JP5596540B2 - 安定な機能性ナノ粒子を形成する方法 - Google Patents
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- 239000002105 nanoparticle Substances 0.000 title claims description 191
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims description 96
- 239000000463 material Substances 0.000 claims description 58
- 239000002245 particle Substances 0.000 claims description 57
- 239000012429 reaction media Substances 0.000 claims description 50
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 claims description 36
- 239000007788 liquid Substances 0.000 claims description 28
- 238000000713 high-energy ball milling Methods 0.000 claims description 26
- 230000008569 process Effects 0.000 claims description 22
- 238000005424 photoluminescence Methods 0.000 claims description 20
- 239000000243 solution Substances 0.000 claims description 20
- 150000001345 alkine derivatives Chemical class 0.000 claims description 19
- 238000000498 ball milling Methods 0.000 claims description 15
- 239000002904 solvent Substances 0.000 claims description 15
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 claims description 14
- 150000001336 alkenes Chemical class 0.000 claims description 13
- 150000001299 aldehydes Chemical class 0.000 claims description 9
- 150000001735 carboxylic acids Chemical class 0.000 claims description 8
- 238000005227 gel permeation chromatography Methods 0.000 claims description 8
- 239000003960 organic solvent Substances 0.000 claims description 8
- 238000001556 precipitation Methods 0.000 claims description 8
- CURLTUGMZLYLDI-UHFFFAOYSA-N Carbon dioxide Chemical compound O=C=O CURLTUGMZLYLDI-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- 150000001412 amines Chemical class 0.000 claims description 6
- 230000001419 dependent effect Effects 0.000 claims description 6
- 239000007791 liquid phase Substances 0.000 claims description 6
- 150000007523 nucleic acids Chemical class 0.000 claims description 6
- 102000039446 nucleic acids Human genes 0.000 claims description 6
- 108020004707 nucleic acids Proteins 0.000 claims description 6
- 108090000765 processed proteins & peptides Proteins 0.000 claims description 6
- 150000001408 amides Chemical class 0.000 claims description 5
- 150000001413 amino acids Chemical class 0.000 claims description 5
- 150000001540 azides Chemical class 0.000 claims description 5
- 150000001720 carbohydrates Chemical class 0.000 claims description 5
- 230000000694 effects Effects 0.000 claims description 5
- 150000002118 epoxides Chemical class 0.000 claims description 5
- 150000002148 esters Chemical class 0.000 claims description 5
- 150000002576 ketones Chemical class 0.000 claims description 5
- 150000002896 organic halogen compounds Chemical class 0.000 claims description 5
- 239000012460 protein solution Substances 0.000 claims description 5
- 150000003573 thiols Chemical class 0.000 claims description 5
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- 150000001298 alcohols Chemical class 0.000 claims description 4
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 claims description 3
- 229910002092 carbon dioxide Inorganic materials 0.000 claims description 3
- 239000001569 carbon dioxide Substances 0.000 claims description 3
- 102000004169 proteins and genes Human genes 0.000 claims description 3
- 108090000623 proteins and genes Proteins 0.000 claims description 3
- 230000003116 impacting effect Effects 0.000 claims description 2
- 235000014633 carbohydrates Nutrition 0.000 claims 4
- VQXINLNPICQTLR-UHFFFAOYSA-N carbonyl diazide Chemical compound [N-]=[N+]=NC(=O)N=[N+]=[N-] VQXINLNPICQTLR-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- 102000004196 processed proteins & peptides Human genes 0.000 claims 1
- 238000003801 milling Methods 0.000 description 69
- 239000005543 nano-size silicon particle Substances 0.000 description 53
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 50
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 49
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 49
- 229910052732 germanium Inorganic materials 0.000 description 41
- GNPVGFCGXDBREM-UHFFFAOYSA-N germanium atom Chemical compound [Ge] GNPVGFCGXDBREM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 40
- 238000001228 spectrum Methods 0.000 description 23
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 description 18
- WWZKQHOCKIZLMA-UHFFFAOYSA-N octanoic acid Chemical compound CCCCCCCC(O)=O WWZKQHOCKIZLMA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 18
- KBPLFHHGFOOTCA-UHFFFAOYSA-N 1-Octanol Chemical compound CCCCCCCCO KBPLFHHGFOOTCA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 16
- UMIPWJGWASORKV-UHFFFAOYSA-N oct-1-yne Chemical compound CCCCCCC#C UMIPWJGWASORKV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 15
- 238000010521 absorption reaction Methods 0.000 description 13
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 13
- 239000010935 stainless steel Substances 0.000 description 13
- 229910001220 stainless steel Inorganic materials 0.000 description 13
- KWKAKUADMBZCLK-UHFFFAOYSA-N 1-octene Chemical compound CCCCCCC=C KWKAKUADMBZCLK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 12
- QGJOPFRUJISHPQ-UHFFFAOYSA-N Carbon disulfide Chemical compound S=C=S QGJOPFRUJISHPQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 12
- 238000001157 Fourier transform infrared spectrum Methods 0.000 description 11
- NUJGJRNETVAIRJ-UHFFFAOYSA-N octanal Chemical compound CCCCCCCC=O NUJGJRNETVAIRJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 11
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 11
- TVMXDCGIABBOFY-UHFFFAOYSA-N n-Octanol Natural products CCCCCCCC TVMXDCGIABBOFY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 10
- YMWUJEATGCHHMB-UHFFFAOYSA-N Dichloromethane Chemical compound ClCCl YMWUJEATGCHHMB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- OBETXYAYXDNJHR-UHFFFAOYSA-N alpha-ethylcaproic acid Natural products CCCCC(CC)C(O)=O OBETXYAYXDNJHR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- 238000004458 analytical method Methods 0.000 description 9
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 9
- 239000003570 air Substances 0.000 description 8
- 238000002161 passivation Methods 0.000 description 8
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 description 8
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- 238000005033 Fourier transform infrared spectroscopy Methods 0.000 description 7
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- 230000005284 excitation Effects 0.000 description 7
- VLKZOEOYAKHREP-UHFFFAOYSA-N n-Hexane Chemical compound CCCCCC VLKZOEOYAKHREP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 description 7
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 description 7
- 239000000047 product Substances 0.000 description 7
- OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N Methanol Chemical compound OC OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 238000003917 TEM image Methods 0.000 description 6
- 238000013459 approach Methods 0.000 description 6
- 239000013078 crystal Substances 0.000 description 6
- 238000009826 distribution Methods 0.000 description 6
- 238000000227 grinding Methods 0.000 description 6
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 6
- 239000012071 phase Substances 0.000 description 6
- 229910010271 silicon carbide Inorganic materials 0.000 description 6
- 239000011856 silicon-based particle Substances 0.000 description 6
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 238000005481 NMR spectroscopy Methods 0.000 description 5
- 229910018540 Si C Inorganic materials 0.000 description 5
- 238000002284 excitation--emission spectrum Methods 0.000 description 5
- 230000003993 interaction Effects 0.000 description 5
- 230000031700 light absorption Effects 0.000 description 5
- 229910021421 monocrystalline silicon Inorganic materials 0.000 description 5
- 238000002390 rotary evaporation Methods 0.000 description 5
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 229910002808 Si–O–Si Inorganic materials 0.000 description 4
- 239000012298 atmosphere Substances 0.000 description 4
- 230000008901 benefit Effects 0.000 description 4
- 210000004027 cell Anatomy 0.000 description 4
- 210000000170 cell membrane Anatomy 0.000 description 4
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 4
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 4
- DIOQZVSQGTUSAI-UHFFFAOYSA-N decane Chemical compound CCCCCCCCCC DIOQZVSQGTUSAI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 238000002149 energy-dispersive X-ray emission spectroscopy Methods 0.000 description 4
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 4
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 description 4
- 238000002329 infrared spectrum Methods 0.000 description 4
- 238000004020 luminiscence type Methods 0.000 description 4
- 125000000325 methylidene group Chemical group [H]C([H])=* 0.000 description 4
- 238000000655 nuclear magnetic resonance spectrum Methods 0.000 description 4
- 238000000103 photoluminescence spectrum Methods 0.000 description 4
- 229910021426 porous silicon Inorganic materials 0.000 description 4
- 238000000926 separation method Methods 0.000 description 4
- -1 silicon halide Chemical class 0.000 description 4
- 238000003786 synthesis reaction Methods 0.000 description 4
- UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N Hydrogen Chemical compound [H][H] UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 125000003342 alkenyl group Chemical group 0.000 description 3
- 239000003153 chemical reaction reagent Substances 0.000 description 3
- 231100000481 chemical toxicant Toxicity 0.000 description 3
- 238000009833 condensation Methods 0.000 description 3
- 230000005494 condensation Effects 0.000 description 3
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 3
- 230000009977 dual effect Effects 0.000 description 3
- 239000012530 fluid Substances 0.000 description 3
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 description 3
- 239000000543 intermediate Substances 0.000 description 3
- 238000011068 loading method Methods 0.000 description 3
- 230000003647 oxidation Effects 0.000 description 3
- 238000007254 oxidation reaction Methods 0.000 description 3
- 238000005498 polishing Methods 0.000 description 3
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 description 3
- 238000000425 proton nuclear magnetic resonance spectrum Methods 0.000 description 3
- 230000005855 radiation Effects 0.000 description 3
- 239000000376 reactant Substances 0.000 description 3
- 238000007789 sealing Methods 0.000 description 3
- 241000894007 species Species 0.000 description 3
- 230000003595 spectral effect Effects 0.000 description 3
- 239000002344 surface layer Substances 0.000 description 3
- 239000003440 toxic substance Substances 0.000 description 3
- 230000007704 transition Effects 0.000 description 3
- CGHIBGNXEGJPQZ-UHFFFAOYSA-N 1-hexyne Chemical compound CCCCC#C CGHIBGNXEGJPQZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N Argon Chemical compound [Ar] XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XMWRBQBLMFGWIX-UHFFFAOYSA-N C60 fullerene Chemical class C12=C3C(C4=C56)=C7C8=C5C5=C9C%10=C6C6=C4C1=C1C4=C6C6=C%10C%10=C9C9=C%11C5=C8C5=C8C7=C3C3=C7C2=C1C1=C2C4=C6C4=C%10C6=C9C9=C%11C5=C5C8=C3C3=C7C1=C1C2=C4C6=C2C9=C5C3=C12 XMWRBQBLMFGWIX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000004215 Carbon black (E152) Substances 0.000 description 2
- 241000976924 Inca Species 0.000 description 2
- IMNFDUFMRHMDMM-UHFFFAOYSA-N N-Heptane Chemical compound CCCCCCC IMNFDUFMRHMDMM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000004793 Polystyrene Substances 0.000 description 2
- 229910006283 Si—O—H Inorganic materials 0.000 description 2
- 238000000862 absorption spectrum Methods 0.000 description 2
- 230000001133 acceleration Effects 0.000 description 2
- 229910045601 alloy Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000000956 alloy Substances 0.000 description 2
- 230000005540 biological transmission Effects 0.000 description 2
- 239000000090 biomarker Substances 0.000 description 2
- 238000009835 boiling Methods 0.000 description 2
- 239000002041 carbon nanotube Substances 0.000 description 2
- 229910021393 carbon nanotube Inorganic materials 0.000 description 2
- 230000008859 change Effects 0.000 description 2
- 238000012512 characterization method Methods 0.000 description 2
- 238000006388 chemical passivation reaction Methods 0.000 description 2
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 description 2
- ILLHQJIJCRNRCJ-UHFFFAOYSA-N dec-1-yne Chemical compound CCCCCCCCC#C ILLHQJIJCRNRCJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 150000001991 dicarboxylic acids Chemical class 0.000 description 2
- 150000002009 diols Chemical class 0.000 description 2
- 239000012153 distilled water Substances 0.000 description 2
- 238000005530 etching Methods 0.000 description 2
- 238000002474 experimental method Methods 0.000 description 2
- 229910003472 fullerene Inorganic materials 0.000 description 2
- 238000007306 functionalization reaction Methods 0.000 description 2
- 229910052736 halogen Inorganic materials 0.000 description 2
- 150000002367 halogens Chemical class 0.000 description 2
- 238000000024 high-resolution transmission electron micrograph Methods 0.000 description 2
- 238000002173 high-resolution transmission electron microscopy Methods 0.000 description 2
- 229930195733 hydrocarbon Natural products 0.000 description 2
- 150000002430 hydrocarbons Chemical class 0.000 description 2
- 239000000696 magnetic material Substances 0.000 description 2
- 230000005389 magnetism Effects 0.000 description 2
- 239000011159 matrix material Substances 0.000 description 2
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 2
- 230000007246 mechanism Effects 0.000 description 2
- 239000000178 monomer Substances 0.000 description 2
- ILBIXZPOMJFOJP-UHFFFAOYSA-N n,n-dimethylprop-2-yn-1-amine Chemical compound CN(C)CC#C ILBIXZPOMJFOJP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 2
- JRZJOMJEPLMPRA-UHFFFAOYSA-N olefin Natural products CCCCCCCC=C JRZJOMJEPLMPRA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000012044 organic layer Substances 0.000 description 2
- 230000000704 physical effect Effects 0.000 description 2
- 229920002223 polystyrene Polymers 0.000 description 2
- 239000002096 quantum dot Substances 0.000 description 2
- 239000011541 reaction mixture Substances 0.000 description 2
- 230000009257 reactivity Effects 0.000 description 2
- 230000006798 recombination Effects 0.000 description 2
- 238000005215 recombination Methods 0.000 description 2
- 230000009467 reduction Effects 0.000 description 2
- 150000003377 silicon compounds Chemical class 0.000 description 2
- 238000001542 size-exclusion chromatography Methods 0.000 description 2
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 2
- 238000006557 surface reaction Methods 0.000 description 2
- CWMFRHBXRUITQE-UHFFFAOYSA-N trimethylsilylacetylene Chemical group C[Si](C)(C)C#C CWMFRHBXRUITQE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000002371 ultraviolet--visible spectrum Methods 0.000 description 2
- 125000000391 vinyl group Chemical group [H]C([*])=C([H])[H] 0.000 description 2
- 229920002554 vinyl polymer Polymers 0.000 description 2
- 238000007106 1,2-cycloaddition reaction Methods 0.000 description 1
- KRHYYFGTRYWZRS-UHFFFAOYSA-N Fluorane Chemical compound F KRHYYFGTRYWZRS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 101000738322 Homo sapiens Prothymosin alpha Proteins 0.000 description 1
- 206010028980 Neoplasm Diseases 0.000 description 1
- 239000004677 Nylon Substances 0.000 description 1
- 229920002292 Nylon 6 Polymers 0.000 description 1
- 239000004952 Polyamide Substances 0.000 description 1
- 239000004698 Polyethylene Substances 0.000 description 1
- 239000004642 Polyimide Substances 0.000 description 1
- 239000004721 Polyphenylene oxide Substances 0.000 description 1
- 239000004743 Polypropylene Substances 0.000 description 1
- 229910052581 Si3N4 Inorganic materials 0.000 description 1
- BLRPTPMANUNPDV-UHFFFAOYSA-N Silane Chemical group [SiH4] BLRPTPMANUNPDV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910000831 Steel Inorganic materials 0.000 description 1
- 102100033632 Tropomyosin alpha-1 chain Human genes 0.000 description 1
- 238000005411 Van der Waals force Methods 0.000 description 1
- 238000006621 Wurtz reaction Methods 0.000 description 1
- 230000009471 action Effects 0.000 description 1
- 150000001335 aliphatic alkanes Chemical class 0.000 description 1
- 125000005741 alkyl alkenyl group Chemical group 0.000 description 1
- 230000029936 alkylation Effects 0.000 description 1
- 238000005804 alkylation reaction Methods 0.000 description 1
- 239000012080 ambient air Substances 0.000 description 1
- 229910052786 argon Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000002238 attenuated effect Effects 0.000 description 1
- 238000010923 batch production Methods 0.000 description 1
- 239000011324 bead Substances 0.000 description 1
- 239000006227 byproduct Substances 0.000 description 1
- 201000011510 cancer Diseases 0.000 description 1
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 description 1
- QGJOPFRUJISHPQ-NJFSPNSNSA-N carbon disulfide-14c Chemical compound S=[14C]=S QGJOPFRUJISHPQ-NJFSPNSNSA-N 0.000 description 1
- 229910021386 carbon form Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000000969 carrier Substances 0.000 description 1
- 239000003518 caustics Substances 0.000 description 1
- 239000012295 chemical reaction liquid Substances 0.000 description 1
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 1
- 238000010924 continuous production Methods 0.000 description 1
- 238000000354 decomposition reaction Methods 0.000 description 1
- 238000006356 dehydrogenation reaction Methods 0.000 description 1
- 230000001687 destabilization Effects 0.000 description 1
- 230000001627 detrimental effect Effects 0.000 description 1
- 229910003460 diamond Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010432 diamond Substances 0.000 description 1
- 239000000539 dimer Substances 0.000 description 1
- NTQGILPNLZZOJH-UHFFFAOYSA-N disilicon Chemical compound [Si]#[Si] NTQGILPNLZZOJH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SNRUBQQJIBEYMU-UHFFFAOYSA-N dodecane Chemical compound CCCCCCCCCCCC SNRUBQQJIBEYMU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000005684 electric field Effects 0.000 description 1
- 230000005670 electromagnetic radiation Effects 0.000 description 1
- 210000002889 endothelial cell Anatomy 0.000 description 1
- 238000000724 energy-dispersive X-ray spectrum Methods 0.000 description 1
- 238000001704 evaporation Methods 0.000 description 1
- 230000008020 evaporation Effects 0.000 description 1
- 239000002360 explosive Substances 0.000 description 1
- 201000003373 familial cold autoinflammatory syndrome 3 Diseases 0.000 description 1
- 239000010419 fine particle Substances 0.000 description 1
- 125000000524 functional group Chemical group 0.000 description 1
- 230000005484 gravity Effects 0.000 description 1
- 229910000040 hydrogen fluoride Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000012535 impurity Substances 0.000 description 1
- 239000012212 insulator Substances 0.000 description 1
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 1
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 1
- 239000002923 metal particle Substances 0.000 description 1
- 125000002496 methyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 description 1
- ZGEGCLOFRBLKSE-UHFFFAOYSA-N methylene hexane Natural products CCCCCC=C ZGEGCLOFRBLKSE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 1
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 1
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 1
- 238000004776 molecular orbital Methods 0.000 description 1
- 239000004570 mortar (masonry) Substances 0.000 description 1
- LDYUIVOAQFHBIO-UHFFFAOYSA-N n,n-dimethylprop-1-yn-1-amine Chemical compound CC#CN(C)C LDYUIVOAQFHBIO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229940094933 n-dodecane Drugs 0.000 description 1
- 239000002114 nanocomposite Substances 0.000 description 1
- 239000002159 nanocrystal Substances 0.000 description 1
- 239000011858 nanopowder Substances 0.000 description 1
- 239000012299 nitrogen atmosphere Substances 0.000 description 1
- 239000012811 non-conductive material Substances 0.000 description 1
- 229920001778 nylon Polymers 0.000 description 1
- 239000011146 organic particle Substances 0.000 description 1
- 239000002798 polar solvent Substances 0.000 description 1
- 230000010287 polarization Effects 0.000 description 1
- 229920002647 polyamide Polymers 0.000 description 1
- 229920000570 polyether Polymers 0.000 description 1
- 229920000573 polyethylene Polymers 0.000 description 1
- 229920001721 polyimide Polymers 0.000 description 1
- 238000006116 polymerization reaction Methods 0.000 description 1
- 229920001155 polypropylene Polymers 0.000 description 1
- 239000000843 powder Substances 0.000 description 1
- 230000005610 quantum mechanics Effects 0.000 description 1
- 238000006862 quantum yield reaction Methods 0.000 description 1
- 239000012070 reactive reagent Substances 0.000 description 1
- 238000011084 recovery Methods 0.000 description 1
- 238000011160 research Methods 0.000 description 1
- 238000012827 research and development Methods 0.000 description 1
- 239000013557 residual solvent Substances 0.000 description 1
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 description 1
- 238000013341 scale-up Methods 0.000 description 1
- 229910000077 silane Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910021332 silicide Inorganic materials 0.000 description 1
- FVBUAEGBCNSCDD-UHFFFAOYSA-N silicide(4-) Chemical compound [Si-4] FVBUAEGBCNSCDD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HBMJWWWQQXIZIP-UHFFFAOYSA-N silicon carbide Chemical compound [Si+]#[C-] HBMJWWWQQXIZIP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HQVNEWCFYHHQES-UHFFFAOYSA-N silicon nitride Chemical compound N12[Si]34N5[Si]62N3[Si]51N64 HQVNEWCFYHHQES-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000002356 single layer Substances 0.000 description 1
- 230000005476 size effect Effects 0.000 description 1
- 239000010802 sludge Substances 0.000 description 1
- 239000007790 solid phase Substances 0.000 description 1
- 230000007928 solubilization Effects 0.000 description 1
- 238000005063 solubilization Methods 0.000 description 1
- 239000010959 steel Substances 0.000 description 1
- 210000000130 stem cell Anatomy 0.000 description 1
- 239000006228 supernatant Substances 0.000 description 1
- 238000002198 surface plasmon resonance spectroscopy Methods 0.000 description 1
- 238000004381 surface treatment Methods 0.000 description 1
- 238000012360 testing method Methods 0.000 description 1
- 238000012546 transfer Methods 0.000 description 1
- 238000009736 wetting Methods 0.000 description 1
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- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
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- B82B—NANOSTRUCTURES FORMED BY MANIPULATION OF INDIVIDUAL ATOMS, MOLECULES, OR LIMITED COLLECTIONS OF ATOMS OR MOLECULES AS DISCRETE UNITS; MANUFACTURE OR TREATMENT THEREOF
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- C01B32/00—Carbon; Compounds thereof
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Description
アメリカ合衆国、ルイジアナ州、ニューオリンズのアメリカ合衆国民であるミッチェル,ブライアン,S.、アメリカ合衆国、ルイジアナ州、ニューオリンズのアメリカ合衆国民であるフィンク,マーク,J.、アメリカ合衆国、ルイジアナ州、ニューオリンズのアメリカ合衆国民であるヘインツ,アンドリュー,S.。
アメリカ合衆国、ルイジアナ州の州法に基づいて設立されて、同法により存在している非営利法人である、アメリカ合衆国、ルイジアナ州、ニューオリンズのジ アドミニストレイターズ オブ ザ チューレン エデュケイショナル ファンド。
引用を以て本明細書の一部となる、2007年5月31日に出願された米国仮特許出願第60/932,428号の優先権を主張する。
なし。
なし。
本発明は、例えばシリコン又はゲルマニウムで作られた安定な不動態化ナノ粒子をメカノケミカル生成する方法に関している。
ナノ粒子(又はナノパウダ)は、少なくとも1つの次元が100ナノメートル(nm)未満である微細粒子である。近年、ナノ粒子は、生物医学、光学、及び電気分野の研究の最前線にある。ナノ粒子のサイズが、何らかの特性に関係した臨界長のスケールを下回ると、ナノ粒子が、基本的に新しい性質を示すことが理由である。一般的に、バルク材料は、そのサイズに関係なく一様な物理的特性を有していると考えられている。しかしながら、ナノスケールでは、材料表面における原子の割合が大きくなると、材料の特性が変化する。マイクロメートルのスケールを下回ると、半導体粒子の量子閉じ込め、幾つかの金属粒子における表面プラズモン共鳴や磁性材料における超磁性(supermagnetism)のようなサイズ依存特性が観測される。
ゲルマニウムナノ粒子の作製:
シグマ−アルドリッチ(Sigma-Aldrich)から入手した純度99.999%のゲルマニウムのミリメートルサイズの片0.75gが、2個のステンレス鋼製ミリング用ボールと共に、ステンレス鋼製ミリング用バイアルに置かれた。各ボールの直径は1.2cmであり、重さは約8.1gであった。窒素で満たされたグローブ・ボックス内に、バイアルが置かれて、約20mLのトリメチルシリルアセチレン(≧98%純度)が満たされて、密閉された。投入及び密閉後、ミリング用バイアルは、SPEX 8000−D デュアルミキサ/ミルに配置されて、高エネルギーボールミリングが実行された。ミリングが24時間なされた後、反応混合物が遠心分離されて、大きな粒子が除去された。上澄みは、TMSA不動態化ゲルマニウムナノ粒子の溶液を含む。少量の塩化メチレンが用いられて、ミリングの残留物から溶解粒子がさらに抽出された。全ての溶媒が、一体にした液体抽出物から回転蒸発で排出されて、乾燥したナノ粒子生成物が得られた。このナノ粒子生成物は、塩化メチレン及びヘキサンを含む多数の有機溶媒に再分散されてもよい。
未処理のナノ粒子溶液は、様々なサイズのナノ粒子を含んでいる。ナノ粒子のサイズ分離は、ゲル透過クロマトグラフィ(GPC)で行われた。少量の濃縮ナノ粒子抽出物が、200メッシュのBio−Beads S−X1(Bio−Rad)を含む重力カラム(gravity column)に置かれた。ナノ粒子は、溶出溶媒として塩化メチレンを用いてサイズ分離された。分離したフラクション(1.5ml)が集められて、特性解析に使用された。この例では、大きいナノ粒子を含む初期のフラクションとより小さいナノ粒子を含む後期のフラクションの異なる12のフラクションが集められた。
水溶性ゲルマニウムナノ粒子の作製:
シグマ−アルドリッチ(Sigma-Aldrich)から入手した純度99.999%のゲルマニウムのミリメートルサイズの片0.75gが、2個のステンレス鋼製ミリング用ボールと共に、ステンレス鋼製ミリング用バイアル内に置かれた。各ボールの直径は1.2cmであり、重さは約8.1gであった。そして、バイアルに、窒素で満たされたグローブ・ボックス内に、約20mLの3−ジメチルアミノ−1−プロピン(シグマ−アルドリッチ、純度98%)が満たされて、その後、密閉された。投入及び密閉後、ミリング用バイアルは、SPEX 8000−D デュアルミキサ/ミルに設置されて、幾つかの長さの時間に渡って、高エネルギーボールミリングが実行された。
ミリングが24時間なされた後、反応混合物が遠心分離されて、大きな粒子が除去された。溶液は、可溶性のジメチルアミノ−1−プロピン不動態化ゲルマニウムナノ粒子を含んでいた。3−ジメチルアミノ−1−プロピンが回転蒸発で除去されて、固体のナノ粒子が得られた。約20mlの蒸留水がバイアルに加えられて、さらに、残留物から残留ナノ粒子を溶解させた。このフラクションから水が回転蒸発で除去されて、乾燥したナノ粒子生成物の第2バッチが得られた。このナノ粒子生成物は、水、メタノールやその他の極性溶媒に可溶であって、特性解析のためにそれら溶媒に再分散されてもよい。
FTIRスペクトルは、Bruker IFS−55スペクトロメータを用いて、1cm-1の解像度で1000回スキャンされて得られた。TEM画像は、JEOL 2011TEMを用いて、200kVの加速電圧を用いて得られた。EDSデータは、Oxford Incaアタッチメントを用いたTEMで、3nmのビームスポットを用いて得られた。NMRスペクトルは、Bruker Avance 300 MHz高解像度NMRスペクトロメータで得られた。ナノ粒子の励起−放出スペクトルと発光データは、Varian Cary Eclipse蛍光分光計を用いて得られた。粒子は、蒸留水に溶解されて、Cary 50スペクトロフォトメータで得られた紫外可視吸収ピークは、PL分析の間に使用された初期励起波長の参照ピークを与えた。
シリコンナノ粒子の作製:
シグマ−アルドリッチから入手した純度99.95%のシリコン片1.0gが、2個のステンレス鋼製ミリング用ボールと共に、ステンレス鋼製ミリング用バイアルに置かれた。各ボールの直径は1.2cmであり、重さは約8.1gであった。窒素雰囲気下のグローブ・ボックス内に、バイアルが置かれて、約25mLの所望の液体媒体が満たされて、その後、密閉された。液体媒体として、純度99%以上の1−オクタノールと、純度99%以上のオクチルアルデヒドと、純度98%以上のオクタン酸を、全てシグマ−アルドリッチから入手した。投入及び密閉後、ミリング用バイアルは、SPEX 8000−D デュアルミキサ/ミルに設置されて、幾つかの長さの時間に渡って、HEBMが実行された。
FTIRスペクトルは、Bruker IFS−55スペクトロメータを用いて、1cm-1の解像度で1000回スキャンされて得られた。分析用のFTIRにおいて、ナノ粒子は、溶媒除去用の真空オーブンに置かれて、二硫化炭素に再溶解されて、その後ソルトプレート(salt plate)に置かれて、二硫化炭素を消失させた。ナノ粒子の励起−放出スペクトルとフォトルミネセンスデータは、Varian Cary Eclipse蛍光分光計を用いて得られた。粒子は、へプタンに溶解されて、Cary 50スペクトロフォトメータで得られた紫外可視吸収ピークは、PL分析の間に使用された初期励起波長の参照ピークを与えた。
開発した作製方法の主たる利点の一つは、不動態化シリコンナノ粒子が、ミリング間に液体に溶解化することである。これによって、回収が容易になり、沈殿を用いた不動態化ナノ粒子のサイズによる初期分離が促進される。
有機分子において、より長い鎖長が、一般に分子間力の増加に対応していることが良く知られている。この現象は、有機液体の沸点のような物理的特性を通じて観測可能である。例えば、n−ドデカン(b.p. 216.2℃)は、n−デカン(b.p. 216.2℃)よりも高温で沸騰し、n−デカンは、n−オクタン(b.p. 216.2℃)よりも高温で沸騰し、n−オクタンは、n−ヘキサン(b.p. 216.2℃)よりも高温で沸騰する。分子間のファンデルワールス力は、主として、分子の周りの電子数と、分子の表面領域とによって決定される。より長い(つまりより大きい)分子には、それ故に、同種のより短い分子よりも、より大きい分子間引力がもたらされる。
Claims (15)
- 安定な機能性ナノ粒子を形成する方法において、
a)第1材料を準備する工程と、
b)反応媒体を準備する工程と、
c)サイズが100nm以下の大きさである粒子へと、前記第1材料を前記反応媒体内にて小さくする工程であって、アルコール、アルデヒド、アルキン、アルケン、アミン、カルボン酸、核酸、ペプチド及びタンパク質の溶液、アジド、ケトン、エポキシド、アミド、エステル、アミノ酸、有機ハロゲン化合物、チオール、及び炭水化物からなる群の中の少なくとも1つの共有結合要素を与えることで、前記反応媒体が前記粒子を機能化する工程と、
を含む方法。 - 前記第1材料は、ボールミリングによって、ナノ粒子へと機械的に小さくされる、請求項1の方法。
- 前記粒子は、50nm以下の大きさであり、選択的には20nm以下の大きさであり、選択的には5nm以下の大きさである、請求項1又は請求項2の方法。
- 安定な機能性ナノ粒子をメカノケミカルに作る方法において、
第1材料を準備する工程と、
反応媒体を準備する工程と、
所望の量のナノ粒子が作製されるまで、前記反応媒体の存在下で前記第1材料に機械的に衝撃を繰り返し与える工程であって、前記ナノ粒子が作製される際に前記反応媒体が前記第1材料と反応して、アルコール、アルデヒド、アルキン、アルケン、アミン、カルボン酸、核酸、ペプチド及びタンパク質の溶液、アジド、ケトン、エポキシド、アミド、エステル、アミノ酸、有機ハロゲン化合物、チオール、及び炭水化物からなる群の中の少なくとも1つの共有結合要素を与えることで、前記ナノ粒子が機能化される工程と、
を含む方法。 - アルコール、アルデヒド、アルキン、アルケン、アミン、カルボン酸、核酸、ペプチド及びタンパク質の溶液、アジド、ケトン、エポキシド、アミド、エステル、アミノ酸、有機ハロゲン化合物、チオール、及び炭水化物からなる群の中の少なくとも1つの共有結合要素を与えることで、安定な機能性ナノ粒子を形成する方法において、
a)第1材料を準備する工程と、
b)反応媒体を準備する工程と、
c)前記反応媒体内で前記第1材料をボールミリングして、ボールミリングされたナノ粒子を得る工程と、
を含む方法。 - アルコール、アルデヒド、アルキン、アルケン、アミン、カルボン酸、核酸、ペプチド及びタンパク質の溶液、アジド、ケトン、エポキシド、アミド、エステル、アミノ酸、有機ハロゲン化合物、チオール、及び炭水化物からなる群の中の少なくとも1つの共有結合要素を与えることで、安定な機能性ナノ粒子を形成する方法において、
a)第1材料を準備する工程と、
b)反応媒体を準備する工程と、
c)前記反応媒体内で前記第1材料をボールミリングして、液相を得る工程と、
を含んでおり、
d)工程cでは、前記液相はナノ粒子を含んでいる方法。 - 前記反応媒体は、純粋な液体である、請求項1乃至6の何れかの方法。
- 前記反応媒体は、溶液である、請求項1乃至6の何れかの方法。
- 前記第1材料は半導体特性を有している、請求項1乃至6の何れかの方法。
- 前記ナノ粒子は、リン光性及び蛍光性を有している、或いは、フォトルミネセンスを含むサイズ依存性量子閉じ込め効果を示す、請求項1乃至6の何れかの方法。
- 前記機能性ナノ粒子は、有機溶媒に溶け、前記有機溶媒には、反応媒体が含まれるが、これに限定されない、請求項1乃至6の何れかの方法。
- 前記機能性ナノ粒子は、水溶液系に溶け、前記水溶液系には、反応媒体が含まれるが、これに限定されない、請求項1乃至6の何れかの方法。
- 前記第1材料は、高エネルギーボールミリングによって、間接バンドギャップ半導体から直接バンドギャップ半導体に変化する、請求項1乃至6の何れかの方法。
- 前記機能性ナノ粒子は、ゲル透過クロマトグラフィー又は選択的沈殿を用いて、サイズ分別され、前記ゲル透過クロマトグラフィー又は選択的沈殿には、超臨界二酸化炭素などの溶媒が含まれるが、これらに限定されない、請求項1乃至6の何れかの方法。
- 前記機能性ナノ粒子は、前記第1材料と前記反応媒体の間の共有結合を示す、請求項1乃至6の何れかの方法。
Applications Claiming Priority (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
US93242807P | 2007-05-31 | 2007-05-31 | |
US60/932,428 | 2007-05-31 | ||
PCT/US2008/065534 WO2009011981A2 (en) | 2007-05-31 | 2008-06-02 | Method of forming stable functionalized nanoparticles |
Publications (3)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2010534141A JP2010534141A (ja) | 2010-11-04 |
JP2010534141A5 JP2010534141A5 (ja) | 2011-07-14 |
JP5596540B2 true JP5596540B2 (ja) | 2014-09-24 |
Family
ID=40260289
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2010510555A Active JP5596540B2 (ja) | 2007-05-31 | 2008-06-02 | 安定な機能性ナノ粒子を形成する方法 |
Country Status (6)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US7883995B2 (ja) |
EP (1) | EP2162386B1 (ja) |
JP (1) | JP5596540B2 (ja) |
KR (1) | KR101463011B1 (ja) |
CA (1) | CA2724951C (ja) |
WO (1) | WO2009011981A2 (ja) |
Families Citing this family (51)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
GB2467161A (en) * | 2009-01-26 | 2010-07-28 | Sharp Kk | Nitride nanoparticles |
GB2467162A (en) | 2009-01-26 | 2010-07-28 | Sharp Kk | Fabrication of nitride nanoparticles |
JP5598809B2 (ja) * | 2009-03-06 | 2014-10-01 | 独立行政法人物質・材料研究機構 | 発光素子 |
EP2419553A4 (en) | 2009-04-17 | 2014-03-12 | Seerstone Llc | PROCESS FOR PRODUCING SOLID CARBON BY REDUCING CARBON OXIDES |
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-
2008
- 2008-06-02 KR KR1020097027628A patent/KR101463011B1/ko active IP Right Grant
- 2008-06-02 EP EP08826333.0A patent/EP2162386B1/en active Active
- 2008-06-02 US US12/131,718 patent/US7883995B2/en active Active
- 2008-06-02 WO PCT/US2008/065534 patent/WO2009011981A2/en active Application Filing
- 2008-06-02 CA CA2724951A patent/CA2724951C/en active Active
- 2008-06-02 JP JP2010510555A patent/JP5596540B2/ja active Active
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
KR20100038082A (ko) | 2010-04-12 |
KR101463011B1 (ko) | 2014-11-18 |
WO2009011981A2 (en) | 2009-01-22 |
EP2162386A4 (en) | 2013-05-29 |
WO2009011981A3 (en) | 2009-07-16 |
EP2162386B1 (en) | 2020-03-18 |
US20090047773A1 (en) | 2009-02-19 |
CA2724951C (en) | 2021-09-07 |
EP2162386A2 (en) | 2010-03-17 |
JP2010534141A (ja) | 2010-11-04 |
CA2724951A1 (en) | 2009-01-22 |
US7883995B2 (en) | 2011-02-08 |
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Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A524 | Written submission of copy of amendment under article 19 pct |
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|
A601 | Written request for extension of time |
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|
A602 | Written permission of extension of time |
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|
A601 | Written request for extension of time |
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|
A602 | Written permission of extension of time |
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|
A601 | Written request for extension of time |
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|
A602 | Written permission of extension of time |
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|
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A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
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|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
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|
R250 | Receipt of annual fees |
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