JP5583738B2 - 抵抗変化型メモリ - Google Patents
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Description
上記PCMO層と上記上部電極もしくは下部電極との間に金属酸化物層を挿入形成したことを特徴とする。
上記PCMO層上に金属酸化物層を形成するステップと、
上記金属酸化物層上に上部電極を形成するステップとを含むことを特徴とする。
上記金属酸化物層上にPrxCa1−xMnO3にてなるPCMO層を形成するステップと、
上記PCMO層上に上部電極を形成するステップとを含むことを特徴とする抵抗変化型メモリの製造方法。
11…下部電極、
12…PCMO抵抗変化層、
13…金属酸化物層、
14…上部電極、
15…電圧源。
Claims (2)
- PrxCa1−xMnO3にてなるPCMO層を下部電極と上部電極とにより挟設してなる抵抗変化型メモリにおいて、
上記PCMO層と上記上部電極もしくは下部電極との間に金属酸化物層を挿入形成し、
上記金属酸化物は上記上部電極もしくは下部電極の金属の酸化物であり、
上記上部電極と下部電極の少なくとも一方はタングステン(W)、モリブデン(Mo)、クロム(Cr)のうちのいずれかにてなり、
上記抵抗変化型メモリは、
上記上部電極と上記下部電極との間の印加電圧を0Vから所定の正の第1の直流電圧を介して、上記第1の直流電圧よりも絶対値が大きい所定の正の第2の直流電圧まで上昇させて印加したとき第1の低抵抗状態となり、その後、当該印加電圧を上記第2の直流電圧から下げ始めると第1の高抵抗状態となり、当該第1の高抵抗状態で上記第1の直流電圧を介して0Vまで当該印加電圧を下げると当該第1の高抵抗状態を維持し、当該第1の高抵抗状態で再び上記第1の直流電圧を印加しても当該第1の高抵抗状態を維持し、
上記印加電圧を0Vから負の直流電圧を印加すると所定の負の第3の直流電圧まで第2の高抵抗状態を維持し、その後、当該印加電圧を上記第3の直流電圧から0Vに向かう方向に引き戻しても当該第2の高抵抗状態を維持し、当該第2の高抵抗状態からさらに、上記第3の直流電圧よりも絶対値が大きい所定の負の第4の直流電圧を印加すると、第2の低抵抗状態に遷移し、当該印加電圧を0Vに引き戻しても当該第2の低抵抗状態を維持し、0Vから上記第3の直流電圧を印加しても当該第2の低抵抗状態を維持し、
上記印加電圧として上記第1の直流電圧を印加することにより、上記第1の低抵抗状態又は上記第1の高抵抗状態を読み出す一方、上記印加電圧として上記第3の直流電圧を印加することにより、上記第2の高抵抗状態又は上記第2の低抵抗状態を読み出すことができることを特徴とする抵抗変化型メモリ。 - 上記第1の直流電圧は+1Vであり、
上記第2の直流電圧は+2Vであり、
上記第3の直流電圧は−1Vであり、
上記第4の直流電圧は−1.5Vであることを特徴とする請求項1記載の抵抗変化型メモリ。
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