JP5586384B2 - ガスノズルおよびその製造方法 - Google Patents
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Description
て、前記本体を貫通する前記貫通孔を形成する。
図1に示すように、本発明の第1の実施形態によるガスノズルを用いた成膜装置1は、例えばプラズマCVD法により基板に薄膜を成膜する装置である。成膜装置1は、薄膜を成膜するための反応室2と、反応室2内に原料ガスを導入するガス導入管3と、反応室2内においてガス導入管3に接続されたガスノズル4とを備えている。ウエハ等の基板5は、内部電極6を備えた静電チャックなどのウエハ保持部7上に載置される。内部電極6は、反応室2の外部のバイアス電源8に接続される。さらに、反応室2の外部には、反応室2内にプラズマを生成するためのコイル9および電源10が設けられている。
リーニングガスが供給される。
ガスが供給される供給口14とガスが排出される排出口15とを有する。図2に示したガスノズル4では、供給口14および排出口15が、円柱の上面および下面にそれぞれ設けられている。図2のガスノズル4では、貫通孔12の個数は4つであり、本体13を上面視したときに、4つの供給口14が、本体13の中心から等しい距離にあるように配置されている。
においてパーティクルがより留まりやすくなることから、そのパーティクルがガスと共に排出口15から排出されることをより効果的に抑制することができる。なお、ガスが流れる方向におけるこの曲がっている部分の前方と後方とで、貫通孔12の内周面は中心軸に対して同じ距離だけ離れた位置にある、すなわち径方向において同じ位置にある。
ボールミル、アトラクションミル、ピンミル、又は振動ミル等により混練し、泥漿(スラリー)を作製する。そして、このスラリーを押出成形法、射出成形法、鋳込成形法、又はテープ成形法等のセラミック成形手段により所定の形状に成形する。なお、このセラミック成形法の代わりに、上記スラリーをスプレードライヤにより造粒して顆粒を製作し、金型プレス、又はラバープレス等のセラミック成形法により所定の形状に成形してもよい。
成するのではなく、複数の工程を経て形成する。そして、各工程において、長さが短い各部位S1,S2,S3,S4を個別に形成する。各部位S1,S2,S3,S4は長さが短いために、それぞれの部位を高い寸法精度で形成することができ、結果として、貫通孔12全体を高い寸法精度で形成することができる。よって、貫通孔12が多少長い場合であっても、貫通孔12を精度良く形成することができる。
することができる。特に、排出口15に最も近い(第4部位S4)は、ガスが流れる方向において後方に段差部16が存在しないことから、その内周面が焼成したままの面であると、パーティクルが脱落することを抑制することができ、より好ましい。この場合、本体用焼結体26には、第4部位S4における穴部が予め形成されていることになるため、その穴部の位置を考慮して、各部位S1〜S3における穴部を形成するとよい。ただし、貫通孔12の寸法精度をより高めたい場合には、各部位S1,S2,S3,S4のいずれか1つのみにおいて内周面が焼成したままの面であってよく、又は全ての部位において内周面を研削面にしてもよい。その場合には、上述したように、貫通孔12の軸方向を変化させるなどして、パーティクルの排出口からの噴射を抑制することができる。
図6に示すように、第2の実施形態によるガスノズル44は、第1の実施形態によるガスノズルと同様に、本体13に4つの貫通孔12が設けられている。しかし、本実施形態によるガスノズル44は、これらの貫通孔12が、供給口14と該供給口14に最も近い段差部16aとの間の部位を共有している。
の個数と同じである。すなわち、第5の研削部材27eを用いて、底面46に開口を有する4つの穴部を形成する。
2 反応室
3 ガス導入管
4,44,54 ガスノズル
5 基板
12 貫通孔
13,26 本体
14 供給口
15 排出口
16a,16b,16c, 段差部
27 研削部材
28 先端
Claims (8)
- ガスが流れる貫通孔を備えた本体を有するガスノズルであって、
前記本体は、前記貫通孔の内周面に環状の段差部を複数有し、前記貫通孔は、前記ガスが流れる方向における前記各段差部よりも下流の領域における下流側内周面が、該各段差部よりも上流の領域における上流側内周面と比較して、前記貫通孔のより中心側に位置しており、
前記貫通孔は、前記段差部を境界として軸の方向が変化していることを特徴とするガスノズル。 - 前記貫通孔の開口部と前記段差部との間の距離は、隣接する2つの前記段差部間の距離よりも小さいことを特徴とする請求項1に記載のガスノズル。
- 前記貫通孔は、該貫通孔の開口部と前記段差部との間、または隣接する2つの前記段差部の間において曲がっていることを特徴とする請求項1または請求項2のいずれかに記載のガスノズル。
- 前記本体は、複数の前記貫通孔を有し、これら貫通孔が前記ガスが供給される供給口と該供給口に最も近い前記段差部との間の部位を共有していることを特徴とする請求項1から請求項3のいずれかに記載のガスノズル。
- 前記本体は、セラミック焼結体からなり、前記貫通孔の前記内周面は、前記ガスが排出される排出口と該排出口に最も近い段差部との間において、焼成したままの非加工面であることを特徴とする請求項1から請求項4のいずれかに記載のガスノズル。
- 前記セラミック焼結体は、少なくとも希土類元素を含む請求項5に記載のガスノズル。
- 請求項1から6のいずれかに記載のガスノズルの製造方法であって、
前記貫通孔が形成される前の前記本体を準備する準備工程と、
前記本体の表面に穴あけ加工を行なうことによって、前記本体を貫通しない第1穴部を形成する第1穴部形成工程と、
前記第1穴部の底面に穴あけ加工を行なうことによって、該底面に開口を有する第2穴部を形成する第2穴部形成工程と
を備え、
該第2穴部形成工程を複数回行なうことによって、前記本体を貫通する前記貫通孔を形
成することを特徴とするガスノズルの製造方法。 - 前記第1穴部形成工程では、前記本体の表面に第1研削部材の先端を挿入して研削することにより前記第1穴部を形成し、前記第2穴部形成工程では、前記第1穴部の底面に前記第1研削部材の先端よりも径の小さい第2研削部材の先端を挿入して研削することにより、前記第2穴部を形成することを特徴とする請求項7に記載のガスノズルの製造方法。
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