JP5588230B2 - 液体噴射ヘッド、液体噴射装置及び液体噴射ヘッドの製造方法 - Google Patents
液体噴射ヘッド、液体噴射装置及び液体噴射ヘッドの製造方法 Download PDFInfo
- Publication number
- JP5588230B2 JP5588230B2 JP2010121965A JP2010121965A JP5588230B2 JP 5588230 B2 JP5588230 B2 JP 5588230B2 JP 2010121965 A JP2010121965 A JP 2010121965A JP 2010121965 A JP2010121965 A JP 2010121965A JP 5588230 B2 JP5588230 B2 JP 5588230B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- partition wall
- actuator substrate
- dielectric constant
- low dielectric
- groove
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Fee Related
Links
- 239000007788 liquid Substances 0.000 title claims description 135
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims description 18
- 238000005192 partition Methods 0.000 claims description 237
- 239000000463 material Substances 0.000 claims description 178
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims description 174
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 48
- 239000011347 resin Substances 0.000 claims description 37
- 229920005989 resin Polymers 0.000 claims description 37
- 239000004020 conductor Substances 0.000 claims description 22
- 238000000151 deposition Methods 0.000 claims description 20
- 239000000919 ceramic Substances 0.000 claims description 16
- 238000005304 joining Methods 0.000 claims description 11
- 230000008021 deposition Effects 0.000 claims description 10
- 230000007246 mechanism Effects 0.000 claims description 5
- 239000010408 film Substances 0.000 description 71
- 238000001704 evaporation Methods 0.000 description 19
- 230000008020 evaporation Effects 0.000 description 18
- 230000005684 electric field Effects 0.000 description 17
- 238000007740 vapor deposition Methods 0.000 description 16
- 230000008569 process Effects 0.000 description 14
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 13
- 230000008878 coupling Effects 0.000 description 8
- 238000010168 coupling process Methods 0.000 description 8
- 238000005859 coupling reaction Methods 0.000 description 8
- 229910052451 lead zirconate titanate Inorganic materials 0.000 description 8
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 7
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 7
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 6
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 6
- 238000005452 bending Methods 0.000 description 5
- 238000004544 sputter deposition Methods 0.000 description 5
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 4
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- PMHQVHHXPFUNSP-UHFFFAOYSA-M copper(1+);methylsulfanylmethane;bromide Chemical compound Br[Cu].CSC PMHQVHHXPFUNSP-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 4
- 238000000206 photolithography Methods 0.000 description 4
- 238000005137 deposition process Methods 0.000 description 3
- 238000005530 etching Methods 0.000 description 3
- 239000007769 metal material Substances 0.000 description 3
- 238000007747 plating Methods 0.000 description 3
- 239000006091 Macor Substances 0.000 description 2
- 229910052771 Terbium Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000000853 adhesive Substances 0.000 description 2
- 230000001070 adhesive effect Effects 0.000 description 2
- 229910002113 barium titanate Inorganic materials 0.000 description 2
- 230000004888 barrier function Effects 0.000 description 2
- 238000007796 conventional method Methods 0.000 description 2
- 238000005520 cutting process Methods 0.000 description 2
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 2
- PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N gold Chemical compound [Au] PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052737 gold Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000010931 gold Substances 0.000 description 2
- 230000017525 heat dissipation Effects 0.000 description 2
- 239000011344 liquid material Substances 0.000 description 2
- 230000002093 peripheral effect Effects 0.000 description 2
- 230000009467 reduction Effects 0.000 description 2
- 229910052715 tantalum Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000010409 thin film Substances 0.000 description 2
- VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N Chromium Chemical compound [Cr] VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JRPBQTZRNDNNOP-UHFFFAOYSA-N barium titanate Chemical compound [Ba+2].[Ba+2].[O-][Ti]([O-])([O-])[O-] JRPBQTZRNDNNOP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052804 chromium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000003086 colorant Substances 0.000 description 1
- 230000003247 decreasing effect Effects 0.000 description 1
- 239000003989 dielectric material Substances 0.000 description 1
- 238000007599 discharging Methods 0.000 description 1
- 238000007772 electroless plating Methods 0.000 description 1
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 1
- 238000000227 grinding Methods 0.000 description 1
- 239000011261 inert gas Substances 0.000 description 1
- 238000010884 ion-beam technique Methods 0.000 description 1
- 230000001678 irradiating effect Effects 0.000 description 1
- HFGPZNIAWCZYJU-UHFFFAOYSA-N lead zirconate titanate Chemical compound [O-2].[O-2].[O-2].[O-2].[O-2].[Ti+4].[Zr+4].[Pb+2] HFGPZNIAWCZYJU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910044991 metal oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000004706 metal oxides Chemical class 0.000 description 1
- 239000002923 metal particle Substances 0.000 description 1
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 description 1
- 238000000465 moulding Methods 0.000 description 1
- 238000000059 patterning Methods 0.000 description 1
- 230000010287 polarization Effects 0.000 description 1
- 230000000191 radiation effect Effects 0.000 description 1
- 230000007261 regionalization Effects 0.000 description 1
- 239000003566 sealing material Substances 0.000 description 1
- 230000009466 transformation Effects 0.000 description 1
- 238000001771 vacuum deposition Methods 0.000 description 1
- 238000005019 vapor deposition process Methods 0.000 description 1
Images
Classifications
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B41—PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
- B41J—TYPEWRITERS; SELECTIVE PRINTING MECHANISMS, i.e. MECHANISMS PRINTING OTHERWISE THAN FROM A FORME; CORRECTION OF TYPOGRAPHICAL ERRORS
- B41J2/00—Typewriters or selective printing mechanisms characterised by the printing or marking process for which they are designed
- B41J2/005—Typewriters or selective printing mechanisms characterised by the printing or marking process for which they are designed characterised by bringing liquid or particles selectively into contact with a printing material
- B41J2/01—Ink jet
- B41J2/17—Ink jet characterised by ink handling
- B41J2/175—Ink supply systems ; Circuit parts therefor
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B41—PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
- B41J—TYPEWRITERS; SELECTIVE PRINTING MECHANISMS, i.e. MECHANISMS PRINTING OTHERWISE THAN FROM A FORME; CORRECTION OF TYPOGRAPHICAL ERRORS
- B41J2/00—Typewriters or selective printing mechanisms characterised by the printing or marking process for which they are designed
- B41J2/005—Typewriters or selective printing mechanisms characterised by the printing or marking process for which they are designed characterised by bringing liquid or particles selectively into contact with a printing material
- B41J2/01—Ink jet
- B41J2/135—Nozzles
- B41J2/14—Structure thereof only for on-demand ink jet heads
- B41J2/14201—Structure of print heads with piezoelectric elements
- B41J2/14209—Structure of print heads with piezoelectric elements of finger type, chamber walls consisting integrally of piezoelectric material
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B41—PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
- B41J—TYPEWRITERS; SELECTIVE PRINTING MECHANISMS, i.e. MECHANISMS PRINTING OTHERWISE THAN FROM A FORME; CORRECTION OF TYPOGRAPHICAL ERRORS
- B41J2/00—Typewriters or selective printing mechanisms characterised by the printing or marking process for which they are designed
- B41J2/005—Typewriters or selective printing mechanisms characterised by the printing or marking process for which they are designed characterised by bringing liquid or particles selectively into contact with a printing material
- B41J2/01—Ink jet
- B41J2/015—Ink jet characterised by the jet generation process
- B41J2/04—Ink jet characterised by the jet generation process generating single droplets or particles on demand
- B41J2/045—Ink jet characterised by the jet generation process generating single droplets or particles on demand by pressure, e.g. electromechanical transducers
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B41—PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
- B41J—TYPEWRITERS; SELECTIVE PRINTING MECHANISMS, i.e. MECHANISMS PRINTING OTHERWISE THAN FROM A FORME; CORRECTION OF TYPOGRAPHICAL ERRORS
- B41J2/00—Typewriters or selective printing mechanisms characterised by the printing or marking process for which they are designed
- B41J2/005—Typewriters or selective printing mechanisms characterised by the printing or marking process for which they are designed characterised by bringing liquid or particles selectively into contact with a printing material
- B41J2/01—Ink jet
- B41J2/135—Nozzles
- B41J2/16—Production of nozzles
- B41J2/1607—Production of print heads with piezoelectric elements
- B41J2/1609—Production of print heads with piezoelectric elements of finger type, chamber walls consisting integrally of piezoelectric material
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B41—PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
- B41J—TYPEWRITERS; SELECTIVE PRINTING MECHANISMS, i.e. MECHANISMS PRINTING OTHERWISE THAN FROM A FORME; CORRECTION OF TYPOGRAPHICAL ERRORS
- B41J2/00—Typewriters or selective printing mechanisms characterised by the printing or marking process for which they are designed
- B41J2/005—Typewriters or selective printing mechanisms characterised by the printing or marking process for which they are designed characterised by bringing liquid or particles selectively into contact with a printing material
- B41J2/01—Ink jet
- B41J2/135—Nozzles
- B41J2/14—Structure thereof only for on-demand ink jet heads
- B41J2/14201—Structure of print heads with piezoelectric elements
- B41J2/14209—Structure of print heads with piezoelectric elements of finger type, chamber walls consisting integrally of piezoelectric material
- B41J2002/14217—Multi layer finger type piezoelectric element
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
- Y10T—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
- Y10T29/00—Metal working
- Y10T29/42—Piezoelectric device making
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Particle Formation And Scattering Control In Inkjet Printers (AREA)
Description
図1は、本発明の第一実施形態に係る液体噴射ヘッド1の部分分解斜視図であり、手前側の側面は溝6に沿った縦断面を表している。図2は第一実施形態に使用されるアクチュエータ基板2の説明図であり、(a)が溝6方向の縦断面模式図であり、(b)が部分AAの縦断面模式図であり、(c)及び(d)が部分AAの縦断面の左側及び右側の部分拡大図である。
同様に、アクチュエータ基板2の一方の駆動電極はアクチュエータ基板2の他方端から一方端へ(図2に示す紙面右方向から左方向へ)進むに連れて、低誘電率材料9に形成される範囲が徐々に変化している。この形状は、図2に示す駆動電極11Rを他方の駆動電極とすると、後に述べる図3や図7などを参照することにより、よく理解することができ、駆動電極11Rの低誘電率材料9に形成される範囲が徐々に狭く変化することがわかる。
図5は本発明の第二実施形態に係る液体噴射ヘッド1の模式的な部分斜視図である。第一実施形態と異なる部分は、アクチュエータ基板2の表面に形成した複数の溝6が前方端FEから後方端REまで延在している点である。同一の部分または同一の機能を有する部分には同一の符号を付した。
図6は、本発明の第三実施形態に係る液体噴射ヘッドの製造方法を表す説明図である。同一の部分または同一の機能を有する部分には同一の符号を付した。
図7は本発明の第四実施形態に係る液体噴射ヘッド1の製造方法を表す説明図である。本実施形態は、導電膜形成工程を斜め蒸着法による斜め蒸着工程により行い、第一接合工程及び溝形成工程は第三実施形態と同様なので説明を省略した。
tan(θ1)=2w/h・・・(1)
隔壁7の側面全面に蒸着し、溝6の底面12に蒸着しないための条件は、
tan(θ2)=w/h・・・・(2)
従って、アクチュエータ基板2は、蒸発源18に対して斜め蒸着角度θが次式(3)を満たす位置に設置すればよい。
θ2<θ<θ1=tan-1(w/h)<θ<tan-1(2w/h)・・・(3)
例えば、溝6の幅wを75μm、隔壁7の高さhを360μmとすれば斜め蒸着角度θは12°〜23°の範囲となる。例えば図7(c1)に示すZhを60cmとすれば、斜め蒸着可能なホルダー22の位置Zxは12.5cm〜25cmの範囲となり、この範囲にアクチュエータ基板2を設置すればよい。
図8及び図9は、本発明の第五実施形態に係る液体噴射ヘッドの製造方法を表す説明図である。第四実施形態と異なる部分は、斜め蒸着法により形成した導電膜20をリフトオフ法によりパターニングする点であり、その他の工程は第四実施形態と同様である。
図10は、本発明の第六実施形態に係る液体噴射装置30の模式的な斜視図である。
液体噴射装置30は、上記本発明に係る液体噴射ヘッド1、1’を往復移動させる移動機構43と、液体噴射ヘッド1、1’に液体を供給する液体供給管33、33’と、液体供給管33、33’に液体を供給する液体タンク31、31’を備えている。各液体噴射ヘッド1、1’は本発明に係る液体噴射ヘッド1から構成される。即ち、表面に並列する複数の溝と、隣接する溝を離隔する隔壁を有するアクチュエータ基板と、溝を覆い、アクチュエータ基板の表面に接合するカバープレートと、溝に連通するノズルを有し、アクチュエータ基板の端面に接合するノズルプレートと、を備えている。このアクチュエータ基板は、隔壁を変形駆動して溝に充填された液体をノズルから噴射させるための駆動領域を有し、駆動領域の隔壁は、溝の底面から隔壁の上面までの高さの略1/2よりも上面側を圧電体材料とし、略1/2よりも底面側を圧電体材料よりも誘電率の小さい低誘電率材料とした。
2 アクチュエータ基板
3 カバープレート
4 ノズルプレート
5 フレキシブル基板
6 溝
7 隔壁
8 ノズル
9 低誘電率材料
10 圧電体材料
11 駆動電極
30 液体噴射装置
Claims (9)
- 表面に並列する複数の溝と、隣接する溝を離隔する隔壁と、前記隔壁の両側面に設置した駆動電極を有するアクチュエータ基板と、
前記溝を覆い、前記アクチュエータ基板の表面に接合するカバープレートと、
前記溝に連通するノズルを有し、前記アクチュエータ基板の端面に接合するノズルプレートと、を備え、
前記アクチュエータ基板は、前記隔壁を変形駆動して前記溝に充填された液体を前記ノズルから噴射させるための駆動領域を有し、
前記隔壁は、前記駆動領域において前記溝の底面から前記隔壁の上面までの高さの略1/2よりも上面側が圧電体材料からなり、略1/2よりも底面側が前記圧電体材料よりも誘電率の小さい低誘電率材料からなり、
前記駆動電極は、前記駆動領域において前記圧電体材料からなる隔壁の両側面から前記低誘電率材料からなる隔壁の両側面にはみ出して設置されているとともに、前記アクチュエータ基板の一方端から他方端へ進むに連れて、前記複数の隔壁の低誘電率材料に形成される範囲が徐々に変化する形状を有する液体噴射ヘッド。 - 前記アクチュエータ基板は、前記低誘電率材料と前記圧電体材料の2層構造を有する請求項1に記載の液体噴射ヘッド。
- 前記低誘電率材料は、熱伝導率が前記圧電体材料よりも大きい請求項1又は2に記載の液体噴射ヘッド。
- 前記低誘電率材料は、機械的剛性が前記圧電体材料よりも小さい請求項1〜3のいずれか1項に記載の液体噴射ヘッド。
- 前記低誘電率材料は、マシナブルセラミックス又は樹脂材料からなる請求項1〜4のいずれか1項に記載の液体噴射ヘッド。
- 請求項1〜5のいずれか1項に記載の液体噴射ヘッドと、
前記液体噴射ヘッドを往復移動させる移動機構と、
前記液体噴射ヘッドに液体を供給する液体供給管と、
前記液体供給管に前記液体を供給する液体タンクと、を備える液体噴射装置。 - 圧電体材料からなる圧電体基板を前記圧電体材料よりも誘電率の小さい低誘電率材料からなる低誘電率基板の表面に接合してアクチュエータ基板とする第一接合工程と、
前記アクチュエータ基板の表面に並列する複数の溝を形成して隣接する溝を離隔する隔壁を形成し、前記溝の底面から前記隔壁の上面までの高さの略1/2よりも上面側の隔壁を前記圧電体材料とし、略1/2よりも底面側の前記隔壁を前記低誘電率材料とする溝形成工程と、
前記アクチュエータ基板の表面と、前記溝に充填する液体を噴射させる駆動領域の隔壁のうち、前記圧電体材料からなる隔壁の両側面から前記低誘電率材料からなる隔壁の両側面にはみ出すとともに、前記アクチュエータ基板の一方端から他方端へ進むに連れて、前記複数の隔壁の低誘電率材料に形成される範囲が徐々に変化する導電膜を形成する導電膜形成工程と、
前記導電膜のパターンを形成する電極形成工程と、
前記アクチュエータ基板の表面にカバープレートを接合するとともに、前記アクチュエータ基板の端面に前記溝に連通するノズルを有するノズルプレートを接合する第二接合工程と、を含む液体噴射ヘッドの製造方法。 - 前記導電膜形成工程は、前記アクチュエータ基板の表面に、前記表面の法線に対して傾斜する方向から導電材料を斜め蒸着する斜め蒸着工程である請求項7に記載の液体噴射ヘッドの製造方法。
- 前記第一接合工程の後に前記アクチュエータ基板の表面に感光性樹脂膜を形成する感光性樹脂膜形成工程と、前記導電膜形成工程の前に前記感光性樹脂膜を露光現像して前記樹脂膜のパターンを形成するパターン形成工程とを含み、
前記電極形成工程は、前記感光性樹脂膜を除去するリフトオフ法により前記導電膜のパターンを形成する請求項7又は8に記載の液体噴射ヘッドの製造方法。
Priority Applications (5)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2010121965A JP5588230B2 (ja) | 2010-05-27 | 2010-05-27 | 液体噴射ヘッド、液体噴射装置及び液体噴射ヘッドの製造方法 |
EP11162114.0A EP2390094B1 (en) | 2010-05-27 | 2011-04-12 | Liquid Jet Head, Liquid Jet Apparatus, and Manufacturing Method for the Liquid Jet Head |
US13/134,038 US8480210B2 (en) | 2010-05-27 | 2011-05-26 | Liquid jet head, liquid jet apparatus, and manufacturing method for the liquid jet head |
KR20110050012A KR20110130355A (ko) | 2010-05-27 | 2011-05-26 | 액체 분사 헤드, 액체 분사 장치 및 액체 분사 헤드의 제조 방법 |
CN201110153534.4A CN102294897B (zh) | 2010-05-27 | 2011-05-27 | 液体喷射头、液体喷射装置及液体喷射头的制造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2010121965A JP5588230B2 (ja) | 2010-05-27 | 2010-05-27 | 液体噴射ヘッド、液体噴射装置及び液体噴射ヘッドの製造方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2011245768A JP2011245768A (ja) | 2011-12-08 |
JP5588230B2 true JP5588230B2 (ja) | 2014-09-10 |
Family
ID=44504446
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2010121965A Expired - Fee Related JP5588230B2 (ja) | 2010-05-27 | 2010-05-27 | 液体噴射ヘッド、液体噴射装置及び液体噴射ヘッドの製造方法 |
Country Status (5)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US8480210B2 (ja) |
EP (1) | EP2390094B1 (ja) |
JP (1) | JP5588230B2 (ja) |
KR (1) | KR20110130355A (ja) |
CN (1) | CN102294897B (ja) |
Families Citing this family (11)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP5891096B2 (ja) * | 2012-04-12 | 2016-03-22 | エスアイアイ・プリンテック株式会社 | 液体噴射ヘッドの製造方法、液体噴射ヘッド及び液体噴射装置 |
EP2974867B1 (en) * | 2013-03-15 | 2023-12-06 | Konica Minolta, Inc. | Inkjet head, method for manufacturing same, and inkjet printer |
JP6139319B2 (ja) * | 2013-07-30 | 2017-05-31 | エスアイアイ・プリンテック株式会社 | 液体噴射ヘッド及び液体噴射装置 |
JP2015171804A (ja) * | 2014-03-12 | 2015-10-01 | セイコーインスツル株式会社 | ヘッドチップの製造方法、液体噴射ヘッド、液体噴射装置 |
JP6450079B2 (ja) * | 2014-03-12 | 2019-01-09 | セイコーインスツル株式会社 | ヘッドチップの製造方法、液体噴射ヘッド、液体噴射装置 |
CN103879148A (zh) * | 2014-03-14 | 2014-06-25 | 常熟印刷厂有限公司 | 一种印刷头 |
JP6393130B2 (ja) * | 2014-09-12 | 2018-09-19 | エスアイアイ・プリンテック株式会社 | 液体噴射ヘッド、液体噴射装置及び液体噴射ヘッドの製造方法 |
JP6393180B2 (ja) * | 2014-12-16 | 2018-09-19 | エスアイアイ・プリンテック株式会社 | 液体噴射ヘッド、液体噴射装置及び液体噴射ヘッドの製造方法 |
JP6573825B2 (ja) * | 2015-11-27 | 2019-09-11 | エスアイアイ・プリンテック株式会社 | 液体噴射ヘッド及び液体噴射装置 |
JP2021133647A (ja) * | 2020-02-28 | 2021-09-13 | キヤノン株式会社 | 液体吐出ヘッド |
GB2599902A (en) * | 2020-10-11 | 2022-04-20 | Mesa Tech Ltd | Printing apparatus and method |
Family Cites Families (15)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2744536B2 (ja) * | 1991-10-04 | 1998-04-28 | 株式会社テック | インクジェットプリンタヘッド及びその製造方法 |
JPH04363250A (ja) * | 1991-03-19 | 1992-12-16 | Tokyo Electric Co Ltd | インクジェットプリンタヘッド及びその製造方法 |
JP2744535B2 (ja) * | 1991-07-08 | 1998-04-28 | 株式会社テック | インクジェットプリンタヘッドの製造方法 |
JPH05318741A (ja) | 1992-05-18 | 1993-12-03 | Brother Ind Ltd | 液滴噴射装置の駆動電極形成方法 |
JP2857303B2 (ja) * | 1993-08-20 | 1999-02-17 | 株式会社テック | インクジェットプリンタヘッドの製造方法 |
JP3081737B2 (ja) * | 1993-08-30 | 2000-08-28 | セイコーエプソン株式会社 | インクジェットヘッドの製造方法 |
JP3183017B2 (ja) * | 1994-02-24 | 2001-07-03 | ブラザー工業株式会社 | インク噴射装置 |
JP2870459B2 (ja) * | 1995-10-09 | 1999-03-17 | 日本電気株式会社 | インクジェット記録装置及びその製造方法 |
JP2000108361A (ja) | 1998-10-06 | 2000-04-18 | Brother Ind Ltd | インクジェットヘッドの製造方法 |
JP2001334658A (ja) * | 2000-05-26 | 2001-12-04 | Sharp Corp | インクジェットヘッド |
JP4222592B2 (ja) * | 2002-02-25 | 2009-02-12 | 株式会社リコー | 積層型圧電素子及びその製造方法、圧電型アクチュエータ、液滴吐出ヘッド並びにインクジェット記録装置 |
US20040051762A1 (en) * | 2002-09-12 | 2004-03-18 | Nishi Shin-Ichi | Inkjet recording head |
JP4396192B2 (ja) * | 2002-09-12 | 2010-01-13 | コニカミノルタホールディングス株式会社 | インクジェット記録ヘッド |
JP5144214B2 (ja) * | 2007-10-31 | 2013-02-13 | エスアイアイ・プリンテック株式会社 | インクジェットヘッドの製造方法 |
JP5112889B2 (ja) * | 2008-01-11 | 2013-01-09 | エスアイアイ・プリンテック株式会社 | インクジェットヘッドチップ、インクジェットヘッドチップの製造方法、インクジェットヘッド、及びインクジェット記録装置 |
-
2010
- 2010-05-27 JP JP2010121965A patent/JP5588230B2/ja not_active Expired - Fee Related
-
2011
- 2011-04-12 EP EP11162114.0A patent/EP2390094B1/en not_active Not-in-force
- 2011-05-26 US US13/134,038 patent/US8480210B2/en active Active
- 2011-05-26 KR KR20110050012A patent/KR20110130355A/ko not_active Application Discontinuation
- 2011-05-27 CN CN201110153534.4A patent/CN102294897B/zh not_active Expired - Fee Related
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
EP2390094A1 (en) | 2011-11-30 |
CN102294897B (zh) | 2015-09-30 |
CN102294897A (zh) | 2011-12-28 |
JP2011245768A (ja) | 2011-12-08 |
US8480210B2 (en) | 2013-07-09 |
KR20110130355A (ko) | 2011-12-05 |
EP2390094B1 (en) | 2015-09-23 |
US20110292135A1 (en) | 2011-12-01 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP5588230B2 (ja) | 液体噴射ヘッド、液体噴射装置及び液体噴射ヘッドの製造方法 | |
JP5689652B2 (ja) | 液体噴射ヘッド、液体噴射装置及び液体噴射ヘッドの製造方法 | |
JP5827044B2 (ja) | 液体噴射ヘッド、液体噴射装置及び液体噴射ヘッドの製造方法 | |
JP5905266B2 (ja) | 液体噴射ヘッド、液体噴射装置及び液体噴射ヘッドの製造方法 | |
JP5891096B2 (ja) | 液体噴射ヘッドの製造方法、液体噴射ヘッド及び液体噴射装置 | |
JP5563354B2 (ja) | 液体噴射ヘッド及び液体噴射装置 | |
US8827429B2 (en) | Method of manufacturing liquid jet head, liquid jet head, and liquid jet apparatus | |
JP2013129117A (ja) | 液体噴射ヘッド、液体噴射装置及び液体噴射ヘッドの製造方法 | |
JP6209383B2 (ja) | 液体噴射ヘッド、液体噴射装置及び液体噴射ヘッドの製造方法 | |
JP6266392B2 (ja) | 液体噴射ヘッドの製造方法、液体噴射ヘッド及び液体噴射装置 | |
JP6393130B2 (ja) | 液体噴射ヘッド、液体噴射装置及び液体噴射ヘッドの製造方法 | |
JP2015171801A (ja) | 液体噴射ヘッド、液体噴射ヘッドの製造方法、及び液体噴射装置 | |
JP6073660B2 (ja) | 液体噴射ヘッド、液体噴射装置及び液体噴射ヘッドの製造方法 | |
US9010908B2 (en) | Liquid jet head, liquid jet apparatus, and method of manufacturing liquid jet head | |
JP5939966B2 (ja) | 液体噴射ヘッド、液体噴射装置及び液体噴射ヘッドの製造方法 | |
JP2016159441A (ja) | 液体噴射ヘッド、液体噴射装置および液体噴射ヘッドの製造方法 | |
JP2014091273A (ja) | 液体噴射ヘッド及び液体噴射装置 | |
JP2012218182A (ja) | ヘッドチップ、ヘッドチップの製造方法、液体噴射ヘッド、及び液体噴射装置 | |
JP2018069678A (ja) | 液体噴射ヘッド、液体噴射装置及び液体噴射ヘッドの製造方法 | |
JP2004090279A (ja) | 液体噴射ヘッド及び液体噴射装置 | |
JP2013121695A (ja) | 液体噴射ヘッド、液体噴射装置及び液体噴射ヘッドの製造方法 | |
JP2017193125A (ja) | 液体噴射ヘッド及び液体噴射装置 | |
JP2004082632A (ja) | 液体噴射ヘッド | |
JP2014097641A (ja) | 液体噴射ヘッド、液体噴射装置及び液体噴射ヘッドの製造方法 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20130312 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20131121 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20131126 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20140123 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20140715 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20140725 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 5588230 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |