。 - ガス・フロー・コントローラの性能を決定する方法であって、
校正されたガス・フロー・コントローラを通すガスの流れを一定量に定め、
前記ガス・フロー・コントローラの上流にあるが、設定点を有する圧力調整器の下流にある既知容量における圧力を、前記圧力調整器の前記設定点より上のレベルに上昇させ、
前記既知容量の第1の圧力低下を測定し、
前記校正されたガス・フロー・コントローラを、テスト対象のガス・フロー・コントローラに置き換え、
前記ガス・フロー・コントローラの上流にあるが、前記圧力調整器の下流にある前記既知容量における圧力を、前記圧力調整器の前記設定点より上のレベルに上昇させ、
前記固定容量における第2の圧力低下を測定し、
前記第1の圧力低下と前記第2の圧力低下との差に基づいて、流量の狂いを検出する
ことを特徴とする方法。 - ガスの流量を制御する方法であって、
ガス・フロー・コントローラの上流にあるが、設定点を有する圧力調整器の下流にある既知容量における圧力を、前記圧力調整器の前記設定点より上のレベルに上昇させ、
前記ガス・フロー・コントローラを通るガスの流れを一定量に定め、
第1回目に、前記容量における第1の圧力を測定し、
前記第1回目の後の第2回目に、前記容量における第2の圧力を測定し、
前記第1の圧力及び第2の圧力から、圧力の低下率を決定し、
前記圧力の低下率及び前記既知容量に基づいてガスの流量を決定し、
所望の流量と測定された流量との差に基づいて、前記ガス流制御バルブの開放量を増減させ、
前記容量における圧力の測定を続行し、実際の流量を決定し、所望の流れが達成されるまで前記ガス流制御バルブを調整する
ことを特徴とする方法。 - ガスの流量を制御する方法であって、
ガス流制御バルブの複数の開放位置における流量についての参照テーブルを、弁の上流の圧力、温度、及びバルブ開放量に基づいて確立し、
前記ガス流制御バルブの上流にあるが、設定点を有する圧力調整器の下流にある既知容量における圧力を、前記圧力調整器の前記設定点より上のレベルに上昇させ、
前記ガス流制御バルブを、前記参照テーブルに示される選択位置まで開いて所望の流量を提供し、
圧力が低下していくときに、前記ガス流制御バルブが、前記参照テーブルに示される適切な選択位置まで開かれた状態を維持し続け、
第1回目に、前記容量における第1の圧力を測定し、
前記第1回目の後の第2回目に、前記容量における第2の圧力を測定し、
前記第1の圧力および前記第2の圧力から、圧力の低下率を決定し、
前記圧力の低下率および前記既知容量にもとづいて、ガスの流量を決定し、
所望の流量と測定された流量との差に基づいて、前記テーブルを更新し更に前記容量における圧力の測定を続行し、前記容量における前記ガス流制御バルブを調整して所望の流量を得るか、又は前記差が所定の値より上である場合警報もしくは通知を送るか、いずれか一つを実行する
ことを特徴とする方法。
Applications Claiming Priority (6)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
US2202608P | 2008-01-18 | 2008-01-18 | |
US61/022,026 | 2008-01-18 | ||
US8019608P | 2008-07-11 | 2008-07-11 | |
US61/080,196 | 2008-07-11 | ||
US9014708P | 2008-08-19 | 2008-08-19 | |
US61/090,147 | 2008-08-19 |
Related Parent Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2010543262A Division JP2011510404A (ja) | 2008-01-18 | 2009-01-15 | ガスの流量を決定する方法、ガス・フロー・コントローラの動作を決定する方法、ガスフローコントロールシステムの一部の容量を決定する方法、及びガス搬送システム |
Related Child Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2014234087A Division JP5971636B2 (ja) | 2008-01-18 | 2014-11-19 | ガスの流量を決定する方法、ガス・フロー・コントローラの動作を決定する方法、ガスフローコントロールシステムの一部の容量を決定する方法、及びガス搬送システム |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2013239201A JP2013239201A (ja) | 2013-11-28 |
JP5654099B2 true JP5654099B2 (ja) | 2015-01-14 |
Family
ID=40875370
Family Applications (3)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2010543262A Pending JP2011510404A (ja) | 2008-01-18 | 2009-01-15 | ガスの流量を決定する方法、ガス・フロー・コントローラの動作を決定する方法、ガスフローコントロールシステムの一部の容量を決定する方法、及びガス搬送システム |
JP2013156603A Active JP5654099B2 (ja) | 2008-01-18 | 2013-07-29 | ガスの流量を決定する方法、ガス・フロー・コントローラの動作を決定する方法、ガスフローコントロールシステムの一部の容量を決定する方法、及びガス搬送システム |
JP2014234087A Active JP5971636B2 (ja) | 2008-01-18 | 2014-11-19 | ガスの流量を決定する方法、ガス・フロー・コントローラの動作を決定する方法、ガスフローコントロールシステムの一部の容量を決定する方法、及びガス搬送システム |
Family Applications Before (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2010543262A Pending JP2011510404A (ja) | 2008-01-18 | 2009-01-15 | ガスの流量を決定する方法、ガス・フロー・コントローラの動作を決定する方法、ガスフローコントロールシステムの一部の容量を決定する方法、及びガス搬送システム |
Family Applications After (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2014234087A Active JP5971636B2 (ja) | 2008-01-18 | 2014-11-19 | ガスの流量を決定する方法、ガス・フロー・コントローラの動作を決定する方法、ガスフローコントロールシステムの一部の容量を決定する方法、及びガス搬送システム |
Country Status (7)
Country | Link |
---|---|
US (4) | US7823436B2 (ja) |
EP (1) | EP2247819B1 (ja) |
JP (3) | JP2011510404A (ja) |
KR (1) | KR101840047B1 (ja) |
CN (1) | CN101978132B (ja) |
TW (1) | TWI399627B (ja) |
WO (1) | WO2009091935A1 (ja) |
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- 2009-01-15 KR KR1020107018060A patent/KR101840047B1/ko active IP Right Grant
- 2009-01-15 EP EP09702610.8A patent/EP2247819B1/en active Active
- 2009-01-15 CN CN200980109390.3A patent/CN101978132B/zh active Active
- 2009-01-15 US US12/354,723 patent/US7823436B2/en active Active
- 2009-01-15 JP JP2010543262A patent/JP2011510404A/ja active Pending
- 2009-01-15 WO PCT/US2009/031170 patent/WO2009091935A1/en active Application Filing
- 2009-01-16 US US12/355,654 patent/US8240324B2/en active Active
- 2009-01-16 TW TW98101722A patent/TWI399627B/zh active
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2010
- 2010-09-27 US US12/891,714 patent/US8667830B2/en active Active
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- 2012-08-13 US US13/584,736 patent/US8857456B2/en active Active
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- 2013-07-29 JP JP2013156603A patent/JP5654099B2/ja active Active
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- 2014-11-19 JP JP2014234087A patent/JP5971636B2/ja active Active
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---|---|---|---|---|
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Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2011510404A (ja) | 2011-03-31 |
JP5971636B2 (ja) | 2016-08-17 |
JP2015064893A (ja) | 2015-04-09 |
CN101978132A (zh) | 2011-02-16 |
US8667830B2 (en) | 2014-03-11 |
EP2247819A1 (en) | 2010-11-10 |
US7823436B2 (en) | 2010-11-02 |
JP2013239201A (ja) | 2013-11-28 |
TWI399627B (zh) | 2013-06-21 |
KR20100114079A (ko) | 2010-10-22 |
KR101840047B1 (ko) | 2018-03-19 |
EP2247819B1 (en) | 2022-11-02 |
US20120304781A1 (en) | 2012-12-06 |
CN101978132B (zh) | 2015-04-29 |
US8240324B2 (en) | 2012-08-14 |
US20090183548A1 (en) | 2009-07-23 |
EP2247819A4 (en) | 2018-02-07 |
US20110011183A1 (en) | 2011-01-20 |
WO2009091935A1 (en) | 2009-07-23 |
US20090183549A1 (en) | 2009-07-23 |
US8857456B2 (en) | 2014-10-14 |
TW200938978A (en) | 2009-09-16 |
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Legal Events
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A131 | Notification of reasons for refusal |
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|
A521 | Request for written amendment filed |
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TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
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A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
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|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
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|
R250 | Receipt of annual fees |
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