JP5569112B2 - 炭化珪素単結晶ウェハの製造方法及びこの方法で得られた炭化珪素単結晶ウェハ - Google Patents
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Description
(1) 炭化珪素単結晶インゴットから切り出されたウェハ表面を両面研磨して、炭化珪素単結晶ウェハを製造する炭化珪素単結晶ウェハの製造方法であって、前記両面研磨を各段階で徐々に粒度を小さくした砥粒を用いる多段階で行うと共に、少なくとも第1段の両面研磨においては前記の切り出されたウェハの厚さよりも大きい厚さを有するウェハキャリアを用い、前記ウェハキャリアの厚さTcと前記切り出されたウェハの厚さTwとの厚み差ΔTc-w=Tc−Twが前記切り出されたウェハのそりBの大きさ以上となるようにウェハの両面を研磨することを特徴とする炭化珪素単結晶ウェハの製造方法。
[実施例1]
図3は、本発明の低抵抗率SiC単結晶基板を製造するための、改良レーリー法によるSiC単結晶成長装置の一例である。
先ず、この単結晶成長装置について簡単に説明する。結晶成長は、SiC単結晶からなる種結晶4の上にSiC粉末からなる原料5を昇華再結晶化させることにより行われる。種結晶4のSiC単結晶は、黒鉛製坩堝6の蓋7の内面に取り付けられる。SiC粉末の原料5は、黒鉛製坩堝6の内部に充填されている。このような黒鉛製坩堝6は、二重石英管8の内部に、黒鉛の支持棒9により設置される。黒鉛製坩堝6の周囲には、熱シールドのための黒鉛製フェルト10が設置されている。二重石英管8は、真空排気装置16により高真空排気(10-3Pa以下)することができ、かつ、アルゴンガス配管12からガス流量調節計13を介して、また、窒素ガス配管14からガス流量調節計15を介して、内部雰囲気をアルゴンガス及び窒素ガスにより圧力制御することができる。また、二重石英管8の外周には、ワークコイル11が設置されており、高周波電流を流すことにより黒鉛製坩堝6を加熱し、原料及び種結晶を所望の温度に加熱することができる。坩堝温度の計測は、坩堝上部及び下部を覆うフェルトの中央部に直径2〜4mmの光路を設け、坩堝上部及び下部からの光を取り出し、二色温度計を用いて行う。坩堝下部の温度を原料温度、坩堝上部の温度を種結晶温度とする。
先ず、予め成長しておいたSiC単結晶インゴットから、口径50mm、厚さ1mmの{0001}面を主面とした4H型のSiC単結晶基板を切り出し、研磨後、種結晶4とした。この種結晶4を、黒鉛製坩堝6の蓋7の内面に取り付けた。黒鉛製坩堝6の内部には、原料(SiC粉末)5を充填した。次いで、原料5を充填した黒鉛製坩堝6を、種結晶4を取り付けた蓋7で閉じ、黒鉛製フェルト10で被覆した後、黒鉛製支持棒9の上に乗せ、二重石英管8の内部に設置した。そして、二重石英管8の内部を真空排気した後、ワークコイル11に電流を流し、原料温度を2000℃まで上げた。その後、雰囲気ガスとして窒素を45%含むアルゴンガスを流入させ、二重石英管8内圧力を約80kPaに保ちながら、原料温度を目標温度である2400℃まで上昇させた。成長圧力である1.3kPaには約30分かけて減圧し、その後、約50時間成長を続けた。この際の坩堝6内の温度勾配は15℃/cmで、成長速度は平均で約0.6mm/時であった。得られた結晶の口径は51.5mmで、高さは30mm程度であった。
切り出された1つのウェハの厚さは、280μmであったが、同時にそり・うねり測定したところ、ウェハのそりが67μmあった。このウェハを下記の研磨工程で研磨した。
この条件で2時間研磨したところ、ウェハとウェハキャリアは同時に研磨されて、厚さが245μmになった。この段階でウェハを取り出してそり・うねり測定したところ、そりは3μmに減少していた。
引き続き、第2段の両面研磨による研磨傷が消えるまで第3段の両面研磨を行った。この第3段の両面研磨においては粒度1μmのダイヤモンドスラリーを用い、また、錫定盤を用いた。
次に、上記研磨工程を経て作製したSiC単結晶ウェハを用いて、その表面にSiC薄膜をエピタキシャル成長させる実験を行った。CVD法によるSiC薄膜のエピタキシャル成長条件は、成長温度1500℃、シラン(SiH4)、プロパン(C3H8)、水素(H2)の流量が、それぞれ5.0×10-9m3/sec、3.3×10-9m3/sec、5.0×10-5m3/secであった。成長圧力は大気圧とした。成長時間は2時間で、膜厚としては約5μm成長した。
〔有機金属化学気相成長(MOCVD)法によるウェハ上へのエピタキシャルSiC薄膜の成長〕
また、上記と同様に作製したSiC単結晶からオフ角度が0°の(0001)面SiC単結晶基板を厚さ約0.4mmで切り出し、該基板両面を上記と同様の手順で研磨を施した。前記研磨工程において、切り出しされウェハの厚さは356μmであり、そりは、50μmであった。第1段の研磨で用いたウェハキャリアの厚さは、400μmである。第1段の研磨後のウェハの厚さは、320μmであった。また、そりは、5μmであった。全ての研磨が終了した研磨工程後のウェハの厚さは、310μmで、その反りは、5μmであった。また、前記SiC単結晶ウェハについて、その表面を約530℃の溶融KOHでエッチングし、光学顕微鏡により積層欠陥に対応するエッチピットを観察したところ、ウェハ表面中の平均積層欠陥密度として23cm-1の値が得られた。
上記の実施例1でSiC単結晶のインゴットから切り出された、他の1つのウェハ(厚さ280μm及びそり67μm)を用い、両面研磨のウェハキャリアとして、厚さ280μmのウェハキャリアを用いた。それ以外は、前記実施例1と同様にして両面研磨とその後のCMP研磨を行った。また、両面練磨による研磨工程ではその第1段の両面研磨後のウェハを取り出して厚さ測定とそり・うねり測定を行った。その結果は、厚さが245μmであって、そりが6μmに減少していた。
上記の実施例1でSiC単結晶のインゴットから切り出された、他の1つのウェハ(厚さ280μm及びそり67μm)を用い、両面研磨のウェハキャリアとして、厚さ250μmのキャリアを用いた。それ以外は、前記実施例1と同様にして両面研磨とその後のCMP研磨を行った。また、両面練磨による研磨工程ではその第1段の両面研磨後のウェハを取り出して厚さ測定とそり・うねり測定を行った。その結果は、厚さが245μmであって、そりが45μmに減少していた。
Claims (2)
- 炭化珪素単結晶インゴットから切り出されたウェハ表面を両面研磨して炭化珪素単結晶ウェハを製造する炭化珪素単結晶ウェハの製造方法であって、
前記両面研磨を各段階で徐々に粒度を小さくした砥粒を用いる多段階で行うと共に、少なくとも第1段の両面研磨においては前記の切り出されたウェハの厚さよりも大きい厚さを有するウェハキャリアを用い、前記ウェハキャリアの厚さTcと前記切り出されたウェハの厚さTwとの厚み差ΔTc-w=Tc−Twが前記切り出されたウェハのそりBの大きさ以上となるようにウェハの両面を研磨することを特徴とする炭化珪素単結晶ウェハの製造方法。 - 請求項1に記載の炭化珪素単結晶ウェハの製造方法で製造された炭化珪素単結晶ウェハであって、平均積層欠陥密度が30cm-1以下であることを特徴とする炭化珪素単結晶ウェハ。
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