JP5582251B2 - 圧電アクチュエータおよびそれを備えたインクジェットヘッド - Google Patents

圧電アクチュエータおよびそれを備えたインクジェットヘッド Download PDF

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Description

本発明は、電気機械変換素子としての圧電アクチュエータと、その圧電アクチュエータを備えたインクジェットヘッドとに関するものである。
近年、高速印刷、低騒音、高精細印刷、低コストなどの理由により、インクジェットプリンタが急速に普及している。このインクジェットプリンタには、インクを適正な量だけ吐出させるインクジェットヘッドが設けられている。このインクジェットヘッドとして、例えば特許文献1に開示されたものがある。
特許文献1のインクジェットヘッドでは、基板に圧力室が形成されるとともに、この圧力室を覆うように、基板上に振動板が形成されている。そして、振動板上には、下電極、圧電体、上電極がこの順で形成されている。この構成では、上電極および下電極に電圧を印加すると、圧電体の伸縮による圧電歪み(圧電変位)が生じ、振動板が撓み変形する。この振動板の撓み変形により、圧力室内の圧力が高まり、ノズルからインク滴が吐出される。
このとき、上電極は、圧力室の上方から圧力室の側壁上方に圧電体とともに引き出されており、これによって圧力室の上方の上電極に通電することが可能となっている。また、上電極を圧電体とともに引き出すことにより、上電極の引き出しを容易に行うことができる。その理由は以下の通りである。
例えば、上電極のみを圧力室の上方から引き出す場合、圧力室上方の圧電体の上面から圧電体の側面をはうようにして上電極を引き出す方法が考えられる。しかし、圧電体の側面は上面に対してほぼ垂直であるため、特に圧電体の厚みが大きい場合には、蒸着やスパッタによって圧電体の側面に上電極となる金属材料を付着させることが困難となり、圧電体の厚み分の段差を乗り越えて上電極を引き出すことが困難となる。これに対して、上電極を圧電体とともに引き出す構成では、圧電体の上面にのみ上電極を形成すればよいので、蒸着等による上電極の形成が容易となる。つまり、圧電体の厚み分の段差を乗り越えるような上電極の形成は不要となり、上電極の引き出しが容易となる。
ところが、上記のように、上電極を圧電体とともに引き出す構成では、圧力室の上方と圧力室の側壁上方とで圧電体がつながっているので、圧力室上方の圧電体の伸縮に伴い、圧力室上方の圧電体と圧力室の側壁上方の圧電体との境界付近、すなわち圧電体において圧力室の側壁面上方に位置する部分に折り曲げ負荷が作用し、この部分に応力が集中する。このため、圧電体の上記境界付近でクラックが発生し、上電極の破断を招く。また、圧力室上方の圧電体の圧電変位が、圧力室の側壁上方の圧電体によって阻害されるため、圧電変位の低下が避けられない。
この点、特許文献2のインクジェットヘッドでは、圧力室と圧力室の側壁との境界面上方において、振動板と圧電体との間に空間部を設け、この空間部をまたぐように圧電体および上電極を引き出すようにしている。これにより、上記境界面上方における応力集中を回避して、上電極の破断を防止するようにしている。
特開2009−182195号公報(図4等参照) 特開2001−96747号公報(請求項1、段落〔0010〕、図2等参照)
ところが、特許文献2では、空間部をまたぐように圧電体を設ける構成により、上電極の破断を防止することはできても、圧力室上方の圧電体と圧力室の側壁上方の圧電体とがつながっている以上、圧力室上方の圧電体の圧電変位が、圧力室の側壁上方の圧電体によって少なからず阻害されるため、特許文献1と同様に、圧電変位の低下を回避することはできない。
本発明は、上記の問題点を解決するためになされたもので、その目的は、圧電変位の低下を回避できるとともに、圧電体のクラックによる上電極の破断を防ぐことができ、しかも、圧電体の厚みが大きい場合でも、上電極を容易に引き出すことができる圧電アクチュエータと、その圧電アクチュエータを備えたインクジェットヘッドとを提供することにある。
本発明の1構成の圧電アクチュエータは、基板に形成された圧力室に配設された振動板を前記圧力室に向けて変形させる圧電アクチュエータであって、前記振動板が前記圧力室の上に位置するようにした状態において、前記振動板上には、下電極、圧電体および上電極が順に積層され、前記圧力室の側壁上方の前記圧電体上の一部には、前記圧力室上方の前記上電極から引き出された上電極引出部が形成され、前記圧電体は、前記上電極引出部の下方において、前記基板における前記圧力室の側壁と前記圧力室との境界面上方の空隙部によって分断されていることを特徴としている。
基板上には、圧力室の上部を覆うように振動板が形成されており、この振動板上には、下電極、圧電体、上電極が順に形成されている。上電極および下電極に電圧を印加することにより、圧力室上部の圧電体を伸縮させて、圧力室上部の振動板を振動させる。よって、振動板の振動によって圧力室から気体や液体を吐出させることができ、この場合は、圧電アクチュエータをポンプとして用いることができる。逆に、振動板の振動によって生じる電界を検出することにより、圧電アクチュエータをセンサとして用いることができる。
ここで、圧力室の側壁上方の圧電体上の一部には、圧力室上方の上電極から引き出された上電極引出部が形成されており、圧電体は、上電極引出部の下方において、基板における圧力室の側壁と圧力室との境界面上方の空隙部によって分断されている。これにより、圧力室の側壁上方の圧電体が、圧力室上方の圧電体の変位を阻害することがなく、圧電変位の低下を回避することができる。また、応力集中によって最もクラックが発生しやすい部分に圧電体が存在せず、空隙部となっているので、圧電体のクラックによる上電極(特に上電極引出部)の破断を防ぐこともできる。また、この構成は、例えば、圧電体の上に上電極および上電極引出部となる電極層を形成した後、圧電体のパターニングの際のサイドエッチングにより、空隙部となる圧電体を除去することによって容易に実現できる。したがって、圧電体の上面から側面をはって上電極を引き出す従来に比べて、圧電体の厚みが大きい場合でも、上電極を容易にかつ確実に引き出すことができる。
本発明の1構成の圧電アクチュエータにおいて、前記空隙部上の前記上電極引出部の幅を、前記圧電体をパターニングする際のサイドエッチング量の2倍以下としてもよい。
この場合、圧電体上に上電極および上電極引出部となる電極層を形成した後であっても、上電極引出部の下層の圧電体(空隙部に位置する圧電体)をサイドエッチングによって確実に除去することができ、空隙部をまたぐように上電極引出部を形成する構成を確実に実現することができる。
前記空隙部上の前記上電極引出部は、前記上電極の積層面に平行な面内で屈曲して形成されていてもよい。
この構成では、空隙部上の上電極引出部は、圧力室上方の圧電体の伸長時に圧縮し、上記圧電体の圧縮時に伸長する。これにより、圧電体の伸縮による応力(伸長時には圧縮応力、収縮時には引張応力)を緩和することができ、圧電体の伸縮による上電極引出部の破断を確実に防止することができる。逆に、圧力室上方の圧電体に対しては、上電極引出部による負荷を低減することができるので、圧電変位の低下を確実に回避することができる。
前記空隙部上の前記上電極引出部は、前記圧電体の変位前の初期状態で前記空隙部内に撓むように形成されていてもよい。
この構成では、圧力室上部の圧電体の伸長時には、上電極引出部は圧縮応力によって一層撓み、圧電体の圧縮時には、引張応力によって上電極引出部の撓み量が軽減される。いずれにしても、圧力室上部の圧電体の伸縮による応力が、上電極引出部によって緩和されるので、圧電体の伸縮による上電極引出部の破断をさらに確実に防止することができる。
前記圧電体は、前記空隙部によって、前記圧力室の上方に位置する第1の圧電体と、前記圧力室の側壁の上方に、前記第1の圧電体を囲むように形成される第2の圧電体とに分断されており、前記上電極引出部は、前記圧力室の上方の前記上電極を、前記圧力室の中心に対して点対称となる各位置から前記空隙部をまたいで互いに反対方向に引き出すことによって形成されていてもよい。
この構成では、第1の圧電体の伸縮による振動板の振動方向を、基板の面に対して垂直な方向に近づけることができ、アクチュエータとしての特性が向上する。特に、上記構成の圧電アクチュエータを例えば超音波プローブの送受信素子に適用したときには、均一な球面波で超音波を放射することができ、素子の性能を向上させることができる。
前記圧力室の上方の前記上電極において、互いに反対側の端部をそれぞれ第1の端部、第2の端部としたとき、前記上電極引出部は、前記圧力室の上方の前記上電極の第1の端部から、前記圧力室の上方の前記圧電体の外側を通って第2の端部側に引き回された後、さらに前記第1の端部とは反対方向に進行して、前記圧力室の側壁上方の前記圧電体上に引き出されていてもよい。
この構成では、上電極引出部を圧力室上方の上電極から直線的に引き出す構成に比べて、圧力室上方の圧電体の外側、すなわち、圧電体の存在しない領域での上電極引出部の長さをかせぐことができる。これにより、圧力室上方の圧電体と圧力室の側壁上方の圧電体との距離を、上電極引出部を直線的に引き出す構成に比べて短くしても、同程度の応力を緩和することができる。したがって、アクチュエータを小型化しながら、上電極引出部の応力を緩和してその破断を防止することができる。
本発明の1構成のインクジェットヘッドは、上述した構成の圧電アクチュエータと、前記圧電アクチュエータの圧力室に充填されたインクの吐出口を有するノズルプレートとを備えて構成されていてもよい。
この構成では、圧電変位の低下の回避および上電極引出部の破断防止により、インクジェットヘッドの低消費電力化および長寿命化を図ることができる。
上記構成によれば、圧電体が空隙部によって分断されていることにより、圧力室の側壁上方の圧電体が、圧力室上方の圧電体の変位を阻害することがない。このため、圧電変位の低下を回避することができる。また、応力集中によって最もクラックが発生しやすい部分に圧電体が存在しないので、圧電体のクラックによる上電極引出部の破断を防ぐこともできる。
(a)は、本発明の実施の一形態に係る圧電アクチュエータ1の概略の構成を模式的に示す平面図であり、(b)は、図1(a)のA−A’線矢視断面図である。 (a)〜(d)は、圧電アクチュエータ1の製造工程を順に示す断面図である。 (a)〜(d)は、圧電アクチュエータ1の製造工程を順に示す断面図である。 (a)〜(d)は、圧電アクチュエータ1の製造工程を順に示す断面図である。 は、圧電アクチュエータ1の製造工程のうち、図4(b)の工程でレジストパターンを形成した状態を示す平面図である。 は、圧電アクチュエータ1を適用したインクジェットヘッドの概略の構成を示す断面図である。 (a)は、圧電アクチュエータ1の他の構成1を模式的に示す平面図であり、(b)は、図7(a)のA−A’線矢視断面図である。 は、圧電アクチュエータ1の他の構成2を模式的に示す平面図である。 (a)は、SOI基板を用いて作製された圧電アクチュエータ1の平面図であり、(b)は、圧電アクチュエータ1の断面図である。 (a)〜(d)は、空隙部上の上電極引出部の形状のバリエーションを示す平面図である。 は、圧電アクチュエータ1の他の構成3を示すものであって、上記上電極引出部のさらに他の形状を示す断面図である。 は、圧電アクチュエータ1の他の構成4を示すものであって、上記上電極引出部のさらに他の形状を示す平面図である。 は、圧電アクチュエータ1の他の構成5を示すものであって、上記上電極引出部のさらに他の形状を示す平面図である。
本発明の実施の一形態について、図面に基づいて説明すれば、以下の通りである。
(圧電アクチュエータの構成)
図1(a)は、本実施形態の圧電アクチュエータ1の概略の構成を模式的に示す平面図であり、図1(b)は、図1(a)のA−A’線矢視断面図である。圧電アクチュエータ1は、基板11上に、振動板12と、下電極13と、圧電体14と、上電極15とをこの順で積層して形成されている。以下では、便宜上、振動板12が圧力室の上に位置する状態で説明するが、上下を限定するものではなく、使用時に何れの方向を向いていてもよい。
基板11は、単結晶Si単体からなる半導体基板またはSOI(Silicon on Insulator)基板で構成されている。この基板11には、気体や液体を収容する圧力室21が形成されており、基板11における圧力室21以外の部分は、圧力室21の側壁21aとなっている。本実施形態では、圧力室21の基板11の面に平行な断面形状は円形であるが、例えば楕円形や多角形等であっても構わない。
振動板12は、圧電体14の伸縮によって振動する弾性体であり、基板11に形成される圧力室21およびその側壁21aを覆うように、基板11上に形成されている。この振動板12は、例えば基板11の表面を熱酸化して得られる熱酸化膜(SiO)で構成されるが、上記の熱酸化膜と、基板11の厚さ方向の一部のSi層とで振動板12が構成されていてもよい。
下電極13は、例えばTi層とPt層とを積層して構成されている。Ti層は、振動板12(熱酸化膜)とPt層との密着性を向上させるための密着層である。上電極15は、例えばCr層とAu層とを積層して構成されている。Cr層は、圧電体14とAu層との密着性を向上させるための密着層である。
圧電体14は、PZT(チタン酸ジルコン酸鉛)等の圧電材料からなり、下電極13上にパターニング形成されている。圧電体14は、基板11における圧力室21の側壁21aと圧力室21との境界面の上方の空隙部Sによって分断されている。つまり、圧電体14は、圧力室21の側壁面上方に位置する空隙部Sにより、圧力室21の上方に位置する圧電体14aと、圧力室21の側壁21aの上方に位置する圧電体14bとに分断されている。空隙部Sは、圧電体14aの外側(周囲)に例えば環状に形成されており、この空隙部Sのさらに外側に圧電体14bが形成されている。
上記した上電極15は、圧力室21の上方から、圧力室21の側壁21aの上方の圧電体14b上に、空隙部Sをまたぐように引き出されている。この圧電体14b上に引き出された上電極15を、以下では上電極引出部15aと称する。上電極引出部15aおよび下電極13は、図示しない電圧印加部に接続されている。
上記の構成において、上電極引出部15aおよび下電極13に電圧を印加すると、上電極15と下電極13とで挟まれた、圧力室21の上方の圧電体14aが水平方向に伸縮するとともに、圧電体14aに圧電歪み(圧電変位)が生じ、これによって振動板12が上下方向に振動する。したがって、このような振動板12の振動により、圧力室21から気体や液体を吐出させることができ、この場合は、圧電アクチュエータ1をポンプとして用いることができる。逆に、振動板12を振動させると、圧電体14aの伸縮によって電界が生じるので、このときの電界の大きさや検出信号の周波数を上電極15および下電極13を介して検出することにより、圧電アクチュエータ1をセンサとして用いることができる。
(圧電アクチュエータの製造方法)
次に、上記構成の圧電アクチュエータ1の製造方法について説明する。図2(a)〜図2(d)、図3(a)〜図3(d)、図4(a)〜図4(d)は、本実施形態の圧電アクチュエータ1の製造工程を順に示す断面図である。
まず、図2(a)に示すように、Siからなる基板11(例えば厚さ200μm)の表面および裏面を熱酸化し、SiO層11a(例えば厚さ1μm)およびSiO層11b(例えば厚さ1μm)をそれぞれの面に形成する。なお、最初からSiO層11a・11bが両面に付いた基板11を用いてもよい。なお、基板11の表面側のSiO層11aは、前述した振動板12を構成する。
そして、図2(b)に示すように、TEOS(テトラエトキシシラン)を原料ガスとして用いたTEOS−CVD法により、基板11の裏面側にSiO層をさらに成膜し、SiO層11bの厚さを例えば2μmに増やす。
続いて、図2(c)に示すように、基板11の裏面側のSiO層11bの上に、レジストを塗布し、露光、現像してレジストパターン31を得る。このレジストパターン31は、基板11に圧力室21(図4(d)参照)を形成するためのものであり、例えば直径200μmの円形の穴31aを有している。なお、穴31aの形状は、上記の円形に限らず、その他の形状(例えば楕円形、多角形)であってもよい。
次に、図2(d)に示すように、レジストパターン31をマスクとして、基板11の裏面側のSiO層11bをドライエッチングする。このドライエッチングは、例えばRIE(Reactive Ion Etching)装置でCHF3(トリフルオロメタン)ガスを用いることによって行われる。このドライエッチングにより、レジストパターン31で保護されていないSiO層11bが除去される。
続いて、図3(a)に示すように、基板11の表面側のSiO層11a上に、Ti層(例えば厚さ20nm)およびPt層(例えば厚さ100nm)をスパッタによって順に成膜し、下電極13を形成する。Ti層は、SiO層11aとPt層とを密着させるための密着層である。
その後、図3(b)に示すように、下電極13上に、PZTをスパッタによって600℃の温度で成膜し、圧電体14(例えば厚さ3μm)を形成する。圧電体14は、良好な圧電特性が得られるペロブスカイト型構造をなしており、結晶格子の中心のTiまたはZrのイオンが(111)方向に偏位している。この(111)方向が基板11の面に垂直となるように圧電体14を形成することにより、例えば(001)方向が基板11の面に垂直となるように圧電体14を形成した場合に比べて分極が大きいため、大きな圧電変位を得ることができる。
次に、図3(c)に示すように、スパッタにより、圧電体14の上にCr層およびAu層をこの順で成膜し、上電極15(例えば厚さ0.2μm)を形成する。Cr層は、圧電体14とAu層とを密着させるための密着層である。
続いて、図3(d)に示すように、上電極15の上にレジストを塗布し、露光、現像して、上電極15をパターニングするためのレジストパターン32を形成する。その際、上電極引出部15aとなる部分の上部のレジストパターン32については、その幅を例えば5μmで形成する。なお、レジストパターン32の上記の幅5μmは、後述する圧電体14のサイドエッチング量、つまりサイドエッチングの幅方向の長さ(例えば3μm)を考慮したことによる。
そして、図4(a)に示すように、レジストパターン32をマスクとして、上電極15をウェットエッチングする。これにより、上電極15は、圧力室21となる部分の上方から圧力室21の側壁21aとなる部分の上方に、圧電体14の上面に沿って引き出された形状となる。このとき、圧力室21の側壁21aとなる部分の上方に位置する上電極引出部15aの幅は、レジストパターン32によって例えば5μmとなる。
次に、図4(b)に示すように、圧電体14および上電極15上にレジストを塗布し、露光、現像して、圧電体14をパターニングするためのレジストパターン33を形成する。このとき、上記のレジストパターン33は、上電極引出部15aの上部も含めて形成される。本実施形態では、圧電体14において空隙部Sを形成する部分の上方の上電極引出部15a上にはレジストが塗布されていない例を示しているが、空隙部Sを形成する部分の上方の上電極引出部15a上にもレジストが塗布されていてもよい。
続いて、図4(c)に示すように、フッ硝酸で圧電体14をウェットエッチングする。これにより、例えば直径180μmの圧電体14aと、その外側の圧電体14bとが、例えば幅40μmの溝(圧電体14が除去された部分)によって分断された状態で形成される。
ここで、圧電体14のウェットエッチング時には、垂直方向のエッチングと同時に水平方向のエッチング(サイドエッチング)も行われる。このサイドエッチングにより、上電極引出部15aの下部の圧電体14も水平方向からエッチングされて除去されるため、上電極引出部15aと下電極13との間には、圧電体14の存在しない空隙部Sが形成される。したがって、上電極引出部15aは、圧電体14aの上方から圧電体14bの上方に空隙部Sをまたぐように形成されることになる。
このとき、圧電体14のサイドエッチング量を例えば3μmとすると、上電極引出部15aの幅は、圧電体14のサイドエッチング量の2倍以下の5μmであるため、上電極引出部15aの下に位置する圧電体14を、上電極引出部15aの幅方向の両側からのサイドエッチングによって確実に除去することができる。
なお、圧電体14のサイドエッチング量を例えば3μmとした場合、幅34μmの溝に対応するレジストパターン33を形成しておけば、溝の両側(圧電体14a側、圧電体14b側)がそれぞれ3μmずつサイドエッチングされるので、最終的に幅40μmの溝を形成することができる。
図5は、図4(b)の状態において、圧電体14および上電極15上にレジストパターン33を形成した状態を模式的に示す平面図である。レジストパターン33は、同図における斜線部のハッチングで示す部分に形成されているが、レジストが塗布されなかった箇所からのサイドエッチングにより、レジストパターン33の下方の圧電体14は、サイドエッチング量e1、e2だけ除去される。また、上電極引出部15aの幅を圧電体14のサイドエッチング量の2倍以下とすることにより、上電極引出部15aの下に位置する圧電体14が、上電極引出部15aの幅方向の両方からサイドエッチングされるため(サイドエッチング量をe3、e4とする)、この部分の圧電体14を確実に除去することができる。
次に、図4(d)に示すように、基板11の裏面側のSiO層11bのパターンをマスクとして、基板11をICP(Inductive Coupled Plasma)装置のボッシュプロセスで深堀加工し、例えば直径200μmの圧力室21を形成する。これにより、圧電アクチュエータ1が完成する。このとき、基板11における圧力室21以外の部分は、圧力室21の側壁21aを構成する。また、上記した圧電体14aは、圧力室21の上方に位置する圧電体に対応し、圧電体14bは、圧力室21の側壁21aの上方に位置する圧電体に対応する。
(圧電アクチュエータの応用例)
本実施形態の圧電アクチュエータ1は、例えばインクジェットヘッドに適用することができる。図6は、インクジェットヘッド50の概略の構成を示す断面図である。圧電アクチュエータ1の基板11の裏面側のSiO層11bをエッチング処理により除去した後、基板11の裏面側に、例えば厚さ200μmのガラス基板41を介して、例えば厚さ300μmのSiからなるノズルプレート42を陽極接合によって貼り合わせることにより、インクジェットヘッド50を作製することができる。上記のガラス基板41には、例えば直径100μmの穴41aが形成されており、ノズルプレート42には、直径50μm、直径20μmの2段穴からなる吐出口42aが形成されている。したがって、圧力室21に充填されたインクは、振動板12の振動により、ガラス基板41の穴41aを介してノズルプレート42の吐出口42aから吐出される。
また、本実施形態の圧電アクチュエータ1は、超音波センサ、すなわち、超音波プローブの送受信素子に適用することもできる。例えば、圧電アクチュエータ1の上電極15と下電極13との間に、送信する超音波の周波数に相当する周波数の交流電圧を印加することで、超音波を送信することができる。また、受信時は、被検体で反射された超音波は、圧電アクチュエータ1の圧力室21に入射し、圧力室21上部の振動板12を振動させ、振動による圧電効果によって、圧電体14に電界が生ずる。この電界の振幅、周期、位相を下電極13と上電極15とを介して検出することにより、2次元の超音波画像を得ることができ、圧電アクチュエータ1を超音波プローブの受信素子として機能させることができる。
以上のように、本実施形態の圧電アクチュエータ1の圧電体14は、上電極引出部15aの下方において、空隙部Sにより、圧力室21の上方の圧電体14aと、圧力室21の側壁21aの上方の圧電体14bとに分断されている。これにより、圧電体14bが圧電体14aの変位を阻害することがないので、圧電体14aの圧電変位の低下を回避することができる。また、応力集中によって最もクラックが発生しやすい部分、すなわち圧電体14において圧力室21と側壁21aの境界面の上方に位置する箇所は空隙部Sとなっており、この部分に圧電体14が存在しないので、圧電体14のクラックによる上電極引出部15aの破断を防ぐこともできる。
また、本実施形態では、上電極引出部15aが空隙部Sをまたぐように形成されているが、この構成は、上述したように、圧電体14のパターニングの際のサイドエッチングによって、上電極引出部15aの下部の圧電体14を除去することによって容易に実現できる。したがって、圧電体14の上面から側面をはって上電極15を引き出す構成に比べて、圧電体14の厚みが大きい場合でも、上電極15を容易にかつ確実に引き出すことができる。
また、本実施形態の圧電アクチュエータ1によれば、上述のように圧電変位の低下を回避できるので、同じ圧電変位を得るための印加電圧を低くすることができるとも言える。このことと、上電極引出部15aの破断防止の観点とから、この圧電アクチュエータ1をインクジェットヘッド50に適用することにより、インクジェットヘッド50の低消費電力化および長寿命化を図ることができる。
(圧電アクチュエータの他の構成例)
図7(a)は、本実施形態の圧電アクチュエータ1の他の構成1を模式的に示す平面図であり、図7(b)は、図7(a)のA−A’線矢視断面図である。圧電体14は、下電極13の形成範囲に対応して形成される必要はなく、圧力室21の上方と、圧力室21の側壁21aの上方のうちで上電極引出部15aが引き出される部分とにだけ形成されていてもよい。
また、図8は、圧電アクチュエータ1のさらに他の構成2を模式的に示す平面図である。同図に示すように、上電極引出部15aの引出長さL(空隙部S上の引き出し方向の長さ)は、長ければ長いほど、圧電体14aの伸縮時に上電極引出部15aにかかる応力を緩和することができるので望ましい。
以下、上電極引出部15aの引出長さLと、上電極引出部15aにかかる応力との関係についてシミュレーションした結果について説明する。なお、以下では、基板11としてSOI基板を用いて圧電アクチュエータ1を作製し、シミュレーションを行っているが、基板11としてSi基板を用いた場合でも、同様の傾向を有するものと考えられる。
図9(a)は、前記の他の構成1と同様の形状で、SOI基板を用いて作製された圧電アクチュエータ1の平面図であり、図9(b)は、上記圧電アクチュエータ1の断面図である。基板11としてのSOI基板は、Si基板61上にSiOからなる絶縁膜62を介してSi基板63が形成されたものである。基板11としてSOI基板を用いると、基板11を掘り込んで圧力室21を形成する際に、絶縁膜62がエッチングストッパとして機能し、厚さ方向に精度よく圧力室21を形成することができる。
ここで、振動板12は、基板11の表面側のSiO層11aと、Si基板63とで構成される。したがって、SOI基板の残りの部分、すなわち、Si基板61および絶縁膜62を基板11’と考えれば、振動板12は基板11’上に形成されていると考えることができる。
今、振動板12の厚さをt1μm、圧電体14であるPZTの厚さをt2μm、圧力室21の直径をw1μm、圧力室21の上方の圧電体14aのPZT直径をw2μm、圧力室21の上方の上電極15の直径をw3μm、上電極引出部15aの下部の圧電体14b(引出部PZT)の幅をw4μm、上電極引出部15aの幅をw5μm、空隙部S上の上電極引出部15aの引出長さをLμmとする。
初期応力は、PZTの応力(例えば100MPaとする)だけ考慮し、PZTの圧電定数(d31)の絶対値を150pm/V、PZTの駆動電圧を15V、PZTのヤング率を60GPaとする。表1は、このような条件で上電極引出部15aにおいて空隙部Sの上方の引出長さLを変化させたときの、圧電変位および応力の変化を示している。
Figure 0005582251
表1において、ロットNo.1は、引出長さL=0、すなわち、圧電体14が空隙部Sによって分断されていない従来の構成である。また、ロットNo.2〜6は、圧電体14が空隙部Sによって分断されている本実施形態の構成である。ロットNo.1〜6の結果より、圧電体14が空隙部Sによって分断されている構成では、分断されていない構成に比べて、圧電体14aの圧電変位a1が増大していることがわかる。また、ロットNo.2〜6より、空隙部S上の引出長さLが長ければ長いほど、上電極引出部15aにかかる応力の最大値が低下しており、上電極引出部15aの破断防止の効果が高いと言える。
なお、ロットNo.1において、上電極の引出部にかかる応力の最大値が、ロットNo.2等よりも低くなっているが、これは、圧電体にクラックが入らない場合の値であり、圧電体にクラックが入ると、ロットNo.2の値以上の応力がかかることがわかっている。
(上電極引出部の形状のバリエーションについて)
次に、上電極引出部15aの形状のバリエーションについて説明する。図10(a)〜図10(d)は、空隙部S上の上電極引出部15aの形状のバリエーションを示す平面図である。これらのように、空隙部S上の上電極引出部15aが、上電極の積層面に平行な面内で屈曲して形成されていることが望ましい。図10(a)の例では、空隙部S上方において、幅が狭くなった上電極引出部15aが図で上下方向に蛇行するように形成されている。図10(b)の例では、上電極引出部15aの一部で幅が狭くなって、その左右部分に穴が設けられ、アルファベットのH字状となっているため、結果として空隙部S上方で上電極引出部15aが屈曲した形状となっている。図10(c)の例では、図10(b)の形状における左右の穴の中間位置に、中央に穴を有する幅の広い部分が形成されている。図10(d)の例では、上電極引出部15a全体の幅が狭く、図で上下方向に屈曲してアルファベットのU字状となるように形成されている。
この場合、圧力室21の上方の圧電体14aの伸長時には、上電極引出部15aは図で左右方向に圧縮され、圧電体14aの圧縮時には、上電極引出部15aは左右方向に伸長する。これにより、圧電体14aの伸縮によって上電極引出部15aにかかる応力を緩和することができ、上電極引出部15aの破断を確実に防止することができる。また、圧電体14aに対しては、上電極引出部15aによる負荷を低減することができるので、圧電変位の低下を確実に回避することができる。図10(a)〜図10(d)は、上電極引出部15aの形状のバリエーションの一部の例を示すものであり、圧電体14aの変位に伴って圧縮・伸長できる形状であれば、上記の形状に限らず、他に様々な形状とすることが可能である。
また、上電極引出部15aを上電極15の積層面に平行な面内で屈曲した形状とする際に、上電極引出部15aを、圧電体14のサイドエッチング量の2倍以下の幅とすることにより、サイドエッチングによって、空隙部Sとなる圧電体14を確実に除去して、その空隙部Sをまたぐように上電極引出部15aを確実に形成することができる。
図11は、圧電アクチュエータ1のさらに他の構成3を示すものであって、上電極引出部15aのさらに他の形状を示す断面図である。同図に示すように、空隙部S上の上電極引出部15aは、圧電体14aの変位前の初期状態で空隙部S内に撓むように形成されていてもよい。
この構成は、例えば、圧電体14上に上電極15(上電極引出部15aを含む)をスパッタにより成膜する前に、空隙部Sとなる圧電体14の表面をエッチングして少し窪ませておき、その上に上電極15を形成した後、空隙部Sとなる圧電体14をサイドエッチングによって除去することで実現可能である。また、基板11をZrOで形成し、上電極15をPtで形成することにより、上電極引出部15aを基板11に対して圧縮応力となるように構成することができ、これによっても、圧電体14aの変位前の初期状態で、空隙部S上の上電極引出部15aを撓ませることができる。さらに、基板11に対して上電極15を熱膨張係数の小さい材料で形成することにより、上電極引出部15aを基板11に対して圧縮応力となるように構成することもできる。このような構成は、例えば、基板11をSUS304、Ni、MgOまたはZrOで構成し、上電極15をPtで構成することで実現可能である。
このように、上電極引出部15aが初期状態で空隙部S内に撓んでいれば、圧力室21の上部の圧電体14aの伸長時には、上電極引出部15aは圧縮応力によって一層撓み、逆に、圧電体14aの圧縮時には、引張応力によって上電極引出部15aの撓み量は軽減される。いずれにしても、圧電体14aの伸縮による応力が、上電極引出部15aによって緩和されるので、圧電体14aの伸縮による上電極引出部15aの破断をさらに確実に防止することができる。特に、圧電体14aの圧縮により、配線(上電極引出部15a)に掛かる引張応力を緩和することで、配線の破断を防止することができる。
また、図12は、圧電アクチュエータ1のさらに他の構成4を示すものであって、上電極引出部15aのさらに他の形状を示す平面図である。同図に示すように、圧電体14が、環状の空隙部Sによって、圧力室21の上方に位置する圧電体14a(第1の圧電体)と、圧力室21の側壁21aの上方に、圧電体14aを囲むように形成される圧電体14b(第2の圧電体)とに分断されている場合、上電極引出部15aは、圧力室21の上方の上電極15を、圧力室21の中心Oに対して点対称となる各位置P1・P2から空隙部Sをまたいで互いに反対方向に引き出すことによって形成されていてもよい。
この構成では、圧電体14aの伸縮による振動板21の振動方向を、基板11の面に対して垂直な方向に近づけることができ、アクチュエータとしての特性が向上する。このため、特に超音波プローブの送受信素子において、圧電アクチュエータ1の上記構成が非常に有効となる。
つまり、超音波プローブの送受信素子においては、アレイ状に配列された各振動子(振動板12に相当)から、ある放射角を持った球面波状の超音波が放射される。また、各振動子の位相を制御することで、各振動子から放射された球面波状の超音波を、収束(フォーカス)、スキャンすることができる(ビームフォーミングともいう)。
振動子が非対称性を持つと、超音波の放射方向が中心軸からずれ、均一な球面波が得られなくなる。その結果、ビームフォーミングに以下のような支障が生じ、画質の低下が生じる。
(1)狙いのフォーカス精度が得られない。
(2)狙いの走査角度が得られない。
(3)意図しないサイドローブやグレーティングローブの発生により、アーチファクトが発生する(本来存在しない像が画面上に出現する)。
しかし、上電極引出部15aを上記のように引き出すことにより、振動板12の振動方向を垂直方向に近づけることができるので、超音波プローブの送受信素子における上記の不都合を回避して、高い送受信性能を得ることができる。
また、図13は、圧電アクチュエータ1のさらに他の構成5を示すものであって、上電極引出部15aのさらに他の形状を示す平面図である。なお、同図では、圧力室21の上方の上電極15を、圧電体14aと同じ大きさ(直径)で形成した場合を示している。圧力室21の上方の上電極15において、互いに反対側の端部をそれぞれ第1の端部15A、第2の端部15Bとする。このとき、上電極引出部15aは、上電極15の第1の端部15Aから、圧力室21の上方の圧電体14aの外側を通って第2の端部15B側に引き回された後、さらに第1の端部15Aとは反対方向に進行して、圧力室21の側壁21aの上方の圧電体14b上に引き出されていてもよい。
この構成では、上電極引出部15aは、圧力室21の上方の圧電体14aの周囲を通って引き出されるので、上電極引出部15aを圧力室21の上方の上電極15から直線的に引き出す構成に比べて、圧電体14が存在しない領域上での上電極引出部15aの長さをかせぐことができる。これにより、実質的に、圧電体14a・14bの距離(空隙部S上の上電極引出部15aの長さ)を長くしたのと同じ効果を得ることができる。
つまり、圧力室21の上方の圧電体14aと、圧力室21の側壁21aの上方の圧電体14bとの距離を、上電極引出部15aを直線的に引き出す構成に比べて短くしても、直線的に引き出す構成と同程度の応力の緩和を実現することができる。したがって、アクチュエータを小型化しながら、上電極引出部15aの応力を緩和してその破断を防止することができる。
なお、図13では、上電極引出部15aを、上電極15の第1の端部15Aから、上電極15の周囲を互い反対方向に回るように2本引き出しているが、上電極引出部15aの本数は1本であってもよい。ただし、上電極引出部15aの引き出しをバランスよく行うことができ、圧力室21の上方の圧電体14aをバランスよく伸縮させることができる点では、上電極引出部15aを上記のように2本引き出すほうが望ましい。
(その他)
本実施形態のように、上電極引出部15aが空隙部Sをまたいで形成される場合、上電極引出部15aは空隙部Sを介して下電極13と対向しているため、圧電体14の駆動周波数(電極への印加電圧の周波数)によっては、上電極引出部15aが共振して下電極13と接触してしまうおそれがある。そこで、上電極引出部15aの固有振動数を変えることにより、圧電体14の駆動時における上電極引出部15aと下電極13との接触を回避することが望ましい。なお、上電極引出部15aの固有振動数は、例えば上電極引出部15aの長さを調節することによって容易に変えることができる。
上電極15の下地層であるCr層は、圧電体14のエッチング液によって腐食されやすいが、上記のCr層の代わりにW(タングステン)層を形成することにより、エッチング液による腐食を軽減することができる。
本発明の圧電アクチュエータは、例えばインクジェットヘッドや超音波プローブの送受信素子に利用可能である。
1 圧電アクチュエータ
11 基板
11’ 基板
12 振動板
13 下電極
14 圧電体
14a 圧電体(第1の圧電体)
14b 圧電体(第2の圧電体)
15 上電極
15A 第1の端部
15B 第2の端部
15a 上電極引出部
21 圧力室
21a 側壁
42 ノズルプレート
S 空隙部
e1、e2、e3、e4、 サイドエッチング量

Claims (8)

  1. 基板に形成された圧力室に配設された振動板を前記圧力室に向けて変形させる圧電アクチュエータであって、前記振動板が前記圧力室の上に位置するようにした状態において、
    前記振動板上には、下電極、圧電体および上電極が順に積層され、
    前記圧力室の側壁上方の前記圧電体上の一部には、前記圧力室上方の前記上電極から引き出された上電極引出部が形成され、
    前記圧電体は、前記上電極引出部の下方において、前記基板における前記圧力室の側壁と前記圧力室との境界面上方の空隙部によって分断されており、
    前記空隙部上の前記上電極引出部は、前記上電極の積層面に平行な面内で屈曲して形成されていることを特徴とする圧電アクチュエータ。
  2. 基板に形成された圧力室に配設された振動板を前記圧力室に向けて変形させる圧電アクチュエータであって、前記振動板が前記圧力室の上に位置するようにした状態において、
    前記振動板上には、下電極、圧電体および上電極が順に積層され、
    前記圧力室の側壁上方の前記圧電体上の一部には、前記圧力室上方の前記上電極から引き出された上電極引出部が形成され、
    前記圧電体は、前記上電極引出部の下方において、前記基板における前記圧力室の側壁と前記圧力室との境界面上方の空隙部によって分断されており、
    前記空隙部上の前記上電極引出部は、前記圧電体の変位前の初期状態で前記空隙部内に撓むように形成されていることを特徴とする圧電アクチュエータ。
  3. 前記空隙部上の前記上電極引出部は、前記圧電体の変位前の初期状態で前記空隙部内に撓むように形成されていることを特徴とする請求項1に記載の圧電アクチュエータ。
  4. 前記空隙部上の前記上電極引出部の幅は、前記圧電体をパターニングする際のサイドエッチング量の2倍以下であることを特徴とする請求項1から3のいずれかに記載の圧電アクチュエータ。
  5. 前記圧電体は、前記空隙部によって、前記圧力室の上方に位置する第1の圧電体と、前記圧力室の側壁の上方に、前記第1の圧電体を囲むように形成される第2の圧電体とに分断されており、
    前記上電極引出部は、前記圧力室の上方の前記上電極を、前記圧力室の中心に対して点対称となる各位置から前記空隙部をまたいで互いに反対方向に引き出すことによって形成されていることを特徴とする請求項1から4のいずれかに記載の圧電アクチュエータ。
  6. 基板に形成された圧力室に配設された振動板を前記圧力室に向けて変形させる圧電アクチュエータであって、前記振動板が前記圧力室の上に位置するようにした状態において、
    前記振動板上には、下電極、圧電体および上電極が順に積層され、
    前記圧力室の側壁上方の前記圧電体上の一部には、前記圧力室上方の前記上電極から引き出された上電極引出部が形成され、
    前記圧電体は、前記上電極引出部の下方において、前記基板における前記圧力室の側壁と前記圧力室との境界面上方の空隙部によって分断されており、
    前記圧力室の上方の前記上電極において、互いに反対側の端部をそれぞれ第1の端部、第2の端部としたとき、
    前記上電極引出部は、前記圧力室の上方の前記上電極の第1の端部から、前記圧力室の上方の前記圧電体の外側を通って第2の端部側に引き回された後、さらに前記第1の端部とは反対方向に進行して、前記圧力室の側壁上方の前記圧電体上に引き出されていることを特徴とする圧電アクチュエータ。
  7. 前記圧力室の上方の前記上電極において、互いに反対側の端部をそれぞれ第1の端部、第2の端部としたとき、
    前記上電極引出部は、前記圧力室の上方の前記上電極の第1の端部から、前記圧力室の上方の前記圧電体の外側を通って第2の端部側に引き回された後、さらに前記第1の端部とは反対方向に進行して、前記圧力室の側壁上方の前記圧電体上に引き出されていることを特徴とする請求項1からのいずれかに記載の圧電アクチュエータ。
  8. 請求項1から7のいずれかに記載の圧電アクチュエータと、
    前記圧電アクチュエータの圧力室に充填されたインクの吐出口を有するノズルプレートとを備えていることを特徴とするインクジェットヘッド。
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