JP5639738B2 - 圧電/電歪素子の製造方法 - Google Patents
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Description
<1−1 圧電/電歪素子10の構造>
{全体構造}
図1は、本発明の第1実施形態に係る圧電/電歪素子の製造方法により製造される圧電/電歪素子10の模式図である。図1は、圧電/電歪素子10の断面図となっている。図1に示す圧電/電歪素子10は、インクジェットプリンタのヘッドに使用されるインク吐出用のアクチュエータの主要部となっている。
基体102は、ベース板106及び振動板108を列記した順序で下から上に積層して一体化した構造を有している。
振動積層体110は、電極膜112、圧電/電歪体膜114、電極膜116、圧電/電歪体膜118及び電極膜120を列記した順序で下から上に積層した構造を有している。
図3は、図1のA部を拡大した模式図である。図3に示すように、圧電/電歪体膜118には多数のマイクロクラックその他の欠陥(以下では、単に「欠陥」という)152が存在しており、そのうちの一部の欠陥(以下では、「表面露出欠陥」という)154は、振動積層体110の表面に露出するとともに、内部電極膜134に至っている。圧電/電歪素子10は、表面露出欠陥154を選択的に覆う被膜128を備える。もちろん、表面露出欠陥154の位置、大きさ、数等は個々の圧電/電歪素子10によって異なるので、被膜128の位置、大きさ、数等も個々の圧電/電歪素子10によって異なる。このような被膜128を振動積層体110の表面に形成すれば、表面露出欠陥154に水分が浸入して振動積層体110の表面と内部電極膜134とを結ぶ導電パスを形成することを防ぐことができるので、圧電/電歪素子10の耐湿性を向上することができる。また、振動積層体10の表面に選択的に被膜128を形成することができるので、被膜128による圧電/電歪素子10の圧電/電歪特性の劣化を抑制することができる。
このような構造により、給電部142と給電部144との間に駆動信号を給電し、圧電/電歪体膜114,118に電界を印加すると、圧電/電歪体膜114,118を積層方向と垂直な方向に伸縮させ、一体化された振動板108及び振動積層体110を屈曲させることができる。この屈曲により、圧電/電歪素子10は、キャビティ136の内部のインクを押圧する。
図4は、第1実施形態に係る圧電/電歪素子の製造方法を説明するフローチャートである。また、図5は、第1実施形態に係る圧電/電歪素子の製造方法に使用する電着塗装装置160の模式図である。
図4に示すように、圧電素子の製造にあたっては、まず、基体102の上面に振動積層体110を固着した積層構造体100を作製する(ステップS101)。
続いて、給電部142と給電部144との間に直流電圧を印加して圧電/電歪体膜114,118を分極するとともに(ステップS102)、給電部142と給電部144との間に駆動信号を供給して振動積層体110を駆動する(ステップS103)。電着塗料液164に積層構造体100を浸漬する前に分極及び駆動を行うことは必須ではないが、分極及び駆動を事前に行っておけば、後に発生する恐れのある欠陥を事前に成長させて被膜128で覆うことができるので、圧電/電歪素子10の耐湿性をより向上することができる。欠陥を事前に成長させる処理としては、分極及び駆動の両方を行うことが望ましいが、分極及び駆動のいずれか片方のみを行うことも妨げられない。また、分極及び駆動を行うことに代えて又は分極及び駆動を行うことに加えて、積層構造体100を低温と高温とに交互に曝すヒートショック試験その他の処理を行ってもよい。この欠陥を成長させる処理は省略することもできる。
続いて、振動積層体110の表面に対する被膜128の密着性を向上する表面処理を振動積層体110に対して行う(ステップS104)。電着塗料液164に積層構造体100を浸漬する前にこの表面処理を行えば、振動積層体110の表面に対する被膜128の密着性を向上することができるので、圧電/電歪素子10の耐湿性をより向上することができる。振動積層体110の表面に対する被膜の密着性を向上する表面処理には、プラズマクリーニングにより振動積層体110の表面に付着している有機化合物を除去する処理、振動積層体110の表面に自己組織化膜を形成する処理等がある。なお、欠陥を成長させる処理を行う前に表面処理を行ってもよい。この表面処理は省略することもできる。
続いて、図5に示すように、振動積層体110とは別体の対向電極162と外部電極膜132とを電気的に短絡した状態で、被膜材料成分を含有する電着塗料液164に積層構造体100の全体及び対向電極162を浸漬し、振動積層体110及び対向電極162の表面に電着塗料液164を接触させる(ステップS105)。
続いて、対向電極162から分離された積層構造体100に後処理を行い、被膜材料の膜を最終的な被膜128にする(ステップS109)。後処理には、被膜材料の膜をより強固にする処理、被膜材料の膜をより緻密化する処理、被膜材料の膜を振動積層体110の表面により強力に定着させる処理、必要のない部分に付着した被膜材料を除去する処理等がある。例えば、被膜材料が樹脂ならば、加熱や光の照射によって重合反応を進行させることが望ましいし、被膜材料が酸化物のナノ粒子ならば、焼成により焼結させることが望ましい。また、外部電極膜132を対向電極162と電気的に短絡しなかったために対向電極132の表面に多量の被膜材料が付着したならば、機械研磨等によりそれを除去することが望ましい。
第2実施形態は、第1実施形態に係る被膜材料の電着方法(ステップS105〜S108)に代えて採用することができる被膜材料の電着方法に関する。
第3実施形態は、第1実施形態に係る被膜材料の電着方法(ステップS105〜S108)に代えて採用することができる被膜材料の電着方法に関する。
<4−1 圧電/電歪素子40の構造>
図12は、本発明の第1実施形態〜第3実施形態に係る圧電/電歪素子の製造方法と同様の製造方法により製造される圧電/電歪素子40の模式図である。図12は、圧電/電歪素子40の断面図となっている。図12に示す圧電/電歪素子40は、インクジェットプリンタのヘッドに使用されるインク吐出用のアクチュエータの主要部となっている。
このような構造により、給電部442と給電部444との間に駆動信号を給電し、圧電/電歪体膜412,416,420,424,428に電界を印加すると、圧電/電歪体膜412,416,420,424,428を積層方向に伸縮させることができる。この伸縮により、圧電/電歪素子40はインクを押圧する。
このような圧電/電歪素子40も、第1実施形態〜第3実施形態に係る圧電/電歪素子の製造方法と同様の製造方法により製造することができる。図14〜図16は、第1実施形態〜第3実施形態に係る圧電/電歪素子の製造方法と同様の製造方法により第4実施形態に係る圧電/電歪素子40を製造する場合に使用する電着塗装装置4602,4604,4606の模式図である。図14〜図16に示すように、第1実施形態〜第3実施形態に係る圧電/電歪素子の製造方法と同様の製造方法により圧電/電歪素子40を製造する場合、給電部442,444をそれぞれ圧電/電歪素子10の給電部142,144の代わりに用いる。
上述の説明では、アクチュエータを例として圧電/電歪素子の製造方法を説明したが、同様に製造方法により、センサ、共振子等のアクチュエータ以外の圧電/電歪素子も製造することができ、表面露出欠陥を被膜で選択的に覆った圧電/電歪素子を得ることができる。ただし、アクチュエータの場合、圧電/電歪体膜の変形が大きく表面露出欠陥が生じやすいので、本発明の圧電/電歪素子の製造方法を適用した場合の耐湿性の向上の効果が特に大きい。
実施例1では、第1実施形態に係る圧電/電歪素子の製造方法により圧電/電歪素子10を製造した。ただし、実施例1では、ステップS104の表面処理は省略した。
実施例2では、第1実施形態に係る圧電/電歪素子の製造方法と同様の製造方法により圧電/電歪素子40を製造した。ただし、実施例2では、ステップS104の表面処理は省略し、電極膜430,432のいずれも対向電極162には接続せず、まとめて電源の正極に接続した。
実施例3では、被膜材料成分にカルボン酸系の分散剤を用いて負に帯電させたアルミナナノ粉末を用い、後処理として、電気炉中で温度900℃で2時間焼成することによりアルミナナノ粒子を焼結させたことを除いては、実施例1と同様にして圧電/電歪素子10を製造した。これにより、膜厚が0.2μmの被膜128が形成された。
実施例3では、被膜材料成分にシリカ微粒子及びメチル基含有シロキサンオリゴマーを用い、後処理として、温度120℃で15分間熱処理して被膜材料の膜をゲル化させたこと及びステップS104の表面処理を省略しなかったことを除いては、実施例1と同様にして圧電/電歪素子10を製造した。これにより、ゲル膜の中にシリカ微粒子が分散した被膜128が形成された。
ステップS103,S105〜S109の処理を省略した点を除いては実施例1と同様にして圧電/電歪素子を製造した。
ステップS103,S105〜S109の処理を省略した点を除いては実施例2と同様にして圧電/電歪素子を製造した。
図17に示すように、常温条件においては、本発明の範囲内の実施例1〜4及び本発明の範囲外の比較例1〜2のいずれでも屈曲変位の変位量及び絶縁抵抗の合格率は良好であるが、高温条件においては、本発明の範囲内の実施例1〜4では屈曲変位の変位量及び絶縁抵抗の合格率は良好であるが、高温条件においては不良である。
110,410 振動積層体
112,116,120,410,414,418,422,426 電極膜
128,429 被膜
154,454 表面露出欠陥
Claims (4)
- 圧電/電歪体膜及び電極膜を積層した振動積層体を備える圧電/電歪素子の製造方法であって、
(a) 被膜材料成分を含有する電着塗料液を振動積層体に接触させる工程と、
(b) 前記振動積層体の表面に露出し前記振動積層体を構成する第1の電極膜に至る欠陥の上に被膜となる被膜材料を選択的に電着させる工程と、
を備え、
前記工程(a)は、
前記第1の電極膜に短絡されていない前記振動積層体を構成する第2の電極膜と前記振動積層体とは別体の対向電極とを短絡した状態で前記振動積層体及び前記対向電極に前記電着塗料液を接触させ、
前記工程(b)は、
前記第1の電極膜と前記対向電極との間に電圧を印加し、前記第1の電極膜と前記対向電極との間に生じる電界を前記欠陥から前記電着塗料液の中に漏れ出させることにより、前記欠陥の上に被膜材料を電着させる、
圧電/電歪素子の製造方法。 - 圧電/電歪体膜及び電極膜を積層した振動積層体を備える圧電/電歪素子の製造方法であって、
(a) 被膜材料成分を含有する電着塗料液を振動積層体に接触させる工程と、
(b) 前記振動積層体の表面に露出し前記振動積層体を構成する第1の電極膜に至る欠陥の上に被膜となる被膜材料を選択的に電着させる工程と、
を備え、
前記工程(b)は、
前記第1の電極膜と前記第1の電極膜に短絡されていない前記振動積層体を構成する第2の電極膜との間に電圧を印加し、前記第1の電極膜と前記第2の電極膜との間に生じる電界を前記欠陥から前記電着塗料液の中に漏れ出させることにより、前記欠陥の上に被膜材料を電着させる、
圧電/電歪素子の製造方法。 - 請求項1又は請求項2に記載の圧電/電歪素子の製造方法において、
(c) 前記工程(a)の前に前記欠陥を成長させる工程、
をさらに備える圧電/電歪素子の製造方法。 - 請求項1ないし請求項3のいずれかに記載の圧電/電歪素子の製造方法において、
(d) 前記工程(a)の前に振動積層体の表面に対する前記被膜の密着性を向上する表面処理を前記振動積層体に対して行う工程、
をさらに備える、
圧電/電歪素子の製造方法。
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JP5639738B2 (ja) * | 2008-02-14 | 2014-12-10 | 日本碍子株式会社 | 圧電/電歪素子の製造方法 |
JP5480388B2 (ja) * | 2009-10-12 | 2014-04-23 | ヒューレット−パッカード デベロップメント カンパニー エル.ピー. | 圧電部材の欠陥の修復 |
US8878548B2 (en) * | 2010-06-11 | 2014-11-04 | Baker Hughes Incorporated | Method for treating and sealing piezoelectric tuning forks |
JP2012043844A (ja) * | 2010-08-13 | 2012-03-01 | Ngk Insulators Ltd | 圧電/電歪アクチュエータ |
WO2012075011A2 (en) * | 2010-11-30 | 2012-06-07 | Michael Haag | Method for deposition of nanoparticles onto substrates and high energy density device fabrication |
KR101964508B1 (ko) | 2014-05-15 | 2019-04-01 | 엠에스엠에이치, 엘엘씨 | 리튬 끼워진 나노결정 애노드 |
EP3143659B1 (en) | 2014-05-15 | 2021-06-23 | Msmh, Llc | Method for producing sulfur charged carbon nanotubes and cathodes for lithium ion batteries |
WO2015176045A1 (en) | 2014-05-15 | 2015-11-19 | Quickhatch Corporation | Methods and systems for the synthesis of nanoparticles including strained nanoparticles |
CN109155615B (zh) * | 2016-06-01 | 2022-08-26 | 株式会社村田制作所 | 谐振子以及谐振装置 |
Family Cites Families (31)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US4296421A (en) * | 1978-10-26 | 1981-10-20 | Canon Kabushiki Kaisha | Ink jet recording device using thermal propulsion and mechanical pressure changes |
US4588998A (en) * | 1983-07-27 | 1986-05-13 | Ricoh Company, Ltd. | Ink jet head having curved ink |
US4516140A (en) * | 1983-12-27 | 1985-05-07 | At&T Teletype Corporation | Print head actuator for an ink jet printer |
US4897673A (en) * | 1989-02-28 | 1990-01-30 | Juki Corporation | Method for connecting nozzle tube of ink jet nozzle with piezoelectric element |
US5459501A (en) * | 1993-02-01 | 1995-10-17 | At&T Global Information Solutions Company | Solid-state ink-jet print head |
JPH06252469A (ja) * | 1993-02-25 | 1994-09-09 | Nec Corp | 積層圧電アクチュエータの製造方法 |
JP3570447B2 (ja) * | 1994-12-21 | 2004-09-29 | セイコーエプソン株式会社 | 積層型インクジェット式記録ヘッド、及びその製造方法、及び記録装置 |
JP3552013B2 (ja) * | 1996-12-09 | 2004-08-11 | セイコーエプソン株式会社 | インクジェット式記録ヘッド |
DE69710240T2 (de) * | 1996-04-10 | 2002-06-27 | Seiko Epson Corp | Tintenstrahlaufzeichnungskopf |
US7052594B2 (en) * | 2002-01-31 | 2006-05-30 | Sri International | Devices and methods for controlling fluid flow using elastic sheet deflection |
EP0890440B1 (en) * | 1997-07-10 | 2004-04-07 | Seiko Epson Corporation | Ink jet printing head |
KR100764323B1 (ko) * | 1998-02-18 | 2007-10-05 | 소니 가부시끼 가이샤 | 압전 작동기와 그 제조 방법 및 잉크젯 프린트헤드 |
JP2000351212A (ja) * | 1999-06-11 | 2000-12-19 | Hitachi Koki Co Ltd | 圧電体素子及びこれを用いた圧電アクチュエータ並びにこれを備えたインクジェットプリントヘッド |
JP4802353B2 (ja) * | 1999-12-08 | 2011-10-26 | Tdk株式会社 | 積層型圧電セラミック電子部品及びその製造方法 |
US6411012B2 (en) * | 1999-12-08 | 2002-06-25 | Tdk Corporation | Multilayer piezoelectric element and method of producing the same |
JP2002185148A (ja) * | 2000-12-11 | 2002-06-28 | Hitachi Ltd | 多層配線基板の層間短絡防止方法および多層配線基板および多層配線基板の製造方法およびこれらを用いた電子機器 |
US6701593B2 (en) * | 2001-01-08 | 2004-03-09 | Nanodynamics, Inc. | Process for producing inkjet printhead |
WO2003061024A1 (fr) * | 2002-01-15 | 2003-07-24 | Matsushita Electric Industrial Co.,Ltd. | Dispositif de commande piezo-electrique, tete a jet d'encre et imprimante a jet d'encre |
GB0305461D0 (en) * | 2003-03-10 | 2003-04-16 | Transense Technologies Plc | Improvements in the construction of saw devices |
JP2004064067A (ja) * | 2002-07-26 | 2004-02-26 | Ngk Insulators Ltd | 圧電/電歪膜型素子 |
JP4549622B2 (ja) * | 2002-12-04 | 2010-09-22 | リコープリンティングシステムズ株式会社 | インクジェット式記録ヘッド及びそれを用いたインクジェット式記録装置 |
KR100481996B1 (ko) * | 2003-06-17 | 2005-04-14 | 주식회사 피에조닉스 | 압전방식 잉크젯 프린터헤드와 제조방법 |
JP2005072113A (ja) * | 2003-08-21 | 2005-03-17 | Ngk Insulators Ltd | 圧電/電歪デバイス |
US7344228B2 (en) * | 2004-08-02 | 2008-03-18 | Fujifilm Dimatix, Inc. | Actuator with reduced drive capacitance |
US7497962B2 (en) * | 2004-08-06 | 2009-03-03 | Canon Kabushiki Kaisha | Method of manufacturing liquid discharge head and method of manufacturing substrate for liquid discharge head |
DE602006018214D1 (de) * | 2005-03-22 | 2010-12-30 | Brother Ind Ltd | Piezoelektrischer Aktuator, Vorrichtung um Flüssigkeit zu transportieren, Verfahren um piezoelektrischen Aktuator herzustellen |
US7737612B1 (en) * | 2005-05-25 | 2010-06-15 | Maxim Integrated Products, Inc. | BAW resonator bi-layer top electrode with zero etch undercut |
JP2007189199A (ja) * | 2005-12-12 | 2007-07-26 | Tdk Corp | キャパシタおよびその製造方法 |
JP4844717B2 (ja) * | 2005-12-27 | 2011-12-28 | セイコーエプソン株式会社 | 液体噴射ヘッドの製造方法 |
JP2007017989A (ja) | 2006-07-19 | 2007-01-25 | Sony Corp | 画素数変換装置及び画素数変換方法 |
JP5639738B2 (ja) * | 2008-02-14 | 2014-12-10 | 日本碍子株式会社 | 圧電/電歪素子の製造方法 |
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