JP5630015B2 - 空間光変調器、露光装置およびそれらの製造方法 - Google Patents
空間光変調器、露光装置およびそれらの製造方法 Download PDFInfo
- Publication number
- JP5630015B2 JP5630015B2 JP2009298815A JP2009298815A JP5630015B2 JP 5630015 B2 JP5630015 B2 JP 5630015B2 JP 2009298815 A JP2009298815 A JP 2009298815A JP 2009298815 A JP2009298815 A JP 2009298815A JP 5630015 B2 JP5630015 B2 JP 5630015B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- layer
- reflective film
- light modulator
- spatial light
- substrate
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Active
Links
Images
Landscapes
- Mechanical Light Control Or Optical Switches (AREA)
- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
- Micromachines (AREA)
- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
Description
[先行技術文献]
[特許文献]
[特許文献1] 特開平09−101467号公報
Claims (10)
- 電極を有する基板と、
前記基板に対して一端を固定されて弾性変形する捩じり軸部と、
前記捩じり軸部の他端に支持され、静電力により前記電極に引き付けられて前記基板に対して揺動する可動部と、
光を反射する反射面、並びに、前記反射面に交差する交差面、前記交差面に更に交差する底面および前記底面から突出したポストを含み前記反射面に対する曲げ応力に対抗する箱状の構造材を有する反射鏡と
を備え、
前記反射面と前記構造材とによって包囲された空間が設けられ、
前記反射鏡は、前記ポストで前記可動部に支持され、前記可動部と共に前記基板に対して搖動する空間光変調器。 - 前記構造材は、前記空間と前記空間の外部との間を連通させる貫通孔を有する請求項1に記載の空間光変調器。
- 前記反射鏡は、前記構造材に支持された平坦な前記反射面を有する請求項1または2に記載の空間光変調器。
- 請求項1から3までのいずれか一項に記載の空間光変調器を備える露光装置。
- 前記空間光変調器は、光源から入射した照明光を反射して、露光マスクに照射される照明光に照度分布を形成する請求項4に記載の露光装置。
- 電極を有する基板と、
前記基板に対して一端を固定されて弾性変形する捩じり軸部と、
前記捩じり軸部の他端に支持され、静電力により前記電極に引き付けられて前記基板に対して揺動する可動部と、
光を反射する反射面、並びに、前記反射面に交差する交差面、前記交差面に更に交差する底面および前記底面から突出したポストを含み前記反射面に対する曲げ応力に対抗する箱状の構造材を有する反射鏡と
を備え、
前記反射面と前記構造材とによって包囲された空間が設けられ、
前記反射鏡は、前記ポストを介して前記可動部に支持され、前記可動部と共に前記基板に対して搖動する空間光変調器を製造する製造方法であって、
下地の上にパターニングされた第1の犠牲材料の層を形成する段階と、
前記第1の犠牲材料の層の上に前記構造材となる非反射膜材料の層を堆積する段階と、
前記第1の犠牲材料の層を除去する段階と
を備え、前記非反射膜材料の層が前記下地から離間した領域を形成する工程を含む製造方法。 - 前記非反射膜材料の層の箱状の前記構造材の内側に当たる領域上に第2の犠牲材料の層を形成する段階と、
前記第2の犠牲材料の層の上に前記反射面となる反射膜材料の層を堆積する段階と、
前記第2の犠牲材料の層を除去する段階と
を更に備え、前記反射膜材料の層が前記非反射膜材料の層から離間した領域を形成する工程を含む、請求項6に記載の製造方法。 - 前記非反射膜材料の層に対して、前記構造材の底面に当たる領域をエッチングして貫通孔を形成する段階を更に備え、
前記第2の犠牲材料の層を形成する段階は、前記非反射膜材料の層の箱状の前記構造材の内側に当たる領域に前記第2の犠牲材料を満たすことで前記第2の犠牲材料の層を平坦に堆積する工程を含み、
前記第2の犠牲材料の層を除去する段階は、箱状の前記構造材の内側に残った前記第2の犠牲材料の層を前記貫通孔から排出することで前記空間を形成する工程を含む請求項7に記載の製造方法。 - 前記反射膜材料の層を堆積する前に下地を化学機械研磨する段階を更に備える請求項6から8のいずれか一項に記載の製造方法。
- 前記反射膜材料の表面を化学機械研磨する段階を更に備える請求項6から9のいずれか一項に記載の製造方法。
Priority Applications (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2009298815A JP5630015B2 (ja) | 2009-12-28 | 2009-12-28 | 空間光変調器、露光装置およびそれらの製造方法 |
PCT/JP2010/007236 WO2011080883A1 (ja) | 2009-12-28 | 2010-12-13 | 電気機械変換器、空間光変調器、露光装置およびそれらの製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2009298815A JP5630015B2 (ja) | 2009-12-28 | 2009-12-28 | 空間光変調器、露光装置およびそれらの製造方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2011138046A JP2011138046A (ja) | 2011-07-14 |
JP5630015B2 true JP5630015B2 (ja) | 2014-11-26 |
Family
ID=44349522
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2009298815A Active JP5630015B2 (ja) | 2009-12-28 | 2009-12-28 | 空間光変調器、露光装置およびそれらの製造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP5630015B2 (ja) |
Families Citing this family (9)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2013027405A1 (ja) | 2011-08-25 | 2013-02-28 | 株式会社ニコン | 空間光変調素子および露光装置 |
KR101623632B1 (ko) | 2011-08-25 | 2016-05-23 | 가부시키가이샤 니콘 | 공간광 변조 소자의 제조 방법, 공간광 변조 소자, 공간광 변조기 및 노광 장치 |
JP2013205798A (ja) * | 2012-03-29 | 2013-10-07 | Furukawa Electric Co Ltd:The | Mems素子およびその製造方法ならびに光スイッチおよび波長選択光スイッチ |
JP6111532B2 (ja) | 2012-05-11 | 2017-04-12 | セイコーエプソン株式会社 | 光学デバイス、光スキャナーおよび画像表示装置 |
JP5942576B2 (ja) | 2012-05-11 | 2016-06-29 | セイコーエプソン株式会社 | 光学デバイス、光スキャナーおよび画像表示装置 |
JP6094105B2 (ja) * | 2012-09-13 | 2017-03-15 | セイコーエプソン株式会社 | アクチュエーター、光スキャナー、画像表示装置、ヘッドマウントディスプレイ |
JP5922606B2 (ja) * | 2013-03-14 | 2016-05-24 | 日本電信電話株式会社 | 光スイッチモジュール |
JP2014182226A (ja) * | 2013-03-18 | 2014-09-29 | Seiko Epson Corp | 光スキャナー、アクチュエーター、画像表示装置およびヘッドマウントディスプレイ |
JP2022140128A (ja) * | 2021-03-12 | 2022-09-26 | 京セラ株式会社 | ミラーアクチュエータ |
Family Cites Families (10)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP4649727B2 (ja) * | 2000-11-10 | 2011-03-16 | 株式会社ニコン | 薄膜部材の製造方法 |
JP4560958B2 (ja) * | 2000-12-21 | 2010-10-13 | 日本テキサス・インスツルメンツ株式会社 | マイクロ・エレクトロ・メカニカル・システム |
JP3724432B2 (ja) * | 2001-04-19 | 2005-12-07 | 株式会社ニコン | 薄膜弾性構造体及びその製造方法並びにこれを用いたミラーデバイス及び光スイッチ |
JP4409811B2 (ja) * | 2001-08-20 | 2010-02-03 | 株式会社リコー | 光走査装置、光書込装置、画像形成装置、振動ミラーチップ及び光走査モジュール |
JP2003117896A (ja) * | 2001-10-02 | 2003-04-23 | Nec Corp | 薄膜構造部材とその製造方法およびこれを用いたスイッチング素子 |
EP1438256A2 (en) * | 2001-10-22 | 2004-07-21 | Montana State University-Bozeman | Stiffened surface micromachined structures and process for fabricating the same |
JP4151959B2 (ja) * | 2003-06-19 | 2008-09-17 | 株式会社リコー | 振動ミラー及びその製造方法、光書込装置、画像形成装置 |
US7742219B2 (en) * | 2005-04-11 | 2010-06-22 | Panasonic Corporation | Micromachine structure |
JP2007052256A (ja) * | 2005-08-18 | 2007-03-01 | Fujifilm Corp | 回転変位型光変調素子及びこれを用いた光学装置 |
JP4862415B2 (ja) * | 2006-02-02 | 2012-01-25 | 株式会社ニコン | 空間光変調装置及びこれを用いた表示装置 |
-
2009
- 2009-12-28 JP JP2009298815A patent/JP5630015B2/ja active Active
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2011138046A (ja) | 2011-07-14 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP5630015B2 (ja) | 空間光変調器、露光装置およびそれらの製造方法 | |
JP5751332B2 (ja) | 空間光変調素子の製造方法、空間光変調素子、空間光変調器および露光装置 | |
JP4032216B2 (ja) | 光学多層構造体およびその製造方法、並びに光スイッチング素子および画像表示装置 | |
WO2011080883A1 (ja) | 電気機械変換器、空間光変調器、露光装置およびそれらの製造方法 | |
JP2011137961A (ja) | 空間光変調器、露光装置およびそれらの製造方法 | |
JP2011138888A (ja) | 電気機械変換器、空間光変調器、露光装置およびそれらの製造方法 | |
JP5549222B2 (ja) | 空間光変調器、露光装置およびそれらの製造方法 | |
JP4830183B2 (ja) | 光学多層構造体および光スイッチング素子、並びに画像表示装置 | |
JP5509912B2 (ja) | 空間光変調器、照明装置、露光装置およびそれらの製造方法 | |
JP6106970B2 (ja) | 空間光変調器および露光装置 | |
JP2008046591A (ja) | アクチュエータの接触部位形成方法、アクチュエータ、光学システム及び画像形成装置 | |
JP6519284B2 (ja) | 電気光学装置、電気光学装置の製造方法、および電子機器 | |
KR100400223B1 (ko) | 마이크로미러 액튜에이터 | |
WO2013027405A1 (ja) | 空間光変調素子および露光装置 | |
JP4614027B2 (ja) | 光学多層構造体および光スイッチング素子、並びに画像表示装置 | |
TWI646353B (zh) | Space light modulator, light drawing device, exposure device, and component manufacturing method | |
JP5171489B2 (ja) | 異方性エッチングによる構造体の作製方法、及びエッチングマスク付きシリコン基板 | |
JP4404787B2 (ja) | 光変調素子及び画像形成装置 | |
JP6492893B2 (ja) | 電気光学装置、電気光学装置の製造方法、および電子機器 | |
US20170336624A1 (en) | Electrooptical device, electronic device, and method for manufacturing electrooptical device | |
KR100691476B1 (ko) | 마이크로미러 액튜에이터 | |
JP5573212B2 (ja) | 空間光変調素子、空間光変調素子の製造方法、照明光発生装置及び露光装置 | |
JP2003098447A (ja) | 光変調装置及び光変調方法 | |
JP2007024947A (ja) | 光変調素子アレイ |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20121227 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20131105 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20131226 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20140401 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20140909 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20140922 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 5630015 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |