JP2006314007A - 圧電振動片の製造方法および圧電振動子 - Google Patents

圧電振動片の製造方法および圧電振動子 Download PDF

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Abstract

【課題】
振動部と枠部との間に貫通溝を有する圧電振動片を製造する上で、振動部と枠部との間に形成する貫通溝の幅を狭くすることができる製造方法を提供する。
【解決手段】
振動部14と、この振動部14を囲む枠部16とを備え、前記振動部14と前記枠部16との間に貫通溝26を設ける圧電振動片10の製造方法であって、前記振動部14と前記貫通溝26を構成する部位に対応した圧電基板12の厚さをケミカルエッチングにより調整し、厚さを調整された圧電基板12に対してケミカルエッチングを施して貫通溝26を構成することを特徴とする。
【選択図】 図2

Description

本発明は、圧電振動片の製造方法および圧電振動子に係り、特に振動部と枠部とから構成され、前記振動部と枠部との間に貫通溝が形成される圧電振動片の製造方法および本発明の製造方法により製造された圧電振動片を実装する圧電振動子に関する。
振動部の周囲に枠部を設け、前記振動部と前記枠部との間に貫通溝を形成する圧電振動片は通常、ケミカルエッチングにより製造される(図4参照)。ケミカルエッチングにより圧電振動片を製造する場合、まず圧電基板1の表面に水晶をケミカルエッチングする際の耐食膜2となる金属膜を成形し、その上にフォトレジストを塗布する。その後、振動部や枠部の形状が得られるように露光・現像し、レジストが除去された部分の金属膜をケミカルエッチングして所望する形状の耐食膜(第1の耐食膜)を得る(S1)。そして第1の耐食膜2が形成されていない水晶部分をケミカルエッチングして、振動部6と枠部5との間に溝3を形成し、最終的に貫通溝4とする(S2〜S5)。次に、第1の耐食膜を除去し(S6)、上述したフォトリソグラフィ工程と同様にして枠部5となる圧電基板1の表裏面に第2の耐食膜7を形成する(S7)。そして、振動部6となる圧電基板1の表裏面をケミカルエッチングして所定の厚さに形成する(S8)。この後、第2の耐食膜7を除去し(S9)、振動部6の表裏面に励振電極8を形成することにより圧電振動片9を構成することができる(S10)。
エッチングにより圧電振動片を製造することについて開示されたものとして、例えば特許文献1を挙げることができる。
特開平7−212171号公報
圧電振動子には、水晶をはじめとして様々な圧電材料が利用されており、その基板として、例えばATカット圧電基板等が利用されている。このATカット圧電基板は、一辺がX軸(電気軸)に平行で、他辺がX軸の回りにZ軸(光軸)から約35度の傾きをつけて切断されたものである。ところで水晶をケミカルエッチングする場合、結晶方向によって異なるエッチングレートを有することとなる。すなわち水晶をケミカルエッチングする場合、異方性エッチングとなる特性がある。このため図5に示すように、水晶から切り出されたATカット圧電基板1をケミカルエッチングすると、エッチングにより形成される溝2は一方に大きな傾斜を持つものとなる。
したがって、上記のような製造工程により枠付きの圧電振動片を製造する場合には、次のような課題が生じる。第1には、貫通溝の幅を広くしなければならないので、振動部の平面サイズを小さくしなければならなくなる。具体的には、貫通溝の幅を狭くすると、圧電基板の表面側および裏面側から形成される溝が水平方向にずれてしまい、溝が貫通しない場合が生じる。したがって圧電基板が厚いほど貫通溝の幅を広くし、溝が連通するようにしなければならない。ところが圧電振動片を実装するパッケージサイズに制約がある場合は、貫通溝の幅を広くすると、代償として振動部の平面サイズを小さくしなければならなくなる。ところが、振動部の平面サイズを小さくした場合、クリスタルインピーダンス(CI)値が大きくなるという問題が生じる。
第2には、蓋体を枠部に接合するために、枠部の幅を広くしなければならないので、振動部の平面サイズを小さくしなければならない。具体的には、貫通溝が圧電基板に斜めに形成されるので、枠部は、表面側の幅と裏面側の幅とが異なって形成される。ところがチップサイズパッケージ(CSP)の圧電振動子とするために、枠部に蓋体を接合しなければならないので、枠部の表面および裏面は、それぞれの面において蓋体の接合が可能な幅を有していなければならない。すなわち蓋体を接合するために枠部を広くしなければならない。したがって圧電振動片を実装するパッケージサイズに制約がある場合は、枠部の幅を広くする分だけ振動部の平面サイズを小さくしなければならない。ところが、振動部の平面サイズを小さくした場合、クリスタルインピーダンス(CI)値が大きくなるという問題が生じる。
第3には、圧電振動片をエッチング液に浸漬して形成するので、圧電振動片の周波数温度特性が悪くなってしまう。具体的には、振動部は、有限な大きさであることから、主振動以外にスプリアス振動が存在する。例えば、振動部がATカットされた水晶板であれば、厚みすべり振動を主振動とする振動以外に、この主振動の周波数の近傍にスプリアス振動が存在する。このため振動部は、主振動とスプリアス振動とが結合しないように外形寸法の加工精度が決められる。しかし貫通溝を形成するために、圧電基板をエッチング液に長時間浸漬しているとサイドエッチングにより外形寸法に誤差が生じてしまう。サイドエッチングが生じやすい箇所としては、X軸に沿った方向、特に+X方向に形成される角部にあたる箇所を挙げることができる。このようにサイドエッチングにより振動部の加工精度が悪くなった場合、圧電振動片の周波数温度特性が悪くなるという問題がある。
本発明は、上述した課題を解決するためになされたもので、振動部と枠部との間に形成する貫通溝の幅を狭くすると共に、ケミカルエッチングの際に生じるサイドエッチングの影響を少なくし、振動部の加工精度を向上させることができる圧電振動片の製造方法を提供することを目的とする。
また、本発明は、上記方法を用いて製造した圧電振動片から圧電振動子を得ることを目的とする。
圧電基板をケミカルエッチングする際に生じる傾斜面の角度は、使用する圧電基板のカット角度によって略一定の数値となる。したがって、振動部と枠部との間の貫通溝の幅を狭くするためには、貫通溝を構成する部分の圧電基板の厚さを薄くすれば良いということになる。このことを踏まえ、上記目的を達成するための本発明に係る圧電振動片の製造方法は、振動部と、この振動部を囲む枠部とを備え、前記振動部と前記枠部との間に貫通溝を設ける圧電振動片の製造方法であって、前記振動部と前記貫通溝を構成する部位に対応した圧電基板の厚さをケミカルエッチングにより予め定めた厚さに調整し、厚さを調整された圧電基板に対して再度ケミカルエッチングを施して貫通溝を構成することを特徴とした。
このような方法によれば、貫通溝を形成する前に、圧電基板の厚さ調整を行うため、貫通溝を形成する部分の厚さを薄くすることができる。そして、厚さを薄くした圧電基板に対して貫通溝を形成するため、貫通溝を形成するために必要とする幅を狭くすることが可能となる。また、圧電基板の厚さを調整した後に貫通溝を形成するため、振動部となる部位の端部がエッチング液に晒されている時間が短くなる。このため、振動部の端部(側面)に生じるサイドエッチングが少なくなり、振動部の加工精度を向上させることが可能となる。
より具体的には、振動部と、この振動部を囲む枠部とを備え、前記振動部と前記枠部との間に貫通溝を設ける圧電振動片の製造方法であって、圧電基板に対して前記枠部の形状に応じた第1の耐食膜を形成し、前記振動部と前記貫通溝とを構成する部位をケミカルエッチングして発振周波数に応じた厚さにする工程と、圧電基板における前記貫通溝を構成する部位以外の部位に第2の耐食膜を形成し、ケミカルエッチングにより貫通溝を形成する工程と、を有することを特徴とすれば良い。
このような方法であっても、貫通溝を形成する部分の圧電基板の厚さを予め薄くすることができる。そして、厚さを薄くした圧電基板に対して貫通溝を形成するため、貫通溝を形成するために必要とする幅を狭くすることが可能となる。また、圧電基板の厚さを調整した後に貫通溝を形成するため、振動部となる部位の端部がエッチング液に晒されている時間が短くなる。このため、振動部の端部(側面)に生じるサイドエッチングが少なくなり、振動部の加工精度を向上させることが可能となる。
さらに、上記のような方法で圧電振動片を製造する場合、前記第2の耐食膜により圧電振動片の電極を形成すると良い。こうすることにより、第2の耐食膜を除去する工程、圧電基板に対して電極パターンを形成する工程を省くことができる。このため、生産性を向上させることが可能となる。
また、本発明の圧電振動子は、上記方法により製造された圧電振動片を蓋体で挟んだことを特徴とするものである。このような構成の圧電振動子は、蓋体を圧電振動片の枠部に直接接合し、これを圧電振動子とするため、チップサイズパッケージとすることができる。そして振動部の厚さを枠部の厚さよりも薄くするようにしているため、平面形状の蓋体を使用することができる。したがって、圧電振動子を、小型・薄型化することができるとともに、構成部品が削減されるため、製造コストの削減にもつながる。また圧電振動子は、圧電振動片に貫通溝が形成されていることから、圧電振動子にかかる応力が振動部に伝播されることがなく、一定の発振周波数を出力することができる。
以下に、本発明の圧電振動片の製造方法および圧電振動子に係る実施形態について説明する。図1は圧電振動片の説明図であり、図1(A)は概略平面図、図1(B)は同図(A)のA−A線における概略断面図、図1(C)は同図(A)のB−B線における概略断面図をそれぞれ示す。
圧電振動片10は、励振部分となる振動部14を有している。振動部14には、対向する側面の中央部から支持部24が突設されており、支持部24の先端は、振動部14を囲む枠部16の内側面に接続されている。すなわち圧電振動片10は、図1(A)に示すXZ平面内に振動部14および枠部16が形成され、振動部14と枠部16との間に貫通溝26が設けられた形状を成す。また、振動部14は、予め定めた厚さ、具体的には、発振周波数に応じて定められた厚さに設定されており、その表面および裏面に励振電極18が形成される。また、枠部16を構成する圧電基板12は、振動部14を構成する圧電基板12よりも厚く形成されている。さらに、枠部16には、振動部14に形成した励振電極18と導通する引き出し電極22及び接続電極20が形成されている。
次に、圧電振動片10の製造方法について説明する。図2は、圧電振動片10の製造工程を示す図である。まず、圧電基板(圧電ウェハ)12の表面において、枠部16となる部位に第1の耐食膜30を形成する。本工程における耐食膜としては、金属、酸化金属等の薄膜を採用すると良い。そして、耐食膜の膜付け(成膜)方法の一例として次のような工程による成膜方法を挙げることができる。まず、圧電基板12の表面を鏡面研磨する。次に、圧電基板12の表裏面(全面)に対して、真空蒸着、スパッタ等により耐食膜材料を成膜する。次に、耐食膜材料の上面にフォトレジストをコーティングする。なお、フォトレジストのコーティングは、スピンコート、ロールコート、ディップコート等によれば良い。次に、レジスト中の溶剤を除去するためにベーキングを行う。次に、形成する耐食膜の形状(パターン)に応じたフォトマスクを用いて露光を行う。その後、現像し、溶剤水分等を除去するためのベーキングを行い、エッチング液により耐食膜を所望の形状にエッチングする。エッチング終了後、フォトレジストを除去することにより、所望する形状の耐食膜を得ることができる(S100)。
上述のようにして枠部16となる部位に第1の耐食膜30を形成した後、圧電基板12の表裏面をケミカルエッチングし、圧電基板12が所定の厚さになるまでエッチングする。圧電基板12の厚さは、圧電振動片10に要求される発振周波数に応じて設定されるものであり、その厚さが厚ければ発振周波数が低く、薄ければ発振周波数が高くなる。そして、圧電基板12を所定の厚さにするには、圧電基板12のエッチングレートを予め求めておき、このエッチングレートに基づいてエッチングを行うようにすれば良い(S110)。
枠部16を残して圧電基板12をエッチングした後、枠部16に成膜した耐食膜30を除去する(S120)。
その後、枠部16及び振動部14を構成する部位に第2の耐食膜40を形成する(S130)。そして、圧電基板12のうち、第2の耐食膜40を成膜していない部位をケミカルエッチングして圧電基板12内に振動部14を形成する。このエッチングにより、圧電基板12内に、振動部14と枠部16、及び振動部14と枠部16とを隔てる貫通溝26を形成するのである。なお、エッチングレートを考慮して、枠部16に片側傾斜面を有する突起部25を残すようにすると良い。このような形状とすることにより、突起部25の傾斜面を利用して電極パターンを形成することが可能となる。傾斜面に電極を形成することによれば、引き出し電極の断線を防止することができる(S140)。
圧電基板12を所望の形状に形成した後、第2の耐食膜40を除去し(S150)、圧電基板12の表裏面に励振電極18、引き出し電極22、接続電極20(図1参照)等の電極パターンを形成する(S160)。
上記のような工程により圧電振動片10を製造することによれば、従来の製造方法によって製造する圧電振動片に比べ、振動部14と枠部16との間に形成した貫通溝26の幅を狭くすることができる。これは、エッチングにより貫通溝を形成する圧電基板12の厚さを相対的に薄くしたことに起因する。すなわち、厚さHの圧電基板12を貫通するための溝幅としては幅Lを必要としていた。これに対し、S100に示したように、最初に貫通溝26を含む振動部14の厚さ調整を行うことで、貫通溝26を形成する圧電基板12の厚さを擬似的に、厚さhの分だけ薄くすることができるのである。こうすることにより、貫通溝26の幅として幅Lを必要としていたものを幅lに抑えることが可能となる。したがって、振動部14の表面サイズ(幅)は、数式1にあたる分だけ、従来よりも大きく形成することが可能となる。したがって、圧電振動片10のCI値を小さくすることが可能となる。
Figure 2006314007
また、上記のような方法により圧電振動片10を形成することによれば、貫通溝26を形成する際に、振動部14がエッチング液に晒される時間が短くなる。このため、振動部14に対するサイドエッチングが少なくなり、振動部14の加工精度が向上する。したがって、圧電振動片10の周波数温度特性を向上させることができる。
また、上述した圧電振動片の製造方法では、S140の工程を経た後に第2の耐食膜40を除去し、その後に電極パターンを形成する旨記載した。しかしながら、第2の耐食膜40を貫通溝26となる部位以外の箇所に成膜し、この第2の耐食膜40をそのまま電極パターンとする、若しくは第2の耐食膜40を利用して電極パターンを形成するようにしても良い。このような手法を採ることにより、耐食膜の除去、電極パターンの形成といった工程を省くことができ、生産性を向上させることが可能となる。
また、上述した圧電振動片の製造方法は、圧電材料として水晶を採用し、ATカットされた圧電基板を例に挙げて説明した。しかしながら、上述した圧電振動片の製造方法は、チタン酸ジルコン酸鉛等の他の圧電材料を用いた場合であっても適用することができる。また、BTカット等の他のカット各の圧電基板に対しても有効であると考えられる。
また、本発明の製造方法により製造された圧電振動片の特定は、圧電振動片10における枠部16の厚さHと、エッチングにおける傾斜面の傾斜角度θ、及び貫通溝26の幅Lから行うことができる。すなわち、枠部16の厚さHと傾斜面の角度θとより貫通溝26の幅Lを算出することができる。そして、算出された貫通溝26の幅Lに対して実測した貫通溝の幅が、lにあたる分だけ狭くなっていた場合には、本発明の方法により製造された圧電振動片であるということになる。
次に、図3を参照して本発明の圧電振動子について説明する。本実施形態の圧電振動子は、上記S100〜S160の工程により製造した圧電振動片10を、平板状の蓋体50,52で挟み込んでCSP(Chip Size Package)の圧電振動子100としたものである。このような構成の圧電振動子100では、前記接続電極20は適宜引き回されて蓋体52に設けられた実装電極54と電気的に接続される。
ところで、従来のCSP圧電振動子は蓋体に凹部を形成し、蓋体が振動部に接触することを回避していた。しかし、上記構成の圧電振動子100は、圧電振動片10の振動部14を枠部16よりも薄型としているため、平板状の蓋体50,52を枠部16に直接接合した場合であっても振動部14の励振を阻害することが無い。したがって、蓋体50,52に凹部を形成する必要がなくなる分だけ蓋体自体を薄型化することができ、圧電振動子100自体も薄型化されることとなる。
また、圧電振動片10の振動部14と枠部16との間に貫通溝26(図1参照)を形成することにより、蓋体50,52と圧電振動片10との熱膨張係数の違い等によって生じる応力が、振動部14へ伝播することを避けることができる。したがって、振動部14が温度変化によってパッケージに生じる応力の影響を受けにくくなり、温度特性を良好に保つことが可能となる。
圧電振動片の説明図である。 本発明の圧電振動片の製造方法に係る説明図である。 本発明の圧電振動子に係る概略断面図である。 従来の圧電振動片の製造方法に係る説明図である。 水晶基板をケミカルエッチングした場合の説明図である。
符号の説明
10………圧電振動片、12………圧電基板、14………振動部、16………枠部、18………励振電極、20………接続電極、22………引き出し電極、24………支持部、26………貫通溝。

Claims (4)

  1. 振動部と、この振動部を囲む枠部とを備え、前記振動部と前記枠部との間に貫通溝を設ける圧電振動片の製造方法であって、
    前記振動部と前記貫通溝を構成する部位に対応した圧電基板の厚さをケミカルエッチングにより予め定めた厚さに調整し、
    厚さを調整された圧電基板に対して再度ケミカルエッチングを施して貫通溝を構成することを特徴とする圧電振動片の製造方法。
  2. 振動部と、この振動部を囲む枠部とを備え、前記振動部と前記枠部との間に貫通溝を設ける圧電振動片の製造方法であって、
    圧電基板に対して前記枠部の形状に応じた第1の耐食膜を形成し、前記振動部と前記貫通溝とを構成する部位をケミカルエッチングして発振周波数に応じた厚さにする工程と、
    圧電基板における前記貫通溝を構成する部位以外の部位に第2の耐食膜を形成し、ケミカルエッチングにより貫通溝を形成する工程と、
    を有することを特徴とする圧電振動片の製造方法。
  3. 前記第2の耐食膜により圧電振動片の電極を形成することを特徴とする請求項2に記載の圧電振動片の製造方法。
  4. 請求項1乃至請求項3のいずれかに記載の方法を用いて製造した圧電振動片を蓋体で挟んだことを特徴とする圧電振動子。
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Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2009118223A (ja) * 2007-11-07 2009-05-28 Epson Toyocom Corp 圧電デバイス
JP2009246940A (ja) * 2008-03-13 2009-10-22 Epson Toyocom Corp 圧電振動片、圧電デバイス及び圧電振動片の製造方法
JP2012156978A (ja) * 2011-01-05 2012-08-16 Nippon Dempa Kogyo Co Ltd Atカットの水晶振動片、水晶デバイス及び水晶振動片の製造方法
WO2012144305A1 (ja) * 2011-04-18 2012-10-26 コニカミノルタホールディングス株式会社 圧電アクチュエータおよびそれを備えたインクジェットヘッド

Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2001119264A (ja) * 1999-10-15 2001-04-27 Nippon Dempa Kogyo Co Ltd 水晶振動子
JP2003101377A (ja) * 2001-09-19 2003-04-04 Daishinku Corp 圧電振動デバイス
JP2003174352A (ja) * 2001-12-06 2003-06-20 Seiko Epson Corp 圧電振動片、圧電振動子及び圧電発振器
JP2005033294A (ja) * 2003-07-08 2005-02-03 Toyo Commun Equip Co Ltd 水晶振動素子

Patent Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2001119264A (ja) * 1999-10-15 2001-04-27 Nippon Dempa Kogyo Co Ltd 水晶振動子
JP2003101377A (ja) * 2001-09-19 2003-04-04 Daishinku Corp 圧電振動デバイス
JP2003174352A (ja) * 2001-12-06 2003-06-20 Seiko Epson Corp 圧電振動片、圧電振動子及び圧電発振器
JP2005033294A (ja) * 2003-07-08 2005-02-03 Toyo Commun Equip Co Ltd 水晶振動素子

Cited By (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2009118223A (ja) * 2007-11-07 2009-05-28 Epson Toyocom Corp 圧電デバイス
JP2009246940A (ja) * 2008-03-13 2009-10-22 Epson Toyocom Corp 圧電振動片、圧電デバイス及び圧電振動片の製造方法
JP2013138512A (ja) * 2008-03-13 2013-07-11 Seiko Epson Corp 振動片の製造方法
JP2012156978A (ja) * 2011-01-05 2012-08-16 Nippon Dempa Kogyo Co Ltd Atカットの水晶振動片、水晶デバイス及び水晶振動片の製造方法
WO2012144305A1 (ja) * 2011-04-18 2012-10-26 コニカミノルタホールディングス株式会社 圧電アクチュエータおよびそれを備えたインクジェットヘッド
JPWO2012144305A1 (ja) * 2011-04-18 2014-07-28 コニカミノルタ株式会社 圧電アクチュエータおよびそれを備えたインクジェットヘッド
JP5582251B2 (ja) * 2011-04-18 2014-09-03 コニカミノルタ株式会社 圧電アクチュエータおよびそれを備えたインクジェットヘッド
US8979249B2 (en) 2011-04-18 2015-03-17 Konica Minolta, Inc. Piezoelectric actuator and ink-jet head including same

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