JP5552420B2 - 回転速度を測定するためのマイクロメカニクス上の慣性センサー - Google Patents
回転速度を測定するためのマイクロメカニクス上の慣性センサー Download PDFInfo
- Publication number
- JP5552420B2 JP5552420B2 JP2010501471A JP2010501471A JP5552420B2 JP 5552420 B2 JP5552420 B2 JP 5552420B2 JP 2010501471 A JP2010501471 A JP 2010501471A JP 2010501471 A JP2010501471 A JP 2010501471A JP 5552420 B2 JP5552420 B2 JP 5552420B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- mass
- speed sensor
- rotational speed
- sensor according
- anchor
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Active
Links
- 230000033001 locomotion Effects 0.000 claims description 41
- 230000008878 coupling Effects 0.000 claims description 34
- 238000010168 coupling process Methods 0.000 claims description 34
- 238000005859 coupling reaction Methods 0.000 claims description 34
- 238000001514 detection method Methods 0.000 claims description 23
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims description 22
- 239000000463 material Substances 0.000 claims description 11
- 230000002829 reductive effect Effects 0.000 claims description 11
- 230000000694 effects Effects 0.000 claims description 5
- 230000004913 activation Effects 0.000 claims description 3
- 230000009471 action Effects 0.000 description 11
- 230000035882 stress Effects 0.000 description 8
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 7
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 7
- 238000005452 bending Methods 0.000 description 6
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 6
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 5
- 239000000725 suspension Substances 0.000 description 5
- 230000008901 benefit Effects 0.000 description 4
- 230000005540 biological transmission Effects 0.000 description 4
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 4
- 238000000034 method Methods 0.000 description 4
- 230000035945 sensitivity Effects 0.000 description 4
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 3
- 230000000737 periodic effect Effects 0.000 description 3
- 229910021420 polycrystalline silicon Inorganic materials 0.000 description 3
- 229920005591 polysilicon Polymers 0.000 description 3
- 238000012545 processing Methods 0.000 description 3
- 230000035939 shock Effects 0.000 description 3
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 3
- 239000003990 capacitor Substances 0.000 description 2
- 238000013461 design Methods 0.000 description 2
- 230000007613 environmental effect Effects 0.000 description 2
- 230000005284 excitation Effects 0.000 description 2
- 230000010355 oscillation Effects 0.000 description 2
- 230000036961 partial effect Effects 0.000 description 2
- 230000008569 process Effects 0.000 description 2
- 230000009467 reduction Effects 0.000 description 2
- 238000000926 separation method Methods 0.000 description 2
- 230000001133 acceleration Effects 0.000 description 1
- 230000003321 amplification Effects 0.000 description 1
- 238000004873 anchoring Methods 0.000 description 1
- 230000002238 attenuated effect Effects 0.000 description 1
- 239000003518 caustics Substances 0.000 description 1
- 230000008859 change Effects 0.000 description 1
- 230000001419 dependent effect Effects 0.000 description 1
- 239000003814 drug Substances 0.000 description 1
- 230000003203 everyday effect Effects 0.000 description 1
- 239000003365 glass fiber Substances 0.000 description 1
- 238000009413 insulation Methods 0.000 description 1
- 239000013081 microcrystal Substances 0.000 description 1
- 238000003199 nucleic acid amplification method Methods 0.000 description 1
- 230000003534 oscillatory effect Effects 0.000 description 1
- 230000002441 reversible effect Effects 0.000 description 1
- SBEQWOXEGHQIMW-UHFFFAOYSA-N silicon Chemical compound [Si].[Si] SBEQWOXEGHQIMW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000004513 sizing Methods 0.000 description 1
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 1
- 230000003068 static effect Effects 0.000 description 1
- 230000008646 thermal stress Effects 0.000 description 1
- 238000013519 translation Methods 0.000 description 1
Images
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01C—MEASURING DISTANCES, LEVELS OR BEARINGS; SURVEYING; NAVIGATION; GYROSCOPIC INSTRUMENTS; PHOTOGRAMMETRY OR VIDEOGRAMMETRY
- G01C19/00—Gyroscopes; Turn-sensitive devices using vibrating masses; Turn-sensitive devices without moving masses; Measuring angular rate using gyroscopic effects
- G01C19/56—Turn-sensitive devices using vibrating masses, e.g. vibratory angular rate sensors based on Coriolis forces
- G01C19/5719—Turn-sensitive devices using vibrating masses, e.g. vibratory angular rate sensors based on Coriolis forces using planar vibrating masses driven in a translation vibration along an axis
- G01C19/5733—Structural details or topology
- G01C19/5755—Structural details or topology the devices having a single sensing mass
- G01C19/5762—Structural details or topology the devices having a single sensing mass the sensing mass being connected to a driving mass, e.g. driving frames
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01C—MEASURING DISTANCES, LEVELS OR BEARINGS; SURVEYING; NAVIGATION; GYROSCOPIC INSTRUMENTS; PHOTOGRAMMETRY OR VIDEOGRAMMETRY
- G01C19/00—Gyroscopes; Turn-sensitive devices using vibrating masses; Turn-sensitive devices without moving masses; Measuring angular rate using gyroscopic effects
- G01C19/56—Turn-sensitive devices using vibrating masses, e.g. vibratory angular rate sensors based on Coriolis forces
- G01C19/5705—Turn-sensitive devices using vibrating masses, e.g. vibratory angular rate sensors based on Coriolis forces using masses driven in reciprocating rotary motion about an axis
- G01C19/5712—Turn-sensitive devices using vibrating masses, e.g. vibratory angular rate sensors based on Coriolis forces using masses driven in reciprocating rotary motion about an axis the devices involving a micromechanical structure
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Radar, Positioning & Navigation (AREA)
- Remote Sensing (AREA)
- Gyroscopes (AREA)
Description
自動車構造体 ナビゲーション、運転者補助システム、ESP Roll Over Detection
飛行機構造体 ナビゲーション
軍事上の用途 ナビゲーション
ロボット工学 測定、操縦
生態臨床医学 移動する流出物の把握(運動経過の把握)
生命科学 ナビゲーション、移動する流出物の把握(運動経過の把握)
−フェーダー定数(バネ定数)がkφZの、Z軸(駆動軸、ドライブモード)の回りの回転運動、
−フェーダー定数がkφYの、Y軸(検知軸、サイスモード)の回りの回転運動。
1.質量要素9は、実質的に運動の自由度が2であること:
−速度ベクトルvZ2を有する、Z軸に平行な軸、又はZ軸自体の回りの回転的な運動
−速度場vY2を有する、Y軸に平行な軸、又はY軸自体の回りの回転的な運動
2.質量要素8が、理想的な場合には、自由度が1のみであり、すなわち、速度場vY2を有する、Y軸の回りの回転的な運動であること。
FCor. コリオリ力
m2 第1振動子2の質量
ωX 外から与えられた回転速度(回転率)
VZ2 第1質量の速度
(i)駆動質量は、活性化によって、併進(移動)性の振動をy方向に、又は回転性振動をz−軸回りに伝えることができ、
(ii)検知質量は、x軸の回りに生じる回転Ωの、回転速度センサーへの作用の際、、x−y平面からy軸回りに傾斜し、
駆動質量及び検知質量は、駆動−及び検知構造の中心(Z)の回りに、及び中央アンカーが存在する場合、このアンカーの回りに、鏡対称的及び/又は回転対象的に配置され、(及び)これら質量の一方は、他方の質量よりも(中心から)大きな間隔で備えられ、及び
結合要素が存在し、
(a)検知質量が、駆動質量よりも、中心に対して大きな間隔で存在する場合、x−y平面の駆動要素の振動が、検知要素に伝えられ、しかし、回転Ωがセンサーに作用する際、駆動要素がx−y平面から傾斜することが防止され、又は該傾斜が低減され、又は、
(b)駆動質量が、検知質量よりも、中心に対して大きな間隔で存在する場合、回転Ωがセンサーに作用する際、駆動要素の傾斜が許容され、しかし、x−y平面の駆動要素の振動が検知要素に伝えられることが防止され、又は低減され、及び、
上記質量の内、中心に対して、より大きな間隔を有している方の質量は、少なくとも2個の結合手段によって基材と結合されており、及びx−y平面からの傾斜の戻り運動が、結合要素によって補助されることを特徴とするものである。
fD 一次振動(ドライブ)の共振振動数
kΦZD ドライブ−フェーダー(要素6)のフェーダー定数(バネ定数)
kΦZA ドライブ−フェーダー(要素7)のフェーダー定数
IZZ Z軸回りの質量慣性モーメント)
fS 二次振動(サイス)の共振振動数
kΦYD ドライブ−フェーダー(要素6)のフェーダー定数
kΦYA 外側−フェーダー(要素7)のフェーダー定数(バネ定数)
IYY Y軸回りの質量慣性モーメント)
なお、本発明は、以下の好ましい実施の形態(1)〜(4)をも有する。
(1)結合要素(5)が、フェーダーであり、そのフェーダー定数k ΦZ が、100〜5000×10 -6 Nm/radの範囲、好ましくは1000×10 -6 Nm/rad以下であることを特徴とする本願発明の回転速度センサー。
(2)結合要素(5)が、フェーダーであり、そのフェーダー定数k ΦZ が、フェーダー定数k ΦX 及びフェーダー定数k ΦY よりも、少なくとも因子10だけ高いことを特徴とする本願発明の回転速度センサー。
(3)結合要素(6)が、フェーダーであり、及びそのフェーダー定数k ΦX 、k ΦY 及びk ΦZ が、それぞれ約1〜約1000×10 -6 Nm/radの範囲、及び好ましくは約5〜約50×10 -6 Nm/radの範囲であることを特徴とする本願発明の回転速度センサー。
(4)結合手段(7)がフェーダーであり、及びそのフェーダー定数k ΦX 、k φY 及びk ΦZ が、それぞれ約0.1〜約1000×10 -6 Nm/radの範囲、及び好ましくは約0.5〜約10×10 -6 Nm/radの範囲であることを特徴とする本願発明の回転速度センサー。
2 アンカー箇所
3 検知質量(サイス質量)
4 駆動質量(ドライブ−質量)
5 アンカーフェーダー要素
6 伝達フェーダー要素
7 外側フェーダー要素
8 質量要素
9 質量要素
10 フェーダー構造体
11 フェーダー構造体
12 アンカー箇所
13 基材
14 対向電極A
15 対向電極B
16 プレート
17 アンカー
18 プレート状電極
19 要素
20 アンカー構造
21 固定リング
22 フェーダー
23 機械的構造体
Claims (20)
- 検知のためにセンサーが回転される、回転Ωを検知するための回転速度センサーであって、
前記センサーは、基材、及び基材表面の上側のx−y平面に、実質的に平面状に存在する駆動−及び検知構造を有し、
駆動−及び検知構造は、駆動質量(4)と検知質量(3)を有し、これらは、検知構造の中心(Z)から異なる間隔で、中心(Z)の回りに対称的に配置されており、
駆動質量(4)及び検知質量(3)の振動モードは、部分的に相互に、すなわち、駆動質量(4)から検知質量(3)に、及び検知質量(3)から駆動質量(4)に伝えられることが可能であり、及び部分的に分離され、及び
回転Ωは、検知質量の、駆動−及び検知構造の平面からの傾きを検知することにより検知され、
両質量(3、4)の内、前記中心に対して、より大きな間隔を有する側のものは、コリオリの力の影響下に、前記平面からの傾斜が可能である回転センサーにおいて、
前記傾斜が可能な質量(3、4)は、対称的に配置された外側アンカー(7)によって、前記基材に結合され、該結合により、前記傾斜の戻り運動が、外側アンカー(7)によって補助されることを特徴とする回転速度センサー。 - (i)駆動質量(4)は、活性化によって、並進性の振動をy方向に、又は回転性振動をz−軸回りに伝えることができ、
(ii)検知質量(3)は、x軸の回りに生じる回転Ωが、回転速度センサーに作用する際、x−y平面からy軸回りに傾斜する、
ことを特徴とする請求項1に記載の回転速度センサー。 - 駆動質量(4)及び検知質量(3)は、中心(Z)の回りに、鏡対称的及び/又は回転対象的に配置され、及び前記質量(3及び4)の一つが、その径方向軸に配置された重心に関し、他方の質量よりも、径方向に大きな間隔で中央部に設けられたアンカー(1)に配置されていることを特徴とする請求項1又は2に記載の回転速度センサー。
- 検知質量は、中心(Z)に対して、駆動質量よりも大きな間隔で存在し、
結合要素(5、6)が存在し、該結合要素は、x−y平面の駆動質量の振動を、検知質量に伝えるが、しかし、駆動要素が、回転Ωのセンサーに及ぼす影響で、x−y平面から傾くことを防止し、又はこの傾きを最小限にすることを特徴とする請求項1〜3の何れか1項に記載の回転速度センサー。 - 駆動質量が、検知質量よりも、中心(Z)に対して大きな間隔で存在し、
結合要素(5、6)が存在し、該結合要素(5、6)は、回転Ωがセンサーに作用する際、駆動要素の所定の傾斜を許容するが、しかし、x−y平面内の駆動要素の振動が、検知要素に伝わることを防止するか、又は低減させることを特徴とする請求項1〜3の何れか1項に記載の回転速度センサー。 - 中心に近い方に位置する質量のための戻りモーメントを発生させる手段が設けられていることを特徴とする請求項1〜5の何れかに記載の回転速度センサー。
- 中心に近い方に位置する質量が、アンカー構造(1)によって、基材と結合されていることを特徴とする請求項1〜6の何れか1項に記載の回転速度センサー。
- 前記アンカー構造が、中央部に設けられたアンカー(1)であるか、又は複数部分に分けられたアンカー(17)であり、前記アンカー構造は、駆動−及び検知構造のy軸に関し、及び場合により、x軸にも関して、鏡対象的に設けられていることを特徴とする請求項7に記載の回転速度センサー。
- 戻りモーメントを発生させるための手段が、静電学的手段であることを特徴とする請求項1〜6の何れか1項に記載の回転速度センサー。
- 戻りモーメントを発生させるための手段が、反対向きに設けられた電極によって形成されており、該電極は、基材及び中心に近い方に位置する質量に備えられていることを特徴とする請求項9に記載の回転速度センサー。
- アンカー構造が、内部の固定リング(21)を有し、固定リング(21)は、中心に近い方に位置する質量のスペース内に存在するフェーダー(22)によって、該スペースに設けられ、及び応力を切り離す機械的構造体(23)によって、アンカー構造(20)に固定されていることを特徴とする請求項7又は8に記載の回転速度センサー。
- 前記質量(3、4)の内、中央部に設けられたアンカー(1)に対してより大きな間隔を有する方が、少なくとも2つの結合手段(7)によって、基材(2)と結合され、該結合により、x−y平面からの傾きの戻りが、結合手段によって補助されることを特徴とする請求項1〜11の何れか1項に記載の回転速度センサー。
- 駆動質量が、回転振動を行なうことを特徴とする請求項1〜12の何れか1項に記載の回転速度センサー。
- 駆動質量が枠の形状を有するか、又は相互に結合されているか、又は相互に結合されていない2つ以上の部分要素から構成されていることを特徴とする請求項1〜13の何れか1項に記載の回転速度センサー。
- 検知質量が、枠の形状を有するか、又は相互に結合されているか、又は相互に結合されていない2つ以上の部分要素から構成されていることを特徴とする請求項1〜13の何れか1項に記載の回転速度センサー。
- 結合要素(5)が、中央アンカーと検知質量の間に存在し、及びx−y平面の検知質量の回転が、実質的に阻止されるように形成されていることを特徴とする請求項1〜3、5〜7及び12〜15の何れか1項に記載の回転速度センサー。
- 結合要素(5)が、フェーダーであり、そのフェーダー定数kΦZが、100〜5000×10-6Nm/radの範囲、好ましくは1000×10-6Nm/rad以下であることを特徴とする請求項16に記載の回転速度センサー。
- 結合要素(6)が、駆動質量(4)と検知質量(3)の間に存在し、及び駆動質量のx−y−方向の振動が、検知質量に伝えられない又は部分的にしか伝えられないことを特徴とする請求項1〜3及び5〜14の何れか1項に記載の回転速度センサー。
- 結合要素(6)が、フェーダーであり、及びそのフェーダー定数kΦX、kΦY及びkΦZが、それぞれ約1〜約1000×10-6Nm/radの範囲、及び好ましくは約5〜約50×10-6Nm/radの範囲であることを特徴とする請求項18に記載の回転速度センサー。
- 結合手段(7)がフェーダーであり、及びそのフェーダー定数kΦX、kφY及びkΦZが、それぞれ約0.1〜約1000×10-6Nm/radの範囲、及び好ましくは約0.5〜約10×10-6Nm/radの範囲であることを特徴とする請求項1に記載の回転速度センサー。
Applications Claiming Priority (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DE102007017209.7A DE102007017209B4 (de) | 2007-04-05 | 2007-04-05 | Mikromechanischer Inertialsensor zur Messung von Drehraten |
DE102007017209.7 | 2007-04-05 | ||
PCT/EP2008/053409 WO2008122502A1 (de) | 2007-04-05 | 2008-03-20 | Mikromechanischer inertialsensor zur messung von drehraten |
Publications (3)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2010523954A JP2010523954A (ja) | 2010-07-15 |
JP2010523954A5 JP2010523954A5 (ja) | 2013-08-08 |
JP5552420B2 true JP5552420B2 (ja) | 2014-07-16 |
Family
ID=39535377
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2010501471A Active JP5552420B2 (ja) | 2007-04-05 | 2008-03-20 | 回転速度を測定するためのマイクロメカニクス上の慣性センサー |
Country Status (5)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US8215168B2 (ja) |
EP (2) | EP2937666B1 (ja) |
JP (1) | JP5552420B2 (ja) |
DE (3) | DE102007017209B4 (ja) |
WO (1) | WO2008122502A1 (ja) |
Families Citing this family (48)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE102007035806B4 (de) * | 2007-07-31 | 2011-03-17 | Sensordynamics Ag | Mikromechanischer Drehratensensor |
DE102008002748A1 (de) * | 2008-06-27 | 2009-12-31 | Sensordynamics Ag | Mikro-Gyroskop |
SG173732A1 (en) * | 2009-02-17 | 2011-09-29 | Agency Science Tech & Res | Miniaturized piezoelectric accelerometers |
US8797279B2 (en) | 2010-05-25 | 2014-08-05 | MCube Inc. | Analog touchscreen methods and apparatus |
US8928602B1 (en) | 2009-03-03 | 2015-01-06 | MCube Inc. | Methods and apparatus for object tracking on a hand-held device |
DE102009002066A1 (de) * | 2009-03-31 | 2010-10-07 | Sensordynamics Ag | Verfahren zum Erfassen von Beschleunigungen und Drehraten sowie MEMS-Sensor |
IL205444A0 (en) * | 2009-05-01 | 2010-12-30 | Univ Leland Stanford Junior | Gyroscope utilizing mems and optical sensing |
US8477473B1 (en) | 2010-08-19 | 2013-07-02 | MCube Inc. | Transducer structure and method for MEMS devices |
US8823007B2 (en) | 2009-10-28 | 2014-09-02 | MCube Inc. | Integrated system on chip using multiple MEMS and CMOS devices |
US8421082B1 (en) | 2010-01-19 | 2013-04-16 | Mcube, Inc. | Integrated CMOS and MEMS with air dielectric method and system |
US8710597B1 (en) | 2010-04-21 | 2014-04-29 | MCube Inc. | Method and structure for adding mass with stress isolation to MEMS structures |
US8476129B1 (en) | 2010-05-24 | 2013-07-02 | MCube Inc. | Method and structure of sensors and MEMS devices using vertical mounting with interconnections |
US8553389B1 (en) | 2010-08-19 | 2013-10-08 | MCube Inc. | Anchor design and method for MEMS transducer apparatuses |
US8322216B2 (en) * | 2009-09-22 | 2012-12-04 | Duli Yu | Micromachined accelerometer with monolithic electrodes and method of making the same |
US8549915B2 (en) * | 2009-10-23 | 2013-10-08 | The Regents Of The University Of California | Micromachined gyroscopes with 2-DOF sense modes allowing interchangeable robust and precision operation |
US9709509B1 (en) | 2009-11-13 | 2017-07-18 | MCube Inc. | System configured for integrated communication, MEMS, Processor, and applications using a foundry compatible semiconductor process |
US8637943B1 (en) | 2010-01-04 | 2014-01-28 | MCube Inc. | Multi-axis integrated MEMS devices with CMOS circuits and method therefor |
JP5655501B2 (ja) * | 2010-01-05 | 2015-01-21 | セイコーエプソン株式会社 | 振動素子、振動子、および電子機器 |
US8936959B1 (en) | 2010-02-27 | 2015-01-20 | MCube Inc. | Integrated rf MEMS, control systems and methods |
US8794065B1 (en) | 2010-02-27 | 2014-08-05 | MCube Inc. | Integrated inertial sensing apparatus using MEMS and quartz configured on crystallographic planes |
US8367522B1 (en) | 2010-04-08 | 2013-02-05 | MCube Inc. | Method and structure of integrated micro electro-mechanical systems and electronic devices using edge bond pads |
US8516886B2 (en) | 2010-04-30 | 2013-08-27 | Qualcomm Mems Technologies, Inc. | Micromachined piezoelectric X-Axis gyroscope |
US8928696B1 (en) | 2010-05-25 | 2015-01-06 | MCube Inc. | Methods and apparatus for operating hysteresis on a hand held device |
US8643612B2 (en) | 2010-05-25 | 2014-02-04 | MCube Inc. | Touchscreen operation threshold methods and apparatus |
US8869616B1 (en) | 2010-06-18 | 2014-10-28 | MCube Inc. | Method and structure of an inertial sensor using tilt conversion |
US8652961B1 (en) | 2010-06-18 | 2014-02-18 | MCube Inc. | Methods and structure for adapting MEMS structures to form electrical interconnections for integrated circuits |
US8993362B1 (en) | 2010-07-23 | 2015-03-31 | MCube Inc. | Oxide retainer method for MEMS devices |
US8723986B1 (en) | 2010-11-04 | 2014-05-13 | MCube Inc. | Methods and apparatus for initiating image capture on a hand-held device |
US9540232B2 (en) | 2010-11-12 | 2017-01-10 | MCube Inc. | Method and structure of MEMS WLCSP fabrication |
US8969101B1 (en) | 2011-08-17 | 2015-03-03 | MCube Inc. | Three axis magnetic sensor device and method using flex cables |
US10913653B2 (en) | 2013-03-07 | 2021-02-09 | MCube Inc. | Method of fabricating MEMS devices using plasma etching and device therefor |
DE102013208828A1 (de) * | 2013-05-14 | 2014-11-20 | Robert Bosch Gmbh | Drehratensensor und Verfahren zum Betrieb eines Drehratensensors |
US9778042B2 (en) * | 2013-12-13 | 2017-10-03 | Intel Corporation | Opto-mechanical inertial sensor |
ITUA20162172A1 (it) | 2016-03-31 | 2017-10-01 | St Microelectronics Srl | Sensore accelerometrico realizzato in tecnologia mems avente elevata accuratezza e ridotta sensibilita' nei confronti della temperatura e dell'invecchiamento |
US10126129B2 (en) * | 2016-07-11 | 2018-11-13 | Nxp Usa, Inc. | Vibration and shock robust gyroscope |
DE102017105700A1 (de) * | 2017-03-16 | 2018-09-20 | Maschinenfabrik Rieter Ag | Textilmaschine mit einer Vielzahl an Spinn- oder Spulstellen sowie ein Verfahren zum Betreiben der Textilmaschine |
JP6627912B2 (ja) | 2017-05-24 | 2020-01-08 | 株式会社村田製作所 | 圧電回転mems共振器 |
JP6627911B2 (ja) | 2017-05-24 | 2020-01-08 | 株式会社村田製作所 | 圧電回転mems共振器 |
JP6610706B2 (ja) * | 2017-05-24 | 2019-11-27 | 株式会社村田製作所 | 横駆動変換器を備える圧電ジャイロスコープ |
JP6696530B2 (ja) | 2017-05-24 | 2020-05-20 | 株式会社村田製作所 | 圧電ジャイロスコープにおける連結懸架 |
CN107192384B (zh) * | 2017-07-24 | 2022-04-05 | 深迪半导体(绍兴)有限公司 | 一种mems三轴陀螺仪 |
FR3083606B1 (fr) * | 2018-07-06 | 2021-09-03 | Commissariat Energie Atomique | Gyrometre micromecanique resonant performant a encombrement reduit |
WO2020195386A1 (ja) * | 2019-03-27 | 2020-10-01 | パナソニックIpマネジメント株式会社 | 物理量センサ |
TWI773896B (zh) * | 2019-04-26 | 2022-08-11 | 台灣積體電路製造股份有限公司 | 搬運裝置及其應用之搬運系統以及搬運系統的預測保養方法 |
JP7188311B2 (ja) * | 2019-07-31 | 2022-12-13 | セイコーエプソン株式会社 | ジャイロセンサー、電子機器、及び移動体 |
CN110921611B (zh) * | 2019-12-02 | 2022-08-05 | 西安交通大学 | 一种低横向灵敏度的mems弹簧质量结构 |
CN112682054B (zh) * | 2020-12-03 | 2022-08-23 | 重庆文理学院 | 一种用于tbm施工监测的挖掘设备及其勘测方法 |
CN116601500A (zh) | 2020-12-18 | 2023-08-15 | 美国亚德诺半导体公司 | 具有质量平移运动的加速度计 |
Family Cites Families (45)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US4598585A (en) | 1984-03-19 | 1986-07-08 | The Charles Stark Draper Laboratory, Inc. | Planar inertial sensor |
EP0543901B1 (en) * | 1990-08-17 | 1995-10-04 | Analog Devices, Inc. | Monolithic accelerometer |
US5203208A (en) | 1991-04-29 | 1993-04-20 | The Charles Stark Draper Laboratory | Symmetrical micromechanical gyroscope |
US5395073A (en) | 1992-03-13 | 1995-03-07 | Freewing Aerial Robotics Corporation | STOL/VTOL free wing aircraft with articulated tail boom |
US5555765A (en) | 1993-02-10 | 1996-09-17 | The Charles Stark Draper Laboratory, Inc. | Gimballed vibrating wheel gyroscope |
US5650568A (en) | 1993-02-10 | 1997-07-22 | The Charles Stark Draper Laboratory, Inc. | Gimballed vibrating wheel gyroscope having strain relief features |
US5488862A (en) * | 1993-10-18 | 1996-02-06 | Armand P. Neukermans | Monolithic silicon rate-gyro with integrated sensors |
DE4414237A1 (de) | 1994-04-23 | 1995-10-26 | Bosch Gmbh Robert | Mikromechanischer Schwinger eines Schwingungsgyrometers |
US5635640A (en) | 1995-06-06 | 1997-06-03 | Analog Devices, Inc. | Micromachined device with rotationally vibrated masses |
DE19523895A1 (de) | 1995-06-30 | 1997-01-02 | Bosch Gmbh Robert | Beschleunigungssensor |
JP3125675B2 (ja) * | 1996-03-29 | 2001-01-22 | 三菱電機株式会社 | 容量型センサインターフェース回路 |
JPH09318649A (ja) * | 1996-05-30 | 1997-12-12 | Texas Instr Japan Ltd | 複合センサ |
JPH1089968A (ja) * | 1996-09-12 | 1998-04-10 | Murata Mfg Co Ltd | 角速度センサ |
DE19641284C1 (de) | 1996-10-07 | 1998-05-20 | Inst Mikro Und Informationstec | Drehratensensor mit entkoppelten orthogonalen Primär- und Sekundärschwingungen |
US5955668A (en) | 1997-01-28 | 1999-09-21 | Irvine Sensors Corporation | Multi-element micro gyro |
JPH1114658A (ja) * | 1997-06-25 | 1999-01-22 | Mitsubishi Electric Corp | 静電容量式加速度センサ |
US6122961A (en) | 1997-09-02 | 2000-09-26 | Analog Devices, Inc. | Micromachined gyros |
JP3399336B2 (ja) * | 1997-12-22 | 2003-04-21 | 株式会社豊田中央研究所 | 検出器 |
JP3264884B2 (ja) * | 1998-05-11 | 2002-03-11 | 三菱電機株式会社 | 容量検出回路 |
JP3307328B2 (ja) * | 1998-05-11 | 2002-07-24 | 株式会社デンソー | 半導体力学量センサ |
JP3882973B2 (ja) | 1998-06-22 | 2007-02-21 | アイシン精機株式会社 | 角速度センサ |
JP4348759B2 (ja) * | 1998-12-15 | 2009-10-21 | ミツミ電機株式会社 | 回転振動型ジャイロ |
US6560568B1 (en) * | 1999-04-12 | 2003-05-06 | Agere Systems, Inc. | Deriving statistical device models from electrical test data |
JP2001174264A (ja) * | 1999-12-21 | 2001-06-29 | Murata Mfg Co Ltd | 共振素子およびその振動調整方法 |
DE10040418A1 (de) | 2000-08-18 | 2002-03-07 | Hahn Schickard Ges | Drehratensensor und Drehratensensorsystem |
DE10060091B4 (de) * | 2000-12-02 | 2004-02-05 | Eads Deutschland Gmbh | Mikromechanischer Inertialsensor |
DE10108197A1 (de) * | 2001-02-21 | 2002-09-12 | Bosch Gmbh Robert | Drehratensensor |
US6928872B2 (en) * | 2001-04-27 | 2005-08-16 | Stmicroelectronics S.R.L. | Integrated gyroscope of semiconductor material with at least one sensitive axis in the sensor plane |
US6845669B2 (en) * | 2001-05-02 | 2005-01-25 | The Regents Of The University Of California | Non-resonant four degrees-of-freedom micromachined gyroscope |
US6504385B2 (en) * | 2001-05-31 | 2003-01-07 | Hewlett-Pakcard Company | Three-axis motion sensor |
US6859751B2 (en) * | 2001-12-17 | 2005-02-22 | Milli Sensor Systems & Actuators, Inc. | Planar inertial measurement units based on gyros and accelerometers with a common structure |
JP2004191224A (ja) * | 2002-12-12 | 2004-07-08 | Natl Space Development Agency Of Japan | 角速度センサ、その製造方法および該角速度センサを用いて角速度を測定する方法 |
KR100503472B1 (ko) * | 2003-03-06 | 2005-07-25 | 삼성전자주식회사 | 회전형 자이로스코프 |
US6966224B2 (en) * | 2003-03-06 | 2005-11-22 | Bei Technologies, Inc. | Micromachined vibratory gyroscope with electrostatic coupling |
JP2004361388A (ja) * | 2003-05-15 | 2004-12-24 | Mitsubishi Electric Corp | 容量型慣性力検出装置 |
JP4514509B2 (ja) * | 2004-05-14 | 2010-07-28 | アップサイド株式会社 | 力センサー、力検出システム及び力検出プログラム |
JP4453587B2 (ja) * | 2005-03-24 | 2010-04-21 | 株式会社デンソー | 加速度センサ |
US7237316B2 (en) * | 2005-07-18 | 2007-07-03 | Oki Electronics Industry Co., Ltd. | Method for fabricating a three-dimensional acceleration sensor |
US7621183B2 (en) * | 2005-11-18 | 2009-11-24 | Invensense Inc. | X-Y axis dual-mass tuning fork gyroscope with vertically integrated electronics and wafer-scale hermetic packaging |
FR2898683B1 (fr) * | 2006-03-14 | 2008-05-23 | Commissariat Energie Atomique | Accelerometre triaxial a membrane |
JP4687577B2 (ja) * | 2006-06-16 | 2011-05-25 | ソニー株式会社 | 慣性センサ |
KR100899812B1 (ko) * | 2006-12-05 | 2009-05-27 | 한국전자통신연구원 | 정전 용량형 가속도계 |
US7934423B2 (en) * | 2007-12-10 | 2011-05-03 | Invensense, Inc. | Vertically integrated 3-axis MEMS angular accelerometer with integrated electronics |
US8462109B2 (en) * | 2007-01-05 | 2013-06-11 | Invensense, Inc. | Controlling and accessing content using motion processing on mobile devices |
US8047075B2 (en) * | 2007-06-21 | 2011-11-01 | Invensense, Inc. | Vertically integrated 3-axis MEMS accelerometer with electronics |
-
2007
- 2007-04-05 DE DE102007017209.7A patent/DE102007017209B4/de active Active
-
2008
- 2008-03-20 WO PCT/EP2008/053409 patent/WO2008122502A1/de active Application Filing
- 2008-03-20 DE DE502008013076.4A patent/DE502008013076C5/de active Active
- 2008-03-20 EP EP15165766.5A patent/EP2937666B1/de active Active
- 2008-03-20 EP EP08718118.6A patent/EP2132528B1/de active Active
- 2008-03-20 US US12/594,597 patent/US8215168B2/en active Active
- 2008-03-20 JP JP2010501471A patent/JP5552420B2/ja active Active
- 2008-03-20 DE DE202008018545.9U patent/DE202008018545U1/de not_active Expired - Lifetime
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
US8215168B2 (en) | 2012-07-10 |
EP2937666B1 (de) | 2016-12-14 |
JP2010523954A (ja) | 2010-07-15 |
DE502008013076C5 (de) | 2020-12-10 |
EP2132528B1 (de) | 2015-06-24 |
US20100083756A1 (en) | 2010-04-08 |
EP2937666A1 (de) | 2015-10-28 |
WO2008122502A1 (de) | 2008-10-16 |
DE102007017209B4 (de) | 2014-02-27 |
EP2132528A1 (de) | 2009-12-16 |
DE102007017209A1 (de) | 2008-10-09 |
DE202008018545U1 (de) | 2015-07-27 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP5552420B2 (ja) | 回転速度を測定するためのマイクロメカニクス上の慣性センサー | |
US6860151B2 (en) | Methods and systems for controlling movement within MEMS structures | |
US8176779B2 (en) | Vibrating micro-mechanical sensor of angular velocity | |
EP2192382B1 (en) | Microelectromechanical gyroscope with rotary driving motion and improved electrical properties | |
JP5138772B2 (ja) | コリオリジャイロ | |
USRE45855E1 (en) | Microelectromechanical sensor with improved mechanical decoupling of sensing and driving modes | |
US7389690B2 (en) | Micro-gyrometer with frequency detection | |
JP5300494B2 (ja) | 連結棒を有する回転速度センサ | |
EP2192383B1 (en) | Uniaxial or biaxial microelectromechanical gyroscope with improved sensitivity to angular velocity detection | |
JP5425211B2 (ja) | マイクロメカニクスによるコリオリ式回転速度センサ | |
JP2006215016A (ja) | ジャイロスコープと加速度計との両方の機能を有するセンサ | |
JP2009529666A6 (ja) | 連結棒を有する回転速度センサ | |
JP5884603B2 (ja) | ロールオーバージャイロセンサ | |
JP3307906B2 (ja) | マイクロジャイロスコープ | |
JP2008514968A (ja) | 回転速度センサ | |
JP2005526959A (ja) | マイクロ加工されたジャイロスコープ | |
JPH11337345A (ja) | 振動するマイクロジャイロメータ | |
JPH11510895A (ja) | マイクロメカニック回転速度センサ | |
CN101876547A (zh) | 一种采用静电平衡梳齿驱动器的水平轴微机械音叉陀螺 | |
Andersson et al. | A novel silicon bulk gyroscope | |
JP2005241500A (ja) | 角速度センサ | |
US8479574B2 (en) | Micro scale mechanical rate sensors | |
JP2001255153A (ja) | 分離された多ディスク・ジャイロスコープ | |
JP4126826B2 (ja) | 角速度センサ | |
JP4710926B2 (ja) | 角速度センサ |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20110311 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20130220 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20130226 |
|
A601 | Written request for extension of time |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A601 Effective date: 20130515 |
|
A602 | Written permission of extension of time |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A602 Effective date: 20130522 |
|
A601 | Written request for extension of time |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A601 Effective date: 20130619 |
|
A524 | Written submission of copy of amendment under article 19 pct |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A524 Effective date: 20130624 |
|
A602 | Written permission of extension of time |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A602 Effective date: 20130626 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A821 Effective date: 20130625 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20130813 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20131031 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20140430 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20140526 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 5552420 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |