JP5618941B2 - 半導体装置 - Google Patents
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Description
まず、図1(a)に示すように半導体基板(シリコン基板)1上にトンネル絶縁膜6、ポリシリコン膜(浮遊ゲート)7、インターポリ絶縁膜(中間絶縁膜)8、ポリシリコン膜2と順次形成した状態で、堆積したポリシリコン膜2の上に、スパッタ法を用いてチタン(Ti)膜3を5nm成膜する。続いて半導体基板1を酸素雰囲気下で200〜300℃で加熱する。この結果、図1(b)に示すように、チタン膜3の表面に膜厚が3.5nm以上と自然酸化膜よりも厚い非晶質かつ導電性を有する酸化チタン(TiOx)膜4が形成される。金属酸化膜である酸化チタン膜4は、金属元素としてチタンを選択してそれを酸化した膜であるが、選択する金属元素はチタンに限る必要は無い。
本実施形態においては、半導体基板1上にトンネル絶縁膜6、ポリシリコン膜(浮遊ゲート)7、インターポリ絶縁膜8、ポリシリコン膜2と順次形成した状態で、堆積したポリシリコン膜2の上に、スパッタ法を用いてチタン(Ti)膜3を5nm成膜するところまでは図1(a)と同様である。その後、図4(a)に示すように、例えば、スパッタ室中に酸素やオゾン、水等の酸素原子を有する酸化ガスを導入し、反応性スパッタ法を用いて酸化金属膜である酸化チタン膜4を自然酸化膜よりも厚く膜厚が3.5nm以上となるように成膜する。なお、図1(a)のチタンのスパッタ成膜の途中から酸化ガスを導入して金属膜/酸化金属膜の積層構造を形成するように膜中の酸素濃度を半導体基板1の垂直方向に自在に変えて図4(a)の構造を形成しても良い。
本実施形態においては、図7(a)に示すように半導体基板1上にトンネル絶縁膜6、ポリシリコン膜(浮遊ゲート)7、インターポリ絶縁膜8と順次形成した後、その上にTiN膜11を形成する。その後選択ゲートのコンタクト形成部の開口を形成し、その上から、第1または第2の実施形態と同様な手法でチタン膜3および酸化チタン膜4を開口部を含めコンフォーマルに形成する(図7(b))。その後タングステン膜5を成膜し、例えば900℃で10秒のRTAおよびゲート形状の加工のためのRIEを行うことにより図8に示すような構造が形成される。図8において図6と同一符号の部位は同一の構成を示す。本実施形態においてはRTAにより、図7(b)においてポリシリコン膜7に接したチタン膜3がシリサイド化され、図8(b)に示すようにTiシリサイド(TiSix)層10が形成される。なおここで、ポリシリコン膜7に接したチタン膜3の全てがシリサイド化されず、一部がチタンのまま残存することもある。また、ゲート形状の加工とRTAの順番は逆でもかまわない。
Claims (5)
- 半導体基板の上に形成されたポリシリコン膜と、
前記ポリシリコン膜上に形成された、チタン、ジルコニウム、ハフニウム、バナジウム、ニオブ、タンタル、スカンジウム、イットリウム、クロムのうち少なくとも1種類の元素を含む金属のシリサイド膜と、
前記シリサイド膜の上に形成された前記金属の非晶質の酸化膜と、
前記酸化膜の上に形成されたタングステン或いはモリブデンを含む膜と、
を備えることを特徴とする半導体装置。 - 半導体基板の上に形成されたポリシリコン膜と、
前記ポリシリコン膜上に形成された金属のシリサイド膜と、
前記シリサイド膜の上に形成された前記金属の酸化膜と、
前記酸化膜の上に形成されたタングステン或いはモリブデンを含む膜と、
を備えることを特徴とする半導体装置。 - 前記金属は、チタン、ジルコニウム、ハフニウム、バナジウム、ニオブ、タンタル、スカンジウム、イットリウム、クロムのうち少なくとも1種類の元素を含む
ことを特徴とする請求項2に記載の半導体装置。 - 前記半導体基板の上に、トンネル絶縁膜、浮遊ゲート膜、中間絶縁膜、ポリシリコン電極膜が順次形成されており、
前記ポリシリコン電極膜の上に、前記シリサイド膜、前記酸化膜、前記タングステン或いはモリブデンを含む膜が順次形成されている
ことを特徴とする請求項1乃至3のいずれか1項に記載の半導体装置。 - 前記半導体基板の上に、トンネル絶縁膜、ポリシリコン浮遊ゲート膜、中間絶縁膜が順次形成されており、前記中間絶縁膜の一部に前記ポリシリコン浮遊ゲート膜まで貫通する開口部が形成されており、
前記開口部における前記ポリシリコン浮遊ゲート膜の上に、前記シリサイド膜、前記酸化膜、前記タングステン或いはモリブデンを含む膜が順次形成されている
ことを特徴とする請求項1乃至3のいずれか1項に記載の半導体装置。
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