JP5635892B2 - 研削装置 - Google Patents
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Description
(1)研削装置の基本的な構成および動作
はじめに、図1に示す一実施形態の研削装置10の基本的な構成および動作を説明する。この研削装置10は、半導体ウェーハ等の円板状のワーク1を、保持手段17に吸着して保持し、粗研削用の第一加工手段30Aと仕上げ研削用の第二加工手段30Bとによってワーク1の被加工面に対し粗研削と仕上げ研削を順次行い、次いで、研磨用の第三加工手段30Cによってワーク1の被加工面に研磨を施すものである。
以上が研削装置10の基本的な構成および動作であり、次に、本発明に係る上記ターンテーブル16および厚さ検出手段40に係る構成について説明する。
下側仕切り板60のシャッター64は、次のようにして作動させられる。
ターンテーブル16が停止して図4(a)に示すように保持手段17に保持されたワーク1が上記各加工位置に位置付けられ、各加工手段30A,30B,30Cによりワーク1がそれぞれ加工される際には、図5(a)および図6(a)に示すようにシャッター64が上昇して仕切り位置に位置付けられる。この加工時には、下側仕切り板60は筐体50の上側仕切り板52と合致し、合致した上下の板部53,63によって各加工位置間が仕切られ、また、筐体50の切欠き部51の開口が閉塞される。シャッター64は仕切り位置にあって許容空間63aは空いておらず、加工位置間の閉塞状態は保持される。
1a…ワークの表面
1b…ワークの裏面
10…研削装置
16…ターンテーブル
17…保持手段
30A…第一加工手段
30B…第二加工手段
30C…第三加工手段
40…厚さ検出手段
41…出射部
60…下側仕切り板
64…シャッター
W…水(液体)
Claims (1)
- ワークを保持する保持手段と、
該保持手段に保持されたワークを研削加工する加工手段と、
該ワークの表面側からワークに向けて検出光を照射する出射部と、該出射部とワークの表面との間を液体で満たす液体供給部とを有し、ワークの表面および裏面から反射した該検出光による干渉光を受光することによってワークの厚さを検出する厚さ検出手段と、
前記保持手段に対してワークを搬入搬出する搬入搬出位置と、該保持手段に保持されたワークに加工を施す加工位置と、に該保持手段を移動させる円形のターンテーブルと、から構成された研削装置において、
前記ターンテーブルは、複数の前記保持手段の間をそれぞれを仕切る仕切り板を含み、
前記厚さ検出手段は、前記加工手段に隣接して配設され、前記加工位置に位置付けられた前記保持手段に保持されたワークの上面に位置付けられ、
前記仕切り板は、前記厚さ検出手段の通過を許容する開位置と仕切り位置とに移動可能なシャッターを有することを特徴とする研削装置。
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