JP5627684B2 - 超顕微鏡的及び光学的可変像を有するデバイスのための装置及び方法 - Google Patents
超顕微鏡的及び光学的可変像を有するデバイスのための装置及び方法 Download PDFInfo
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Description
A)硬化性接着樹脂を基材層に被覆して硬化性接着樹脂層を前記基材層の上に形成する工程、その際、前記硬化性接着樹脂は光硬化接着樹脂及び熱硬化接着樹脂からなる群から選択される;
B)構造化パターンを、テープダイ上に予め形成された前記構造化パターンを有する前記テープダイによって前記接着樹脂層上に成形又は形成又はインプリントする工程;及び
C)前記基材層上の前記硬化性接着樹脂層を硬化して、前記構造化パターンが硬化されて前記接着樹脂層上に安定的に形成され且つ前記接着樹脂層が前記基材層に堅く結合された層状フィルムを得る工程
を含む、前記方法を記載している。
A)硬化性化合物、又は組成物を基材の少なくとも1部に適用する工程;
B)硬化性化合物の少なくとも1部と光学的可変像形成手段とを接触させる工程;
C)硬化性化合物を硬化する工程及び
D)任意に金属インクを、硬化した化合物の少なくとも1部に堆積させる工程
を含み、その際、光学的可変像形成手段がa)透明キャリア、b)適用されるべき光学的可変像を有する透明材料、及びc)ワニスを乾燥又は硬化する手段を含む、前記方法に関する。透明キャリアはシリンダ、ベルト又はプレートであってよい。光学的可変像形成手段は、好ましくはa)石英の透明シリンダ、b)石英シリンダの表面に載せられた、適用されるべき光学的可変像を有する透明なプラスチック材料、及び(c)透明シリンダ内に並べられたワニスを乾燥又は硬化する手段を含む。
(a)(フィルム状)基材の少なくとも1部を、請求項1から4までのいずれか1項に記載のUV硬化性組成物(紫外線硬化性ラッカー)でその上表面を被覆し、特にフィルム状基材をUV硬化性組成物でその上表面をプリントする工程、
(b)その上に光学的可変像を有する元のシムを用いて、光学的可変像を、UV硬化性組成物の表面の少なくとも1部にキャスティング(転写)する工程、
(c)光学的可変像をUV硬化性組成物中に付与し、直ちに例えば、UVランプ、又は電子ビーム照射により硬化して二重シムを製造する工程
(d)元のシムから二重のシムを分離し、それによって基材がシリンダの場合、二重シムが得られ;基材が(プラスチック)材料のシートである場合、(プラスチック)材料のシートを二重シムに加工する工程を含む、前記方法に関する。
可撓性基材;
硬化性組成物を基材上に堆積するためのコーティングユニット;
適用されるべき光学的可変像を有する、ポリテトラフルオロエチレンなどの、光学的に透明なフルオロポリマーのエンボス箔、又はシート;
エンボスされたベルト材料を介して紫外線で複製パターンを照射するための紫外線源
を含み、前記照射が光学的可変像のエンボスと同時に起こる、前記転写装置を提供する。
可撓性基材;
硬化性組成物を基材上に堆積するためのコーティングユニット;
適用されるべき光学的可変像を有する、ポリテトラフルオロエチレンなどの、光学的に透明なフルオロポリマーのエンボスベルト、又はシートを含むエンボス装置;
ベルト材料と結合され且つエンボスベルトを支持する働きをする複数の移送ローラ;
複製パターンをエンボスされたベルト材料に紫外線で照射するための紫外線源
を含み、前記照射が光学的可変像のエンボスと同時に起こる、前記転写装置に関する。
チルドローラ202及びテンションローラ205の周りを連続的に運転するシムベルト200、
チルドローラ202に隣接して配置されたニップローラ206(基材201の被覆側はシムベルト200及びOVIに接触しており、OVIは硬化性材料で複製される)、
紫外線硬化性ラッカー207を直ちに硬化するためのシムベルト200の背面に配置されたUVランプ204
を含む。
ニップローラ206及びテンションローラ205の周りを連続的に走るシムベルト200、
ニップローラ206に隣接して配置されたチルドローラ202(基材201の被覆側はシムベルト200に接触しており、OVIは硬化性材料で複製される)、
紫外線硬化性ラッカー207を直ちに硬化するためのシムベルト200の背面に配置されたUVランプ204
を含む。
A)硬化性組成物(ワニス)を基板の少なくとも1部に適用する工程;
B)硬化性組成物の少なくとも1部と光学的可変像形成手段とを接触させる工程;
C)該組成物を硬化する工程;
D)任意に透明な高反射率材料の層及び/又は金属層を硬化された組成物の少なくとも1部に堆積させる工程
を含み、前記光学的可変像形成手段が、適用されるべき光学的可変像を有する光学的に透明なフルオロポリマーの光学的に透明なエンボス箔、特にベルト、又はシート、及び硬化性化合物を乾燥又は硬化する手段を含む、前記方法に関する。
A)ベース材料のシートを提供する工程、前記シートは上下表面を有し且つセキュリティ製品の要素である;
B)光学的可変像をベース材料の上表面の少なくとも1部に形成する工程;及び
C)透明な高反射率材料のインク及び/又は金属インクを光学的可変像の少なくとも1部に堆積させる工程
を含んでよい。
A)基板の分離部分に光学的可変像を形成する工程;及び
B)透明な高反射率材料のインク及び/又は金属インクを光学的可変像の少なくとも1部に堆積させる工程
を含む、前記方法が提供されている。
R65、R66及びR67は互いに独立して水素、C1−C4−アルキル、C1−C4−ハロゲン−アルキル、C1−C4−アルコキシ、塩素又はN(C1−C4−アルキル)2であり;
R68は水素、C1−C4−アルキル、C1−C4−ハロゲンアルキル、フェニル、N(C1−C4−アルキル)2、COOCH3、
nは2〜10である)
のベンゾフェノン誘導体との混合物を使用することが有利である。
ケタール化合物、例えば、ベンジルジメチルケタール(IRGACURE(登録商標)651);アセトフェノン、アセトフェノン誘導体、以下の式
R29は水素又はC1−C18−アルコキシであり;
R30は水素、C1−C18−アルキル、C1−C12ヒドロキシアルキル、C1−C18−アルコキシ、−OCH2CH2−OR47、モルホリノ、C1−C18アルキル−S−、基H2C=CH−、H2C=C(CH3)−、
a、b及びcは1−3であり;
nは2−10であり;
G3及びG4は互いに独立してポリマー構造の末端基、好ましくは水素又はメチルであり;
R47は水素、
R31はヒドロキシ、C1−C16−アルコキシ、モルホリノ、ジメチルアミノ又は−O(CH2CH2O)m−C1−C16−アルキルであり;
R32及びR33は互いに独立して水素、C1−C16−アルキル、C1−C16−アルコキシ又は−O(CH2CH2O)m−C1−C16−アルキル;又は不飽和フェニル又はベンジル;又はC1−C12−アルキルによって置換されたフェニル又はベンジルであるか;又はR32及びR33はそれらが結合された炭素原子と一緒になってシクロヘキシル環を形成し;
mは1−20であるが、但し、R31、R32及びR33は全て一緒になってC1−C16−アルコキシ又は−O(CH2CH2O)m−C1−C16−アルキルではないことを条件とする)のα−ヒドロキシケトン、α−アルコキシケトン又はα−アミノケトンである。
2−ヒドロキシ−1−{1−[4−(2−ヒドロキシ−2−メチル−プロピオニル)−フェニル]−1,3,3−トリメチル−インダン−5−イル}−2−メチル−プロパン−1−オン
ジアルコキシアセトフェノン、α−ヒドロキシ−又はα−アミノアセトフェノン、例えば、(4−メチルチオベンゾイル)−1−メチル−1−モルホリノエタン(IRGACURE(登録商標)907)、(4−モルホリノベンゾイル)−1−ベンジル−1−ジメチルアミノプロパン(IRGACURE(登録商標)369)、(4−モルホリノベンゾイル)−1−(4−メチルベンジル)−1−ジメチルアミノプロパン(IRGACURE(登録商標)379)、(4−(2−ヒドロキシエチル)アミノベンゾイル)−1−ベンジル−1−ジメチルアミノプロパン)、2−ベンジル−2−ジメチルアミノ−1−(3,4−ジメトキシフェニル)ブタノン−1;4−アロイル−1,3−ジオキソラン、ベンゾインアルキルエーテル及びベンジルケタール、例えば、ジメチルベンジルケタール、フェニルグリオキザル酸エステル及びその誘導体、例えば、オキソ−フェニル−酢酸2−(2−ヒドロキシ−エトキシ)−エチルエステル、ダイマーフェニルグリオキザル酸エステル、例えば、オキソ−フェニル−酢酸1−メチル−2−[2−(2−オキソ−2−フェニル−アセトキシ)−プロポキシ]−エチルエステル(IRGACURE(登録商標)754);オキシムエステル、例えば、1,2−オクタンジオン1−[4−(フェニルチオ)フェニル]−2−(O−ベンゾイルオキシム)(IRGACURE(登録商標)OXE01)、エタノン1−[9−エチル−6−(2−メチレンゾイル)−9H−カルバゾール−3−イル]−1−(O−アセチルオキシム)(IRGACURE(登録商標)OXE02)、9H−チオキサンテン−2−カルボキサルデヒド9−オキソ−2−(O−アセチルオキシム)、過酸エステル、例えば、EP126541号に記載されたベンゾフェノンテトラカルボン酸過酸エステル、モノアシルホスフィンオキシド、例えば、(2,4,6−トリメチルベンゾイル)ジフェニルホスフィンオキシド(DAROCUR(登録商標)TPO)、エチル(2,4,6−トリメチルベンゾイルフェニル)ホスフィン酸エステル;ビスアシル−ホスフィンオキシド、例えば、ビス(2,6−ジメトキシ−ベンゾイル)−(2,4,4−トリメチル−ペンチル)ホスフィンオキシド、ビス(2,4,6−トリメチルベンゾイル)−フェニルホスフィンオキシド(IRGACURE(登録商標)819)、ビス(2,4,6−トリメチルベンゾイル)−2,4−ジペントキシフェニルホスフィンオキシド、トリスアシルホスフィンオキシド、ハロメチルトリアジン、例えば、2−[2−(4−メトキシ−フェニル)−ビニル]−4,6−ビス−トリクロロチル−[1,3,5]トリアジン、2−(4−メトキシ−フェニル)−4,6−ビス−トリクロロメチル−[1,3,5]トリアジン、2−(3,4−ジメトキシ−フェニル)−4,6−ビス−トリクロロメチル−[1,3,5]トリアジン、2−メチル−4,6−ビス−トリクロロメチル−[1,3,5]トリアジン、ヘキサアリール−ビスイミダゾール/共開始剤系、例えば、2−メルカプトベンズチアゾールと組み合わせたオルト−クロロヘキサフェニル−ビスイミダゾール、フェロセニウム化合物、又はチタノセン、例えば、ビス(シクロペンタジエニル)−ビス(2,6−ジフルオロ−3−ピリル−フェニル)チタン(IRGACURE(登録商標)784)。さらに、ボレート化合物を共開始剤として使用できる。
R54は水素、C1−C12−アルキル又は
R55、R56、R57、R58及びR59は互いに独立して水素、不飽和C1−C12−アルキル又はOHによって置換されたC1−C12−アルキル、C1−C4−アルコキシ、フェニル、ナフチル、ハロゲン又はCNであり;その際、アルキル鎖は任意に1つ以上の酸素原子によって中断されているか;又はR55、R56、R57、R58及びR59は互いに独立してC1−C4−アルコキシ、C1−C4−アルキルチオ又はNR52R53であり、R52及びR53は互いに独立して水素、不飽和C1−C12−アルキル又はOH又はSHによって置換されたC1−C12−アルキルであり、その際、アルキル鎖は任意に1〜4個の酸素原子によって中断されているか;又はR52及びR53は互いに独立してC2−C12−アルケニル、シクロペンチル、シクロヘキシル、ベンジル又はフェニルであり;且つ
Y1は任意に1つ以上の酸素原子によって中断されたC1−C12−アルキレンである)
のフェニルグリオキサレート。
xは1、2又は3の数であり;且つ
R50(x=1の場合)は、非置換又はC1−C12アルキル置換のフェニル、ナフチル、アントラシル、ビフェニリル、C1−C20アルキル、又は1つ以上の酸素原子によって中断されたC2−C20アルキルであるか、又は
R50(x=2の場合)は、1,3−フェニレン、1,4−フェニレン、C6−C10シクロアルキレン、非置換又はハロ置換のC1−C40アルキレン、1つ以上の酸素原子によって中断されたC2−C40アルキレン、又は基
R50(x=3の場合)は、ラジカル
zは1〜10の数であり;且つ
R60はC1−C20アルキレン、酸素又は
R70は非置換又はC1−C12アルキル置換のフェニル;ナフチル;アントラシル;ビフェニリル;C1−C20アルキル、1つ以上の酸素原子によって中断されたC2−C20アルキル;又は以下の式
R50’はフェニレン、C1−C20アルキレン、1つ以上の酸素原子によって中断されたC2−C20アルキレン、又は基
R60はC1−C20アルキレン又は酸素である)
の化合物である。
R50’はフェニレン、C1−C20アルキレン、1つ以上の酸素原子によって中断されたC2−C20アルキレン、又は基
R60はC1−C20アルキレン又は酸素である)
のグリシジルエーテル化合物である。
Z−A(I)を含み、その式中、
Zは感光性基であり;且つ
AはZに共有結合しているアミジン又はアミン塩基前駆体基である。
R101はフェニル、ビフェニル、ナフチル、アントリル又はアントラキノニルであり、これらは非置換であるか又は1つ以上の置換基C1−C4−アルキル、C2−C4−アルケニル、CN、OR110、SR110、COOR112、ハロゲン又は構造(II)
R101は式(III)
R113はフェニル、ビフェニル、ナフチル、アントリル又はアントラキノニルであり、これらは非置換であるか又は1つ以上の置換基C1−C4−アルキル、C2−C4−アルケニル、CN、OR110、SR110、COR111、COOR112、又はハロゲンによって置換されており;
R114は水素であり、
R115は水素又はC1−C4−アルキルであり;
R102及びR103は互いに独立して水素又はC1−C6−アルキルであり;
R104及びR106は一緒になってC2−C6−アルキレン橋を形成し、これは非置換であるか又は1つ以上のC1−C4−アルキル基によって置換されるか;又は
R105及びR107が一緒になってC2−C6−アルキレン橋を形成し、これは非置換であるか又は1つ以上のC1−C4−アルキル基によって置換され;
R110、R111及びR112は互いに独立して水素又はC1−C6−アルキルであるか;又は以下の式
Ar1は式V又はVIII
UはN(R17)−であり;
VはUの意味を有するか又は直接結合であり;
R1及びR2はそれぞれ互いに独立して
a)非置換であるか又はOH、C1−C4−アルコキシ、又はSHによって置換されたC1−C12−アルキル、
b)以下の式
c)以下の式
のラジカル、又は
d)以下の式
e)非置換であるか又はC1−C4−アルキルによって置換されたフェニルであるか;
又はR1及びR2は一緒になって非分枝鎖状又は分枝鎖状のC4−C6−アルキレン又はC3−C5−オキサアルキレンであり、
Ar2は非置換であるか又はハロゲン、OH、C1−C12−アルキルによって置換されたフェニルラジカルであるか、又はOH、ハロゲン、C1−C12−アルコキシ、−COO(C1−C4−アルキル)、−CO(OCH2CH2)nOCH3又は−OCO(C1−C4−アルキル)によって置換されるC1−C4−アルキルによって置換されたフェニルラジカルであるか、又は該ラジカルフェニルはC1−C4−アルコキシ、−(OCH2CH2)nOH、又は−(OCH2CH2)nOCH3によって置換され、その際、nは1〜5であり、
R3はC1−C4−アルキル、C2−C4−アルキルであり、該アルキルは−OH、−C1−C4−アルコキシ、−CN、又は−COO (C1−C4−アルキル)によって置換されるか、又はR3はC3−C5−アルケニル、又はフェニル−C1−C3−アルキルであり;
R4がC1−C4−アルキル、C2−C4−アルキルであり、該アルキルは−OH、−C1−C4−アルコキシ、−CN、又は−COO(C1−C4−アルキル)によって置換されるか、又はR3がC3−C5−アルケニル、又はフェニル−C1−C3−アルキル−であるか、又はR3及びR4は一緒になって−O−、又は−S−によって中断できるC3−C7−アルキレンであり;
R5、R6、R7、R8及びR9はそれぞれ互いに独立して水素、ハロゲン、C1−C12−アルキル、フェニル、ベンジル、ベンゾイル、又は基−OR17、−SR18、−N(R19)(R20)、又は
Zは−O−、−S−、−N(R11)−、−N(R11)−R12−N(R11)−又は
R11はC1−C4−アルキルであり、
R12は非分枝鎖状の又は分枝鎖状のC2−C16−アルキレンであり、これは1つ以上の−O−又は−S−によって中断されてよく
R13は水素又はC1−C4−アルキルであり;
R14、R15及びR16はそれぞれ互いに独立して水素又はC1−C4−アルキルであるか、又はR14及びR15は一緒になってC3−C4−アルキレンであり;
R17は水素、C1−C12−アルキル、C3−C6−アルケニル、C2−C6−アルキルであり、これは−CN、−OH又は−COO(C1−C4−アルキル)によって置換され;
R18は水素、C1−C12−アルキル、C3−C6−アルケニル、C2−C6−アルキルであり、これは−OH、−CN、−COO(C1−C4−アルキル)によって置換され;
R19及びR20はそれぞれ互いに独立してC1−C6−アルキル、C2−C4−ヒドロキシアルキル、C2−C10−アルコキシアルキル、C3−C5−アルケニル、フェニル−C1−C3−アルキル、フェニルであり、これは非置換であるか又はC1−C4−アルキル又はC1−C4−アルコキシによって置換されるか、又はR19及びR20はC2−C3−アルカノイル又はベンゾイルであるか、又はR19及びR20は−O(CO−C1−C8)o−OH(式中、oは1〜15である)であるか
又はR19及びR20は一緒になって−O−、−N(R22)−又は−S−によって中断されてよいC4−C6−アルキレンであるか、
又はR19及びR20は一緒になってヒドロキシ、C1−C4−アルコキシ又は−COO(C1−C4−アルキル)によって置換されてよいC4−C6−アルキレンであり;
R22はC1−C4−アルキル、フェニル−C1−C3−アルキル、−CH2CH2−COO(C1−C4−アルキル)、−CH2CH2CN、−CH2CH2−COO(CH2CH2O)q−H又は
且つqは1〜8である。
a)アルコキシシラン及び/又はアルコキシシロキサン側鎖基を有するアクリルコポリマー(例はUS4772672号、US4444974号又はEP1092757号に記載されたポリマーである);
b)ヒドロキシル含有ポリアクリレート、ポリエステル及び/又はポリエーテル及び脂肪族又は芳香族ポリイソシアネートを含む2成分系;
c)官能性ポリアクリレート及び単官能性又は多官能性エポキシド成分を含む2成分系(ポリアクリレートは、例えば、EP898202号に記載される通り、チオール、アミノ、カルボキシル及び/又は無水物基を含有する);
d)フッ素変性又はケイ素変性した、ヒドロキシル含有ポリアクリレート、ポリエステル及び/又はポリエーテル及び脂肪族又は芳香族ポリイソシアネートを含む2成分系;
e)(ポリ)ケチミン及び脂肪族又は芳香族ポリイソシアネートを含む2成分系;
f)(ポリ)ケチミン及び不飽和アクリル樹脂又はアセトアセテート樹脂又はメチルα−アクリルアミドメチルグリコレートを含む2成分系;
g)(ポリ)オキサゾリジン及び無水物基を含有するポリアクリレート又は不飽和アクリル樹脂又はポリイソシアネートを含む2成分系;
h)エポキシ官能性ポリアクリレート及びカルボキシル含有又はアミノ含有ポリアクリレートを含む2成分系;
i)アリルグリシジルエーテルをベースとしたポリマー;
j)(ポリ)アルコール及び/又は(ポリ)チオール及び(ポリ)イソシアネートを含む2成分系;
k)α,β−エチレン性不飽和カルボニル化合物及び活性化CH2基を含有するポリマーを含む2成分系(活性化CH2基は、例えば、(ポリ)マロネート基についてEP161697号に記載された通り、主鎖又は側鎖又はその両方のいずれかに存在する)。活性化CH2基を含有する他の化合物は(ポリ)アセトアセテート及び(ポリ)シアノアセテートである。
l)活性化CH2基を含有するポリマー(活性化CH2基は主鎖又は側鎖又はその両方のいずれかに存在する)、又は(ポリ)アセトアセテート及び(ポリ)シアノアセテートなどの活性化CH2基を含有するポリマー、及びポリアルデヒド架橋剤、例えば、テレフタルアルデヒドを含む2成分系。かかる系は例えば、Urankarら、Polym. Prepr. (1994), 35, 933に記載されている。
n)ブロックドイソシアネート及び水素供与体を含む2成分系又は1成分系。かかる系は例えば、PCT/EP2007/056917号に記載されており、その開示は本願明細書に援用されている。
o)チオールマイケル系。例はF. CellesiらによってBiomaterials (2004), 25(21), 5115に記載されている。
b)ヒドロキシル含有ポリアクリレート、ポリエステル及び/又はポリエーテル及び脂肪族又は芳香族ポリイソシアネートを含む2成分系;
c)官能性ポリアクリレート及び単官能性又は多官能性エポキシド成分を含む2成分系(ポリアクリレートは、例えば、EP898202号に記載の通り、チオール、アミノ、カルボキシル及び/又は無水物基を含有する);
m)(ポリ)アルコール及び/又は(ポリ)チオール及び(ポリ)イソシアネートを含む2成分系;
n)α,β−エチレン性不飽和カルボニル化合物及び活性化CH2基を含有するポリマーを含む2成分系(活性化CH2基は主鎖又は側鎖又はその両方のいずれかに存在する)。化学線に曝露した後に、熱後硬化工程を行うことができる。
図1はロール・ツー・ロール機械的再結合シム製造システムの図式的説明であり;
図2は平坦プレートの機械的再結合シム構築システムを示し;
図3は連続ベルト機械的再結合シム構築システムの図式的説明であり;
図4は連続硬質エンボスシム構築システムの図式的説明であり;且つ
図5はフルオロポリマーシムから基材へ像を転写するための適用装置を示す。
図6は図5の適用装置に使用できる代替的な転写装置を示す。
(a)キャリアを剥離コーティングで被覆する工程、
(b)硬質ラッカーのコーティングを剥離コーティング上に適用する工程、
(c)紫外線プライマーコーティングを硬質ラッカーのコーティング上に適用する工程、
(d)紫外線プライマーコーティングの少なくとも一部と、光学的可変像(光学的可変デバイス)形成手段とを接触させる工程、
(e)任意に、透明高屈折率材料の層及び/又は金属層を、転写された光学的可変デバイスを全体又は一部の領域のいずれかとして保持するUVプライマーに堆積させる工程、
(f)任意に、続いてプロセスカラーを印刷する工程、及び
(g)加熱活性化接着剤を、工程d)、e)、又はf)で得られた層、又はプロセスカラー層の上に適用する工程を含み、その際、光学的可変像形成手段が、適用されるべき光学的可変像を有する光学的透明フルオロポリマーの光学的透明エンボス箔、特にベルト、又はシートを含み、且つ硬化性化合物を乾燥又は硬化する手段を含む、押箔の製造方法にも関する。
実施例1
プリンテックリミテッド(PrintEtch Limited)(ワイト島、英国)によって400dpiの光学的可変「星形」像から電鋳されるNiシムは、プリンテックリミテッド(ワイト島、英国)より発明され且つ0.5〜2ミクロンの間の深さのピクセル構造体及び450の原子間力顕微鏡(AFM)を有する。Niシムは、Eskay Holographics Limited(英国)からのSK450RC再結合システムを使用する工程及び繰り返しプロセスによって、加熱時間(0.01〜99.99秒)、圧力(最大10メートルトンまで)、及びNiシムの表面上を通る電流(最大600amp)の特定の組み合わせ;及び冷却時間又は後加熱時間(1〜299秒)で、テフロン(登録商標)FEP160シート/フィルム(DuPont Fluoropolymers社から入手可能なペルフルオロエチレンプロピレンコポリマー)に転写される。
Claims (8)
- 光学的可変像(光学的可変デバイス)を基材上に形成するための方法であって、
A)硬化性組成物(ワニス)を基材の少なくとも一部に適用する工程;
B)前記硬化性組成物の少なくとも一部を光学的可変像形成手段に接触させる工程;
C)前記組成物を硬化する工程;
D)光学的可変像を形成する層よりも高い屈折率を有する透明な材料の層及び/又は金属層を硬化された組成物の少なくとも一部に堆積させる工程を含み、
前記光学的可変像形成手段が、適用されるべき光学的可変像を有する光学的に透明なフルオロポリマーの光学的に透明なエンボス箔を含み、且つ硬化性化合物を乾燥又は硬化する手段を含み、そして、
前記の適用されるべき光学的可変像を有する光学的に透明なフルオロポリマーのエンボス箔は、光学的に透明なフルオロポリマーに光学的可変像を熱的にエンボスすることによって製造される、前記方法。 - 前記硬化性組成物が1種以上の顔料及び/又は染料を含む、請求項1に記載の方法。
- 前記基材が透明ではない(不透明の)シート状材料である、請求項1又は2に記載の方法。
- 前記硬化性組成物がグラビア又はフレキソ印刷の手段によって堆積される、請求項1から3までのいずれか1項に記載の方法。
- 前記硬化性組成物が紫外(U.V.)線又は電子ビームによって硬化可能である、請求項1から4までのいずれか1項に記載の方法。
- 金属層を、アルミニウム、ステンレス鋼、ニクロム、金、銀、白金及び銅を含む群から選択される1種以上の金属を含む金属インクを堆積させることによって形成する、請求項1から5までのいずれか1項に記載の方法。
- 押箔の製造方法であって、
(a)剥離コーティングでキャリアを被覆する工程、
(b)硬質ラッカーのコーティングを剥離コーティング上に適用する工程、
(c)紫外線プライマーコーティングを硬質ラッカーのコーティング上に適用する工程、
(d)紫外線プライマーコーティングの少なくとも一部と、光学的可変像(光学的可変デバイス)形成手段とを接触させる工程、
(e)転写された光学的可変デバイスを全体又は一部の領域のいずれかとして保持するUVプライマーに光学的可変像を形成する層よりも高い屈折率を有する透明な材料の層及び/又は金属層を堆積させる工程、
(f)続いてプロセスカラーを印刷する工程、及び
(g)加熱活性化接着剤を、工程f)で得られた層の上に適用する工程を含み、
その際、光学的可変像形成手段が、適用されるべき光学的可変像を有する光学的に透明なフルオロポリマーの光学的に透明なエンボス箔を含み、且つ硬化性化合物を乾燥又は硬化する手段を含み、そして、
前記の適用されるべき光学的可変像を有する光学的に透明なフルオロポリマーのエンボス箔は、光学的に透明なフルオロポリマーに光学的可変像を熱的にエンボスすることによって製造される、前記製造方法。 - 製造物品のラベル付け方法であって、
請求項7に記載の方法によって得られた押箔の加熱活性化接着剤層と前記物品とを接触させる工程;
前記押箔を型押しして前記加熱活性化接着剤層を前記物品へ付着させる工程;及び
前記押箔のキャリアを前記硬質ラッカー層から除去する工程
を含む、前記方法。
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