JP5544778B2 - オーミック電極およびその製造方法 - Google Patents
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Description
また、特開2003−86534号公報には、p型SiC半導体基体上に成膜され熱処理によって形成された、Siと金属間化合物を形成する磁性体とCとSiとAlを含む第1の反応層に電極を接続したSiC半導体のオーミック電極、およびp型SiC半導体基体の表面にAl膜とNi膜を積層する第1の工程とその後に真空中で熱処理を施し第1の反応層を形成する工程と該第1の反応層に電極を接続する工程とを有するSiC半導体のオーミック電極の製造方法が記載されている。
そして、上記の従来技術のいくつかにおいてはp型SiC半導体のオーミック電極形成に際してTi3SiC2層形成のため反応には本来必要ではないAlの蒸着膜とTiの蒸着膜を積層形成した後に、1000℃程度の温度で熱処理するDA(Deposition and Annealing)法が用いられている。この熱処理において半導体材料のSiCとその上に蒸着したTiおよびAlの界面反応を生じてSiC半導体に接して薄いTi3SiC2からなる中間半導体層が形成される。
このため、本発明者らは、p型SiC半導体の表面にTi3SiC2のオーミック電極層が直接積層されているオーミック電極および該オーミック電極の形成方法について特願2009−020850として特許出願を行った。
従って、本発明の目的は、オーミック特性を有し且つアモルファス構造であるオーミック電極層がp型SiC半導体の表面に直接積層されているp型SiC半導体のオーミック電極を提供することである。
また、本発明の他の目的は、前記p型SiC半導体のオーミック電極の製造方法を提供することである。
(I) x=0 (0.35≦y≦0.5)
(II)y=1.778(x−0.375)2+0.1 (0≦x≦0.375)
(III)y=−1.120x+0.5200 (0.1667≦x≦0.375)
(IV)y=−2.504x2−0.5828x+0.5 (0≦x≦0.1667)
(I) x=0 (0.35≦y≦0.5)
(II)y=1.778(x−0.375)2+0.1 (0≦x≦0.375)
(III)y=−1.120x+0.5200 (0.1667≦x≦0.375)
(IV)y=−2.504x2−0.5828x+0.5 (0≦x≦0.1667)
本発明における電極層についての特性は、後述の実施例の欄に詳述される測定法によって規定されるものである。
また、本発明によれば、オーミック特性を有し且つアモルファス構造であるオーミック電極層がp型SiC半導体の表面に直接積層されているp型SiC半導体のオーミック電極を容易に得ることができる。
図1および図2を比較すると、本発明の実施態様によるp型SiC半導体素子のオーミック電極は図1に示すように前記組成域のTi(1−x−y)Si(x)C(y)三元素混合膜であってアモルファス構造でありオーミック電極層に不純物が含まれず表面の平滑性が良好であるのに対して、従来技術によるp型SiC半導体素子のオーミック電極は図2に示すようにTi3SiC2に副生成物が含有された中間半導体層上の金属間化合物(TiAl3)とAlの凝固物との混合層により電極表面の平滑性が不良である。
(I) x=0 (0.35≦y≦0.5)
(II)y=1.778(x−0.375)2+0.1 (0≦x≦0.375)
(III)y=−1.120x+0.5200 (0.1667≦x≦0.375)
(IV)y=−2.504x2−0.5828x+0.5 (0≦x≦0.1667)
そして、図3における前記組成域の5点:3、4、5、6および7ではオーミック特性が得られており、組成比の厳格なコントロールを必要とせずオーミック特性を有する電極層が得られるのである。
なお、前記組成域外の3点:1、2および8ではオーミック特性が得られていない。
また、図10を参照すると、従来技術によってTiおよびAlを蒸着して蒸着膜を形成すると、熱処理をしなければオーミック特性が得られず、熱処理により表面平滑性が不良となることが理解される。
前記のスパッタリング蒸着時の温度は、例えば冷却水や冷媒、例えばフッ素系不活性冷媒、例えばガルデン、フロリナートなどを用いて又は用いないで100℃以下にすることが適当である。このとき、蒸着膜は気相から急冷凝固することによりアモルファス構造となると考えられる。また、後工程を含めて蒸着後に露出したTi−Si−Cオーミック電極に熱が加えられる場合はTi−Si−C電極層表面の温度が800℃以下、特に400℃であることが好ましい。
また、RFパワー(高周波スパッタリング)は600W以下、例えば100〜600W、その中でも100〜300Wであることが適当であり、RFパワーが大きいと微小結晶が生成する傾向がある。
また、前記の蒸着チャンバー内の圧力は0.1〜10Pa、特に1〜5Paが好適である。
さらに、前記の(4)スパッタリング蒸着前処理として、蒸着技術に一般的に用いられる逆スパッタリングなどの物理的洗浄又は化学的洗浄が挙げられる。
このSiCは非常に硬い材料であるため切り出し部の平坦度を上げることが難しく、p型SiC半導体基板に金属電極を圧着させると隙間が残った状態で圧着され、低抵抗の接合を得ることが困難である。それ故、通常はp型SiC半導体に電極成分を蒸着して積層していて、本発明によればオーミック電極層を直接積層して低抵抗の接合を得ることが可能となる。
本発明におけるSiC半導体は前記SiCにそれ自体公知の方法によって適した不純物の添加によってp型電子制御したものである。このp型SiC半導体のp型電子制御は通常オーミック電極層の積層前に行われるがオーミック電極層の積層後に行われても良い。
前記の三元素混合蒸着膜の形成は、TiとSiとCとの前記原子組成域内となる前記元素を含む任意の原料、例えばTi、SiおよびC(カーボン)の粉末、塊又は成形体、Ti、SiCおよびCの粉末、塊又は成形体、Ti、SiおよびTiCの粉末、塊又は成形体、又はTiC+Ti5Si3Cx二相平衡組成域、TiC+Ti5Si3Cx三相平衡組成域、TiC+Ti5Si3Cx+Ti三相平衡組成域の一部の粉末、塊又は成形体をターゲットとして蒸着装置、例えば高周波マグネトロンスパッタリング装置を用いて、放電雰囲気:希ガス雰囲気、例えばAr雰囲気、600W以下、例えば100〜600W、その中でも100〜300W、好適には200〜300WのAr順方向出力、0.1〜10Pa、特に1〜5Paの圧力で、例えば5〜500秒、好適には10〜360秒の条件で蒸着させることによって行うことができる。
前記の方法によって得られる前記Ti(z)Si(x)C(y)アモルファス構造の三元素混合電極膜がp型SiC半導体との界面においてオーミック特性を発現するメカニズムは解明されていないが、ショットキー障壁を低減した界面電子構造又はトンネリング現象が効果的に形成され、その結果オーミック特性が得られていると考えられる。
また、本発明においては、前記の蒸着前の前処理を組み合わせることによってオーミック電極層が、表面粗さが0.1μm未満、特に0.05μm以下の良好な表面平滑性およびオーミック特性の良好なアモルファス構造のp型SiC半導体のオーミック電極を容易に得ることができる。
また、本発明によれば、p型SiC半導体表面の化学的および/又は物理的洗浄と直接的に電極膜の蒸着形成という簡略化されたプロセスによって、SiCに接して薄く且つ表面が平滑なアモルファス構造のオーミック電極を形成することが可能となる。
さらに、同時に、本発明により、薬品に対する耐性や酸性ガス雰囲気による腐食耐性が向上し、プロセスコストや性能、信頼性が向上し得る。
以下の実施例において、試料についての特性評価は以下に示す方法によって行った。なお、以下の測定法は例示であって、他の同等の装置、条件を用いて測定し得る。
1)電極層の組成比の算出
算出方法:原料の組成比から算出するか、EPMA(電子線プローブマイクロアナライザー:Electron Probe X−ray Micro−Analyzer)による
2)電極層のオーミック性
測定方法:電極間の電流−電圧(I−V)特性の測定
測定装置:高精度デジタルマルチメータ アドバンテスト社製 R6581
定電圧電源 高砂製作所製 KX−100H
3)電極層の構造
測定方法:電極について断面TEM観察し、Ti(z)−Si(x)−C(y)成膜層の写真からアモルファス構造、又は結晶構造を判断
4)電極層の表面粗さ
測定方法:算術平均粗さ(μm)を測定
測定装置:触針式表面粗さ測定機 小坂研究所製
サーフコーダSE−40C(検出器モデル DR−30)
半導体用基板材料としてp型4H−SiC、厚さ369μm、抵抗率75−2500Ωcm、面方位(0001)8°off toward[11−20]を用いて、電極面形成をSi面(確認のためC面も)とし、蒸着条件として高周波マグネトロンスパッタリング蒸着、スパッタリングターゲット:Ti、Si、C(純度:Ti99.9%、Si99.99%、C99.99%)を各元素が表1に示す組成比(図3におけるNO.3)で、蒸着に先立ち基板クリーニング処理を放電雰囲気:Ar、高周波出力200W、時間300秒で行った後、蒸着を膜厚350nm、放電雰囲気:Ar、圧力:1〜4Pa、高周波出力200〜300Wにて行って、Ti(z)−Si(x)−C(y)膜の電極層を形成した。
得られた電極について各特性を評価した。電極の断面TEM写真の写しを図4に示し、I−V特性の測定結果を図6に示し、図6から判断したオーミック性についての判断結果を他の例の結果をまとめて表1に示す。
図4から、実施例1で得られた電極層はアモルファス構造であることを示している。
また、得られた電極層の表面粗さは0.05μmであり良好な表面平滑性を示した。
実施例1で得られたTi(z)−Si(x)−C(y)膜の電極層を1000℃で15分間加熱処理した。加熱処理後の断面TEM写真を図5に示す。
得られた電極層について各特性を評価した。電極の断面TEM写真の写しを図5に示す。また、表面粗さを測定したところ0.1−0.2μmであり表面平滑性が少し低下したことを示す。
図5から、アモルファス構造のTi(z)−Si(x)−C(y)電極層が熱処理により多結晶化したことを示している。
スパッタリングターゲットのTi、Si、C(純度:Ti99.9%、Si99.99%、C99.99%)を表1に示す組成(図3におけるNO.4)に変えた他は実施例1と同様に実施して、p型SiC半導体のSi面にTi(z)−Si(x)−C(y)電極層を形成した。
得られた電極についてのI−V特性から判断したオーミック性の結果を表1に示す。
実施例2で得られた電極層は良好なオーミック特性(Si面)を有していることを示す。
また、これらの結果および膜形成条件から判断して、実施例2で得られた電極層は、実施例1で得られた電極層と同様にアモルファス構造であり、良好な平面平滑性を有することが示唆される。
スパッタリングターゲットのTi、Si、C(純度:Ti99.9%、Si99.99%、C99.99%)を表1に示す組成(図3におけるNO.5)に変えた他は実施例1と同様に実施して、p型SiC半導体のSi面にTi(z)−Si(x)−C(y)電極層を形成した。
得られた電極についてのI−V特性から判断したオーミック性の結果を表1に示す。
実施例3で得られた電極層は良好なオーミック特性(Si面)を有していることを示す。
また、これらの結果および膜形成条件から判断して、実施例3で得られた電極層は、実施例1で得られた電極層と同様にアモルファス構造であり、良好な平面平滑性を有することが示唆される。
スパッタリングターゲットのTi、Si、C(純度:Ti99.9%、Si99.99%、C99.99%)を表1に示す組成(図3におけるNO.6)に変えた他は実施例1と同様に実施して、p型SiC半導体のSi面にTi(z)−Si(x)−C(y)電極層を形成した。
得られた電極についてのI−V特性から判断したオーミック性の結果を表1に示す。
実施例4で得られた電極層は良好なオーミック特性(Si面)を有していることを示す。
また、これらの結果および膜形成条件から判断して、実施例4で得られた電極層は、実施例1で得られた電極層と同様にアモルファス構造であり、良好な平面平滑性を有することが示唆される。
スパッタリングターゲットのTi、Si、C(純度:Ti99.9%、Si99.99%、C99.99%)を表1に示す組成(図3におけるNO.7)に変えた他は実施例1と同様に実施して、Ti(z)−Si(x)−C(y)電極層を形成した。
得られた電極についてのI−V特性を図7に示し、この結果から判断したオーミック性の結果を表1に示す。
また、電極層についての断面TEM写真は図6と同様にアモルファスであることを示し、電極層の表面粗さは0.05μmであり良好な表面平滑性を示した。
スパッタリングターゲットのTi、Si、C(純度:Ti99.9%、Si99.99%、C99.99%)を表1に示す組成(図3におけるNO.1)に変えた他は実施例1と同様に実施して、Ti(z)−Si(x)−C(y)電極層を形成した。
得られた電極についてのI−V特性を図9に示し、この結果から判断したオーミック性の結果を表1に示す。
また、得られた電極層を比較例1と同様にして熱処理した。熱処理後の電極のオーミック特性を評価したところ、オーミック特性を示さなかった。
スパッタリングターゲットのTi、Si、C(純度:Ti99.9%、Si99.99%、C99.99%)を表1に示す組成(図3におけるNO.2)に変えた他は実施例1と同様に実施して、Ti(z)−Si(x)−C(y)電極層を形成した。
得られた電極についてのI−V特性を図8に示し、この結果から判断したオーミック性の結果を表1に示す。
また、得られた電極層を比較例1と同様にして熱処理した。熱処理後の電極のオーミック特性を評価したところ、オーミック特性を示さなかった。
スパッタリングターゲットのTi、Si、C(純度:Ti99.9%、Si99.99%、C99.99%)を表1に示す組成(図3におけるNO.8)に変えた他は実施例1と同様に実施して、電極層を形成した。
得られた電極についてのI−V特性から判断したオーミック性の結果を表1に示す。
半導体基板材料として厚さ369μm、抵抗率75−2500Ωcm、面方位(0001)8° off toward[11−20]、電極形成面Si面のp型の4H−SiCを用いて、蒸着装置:電子ビーム蒸着装置、蒸着材料:Ti、Alの条件で蒸着膜を積層し、半導体表面にTi(80nm)/Al(375nm)の蒸着層を有する積層体を得た。
得られた積層体について、電極のI−V特性および表面粗さを測定した。I−V特性を図10に示す。表面粗さは0.05μmであった。
この積層体をAr又はN2雰囲気下(大気圧)、1000℃で10分間加熱して熱処理して、オーミック電極を形成した。
得られたオーミック電極について表面粗さおよびI−V特性を図10に示す。
粗さ観察結果から、表面粗さが1.0μmであり表面平滑性は不良で、オーミック特性有りの結果が得られた。
また、図3および表1の結果から、組成比の厳格なコントロールを必要とせずオーミック特性を有する電極層が得られること示している。
さらに、表1における比較例2〜4の結果は、本発明におけるTi、Si、Cの組成域外の組成ではオーミック特性が得られないことを示している。
また、比較例5のTi/Al蒸着膜を半導体基板材料に蒸着した積層体は良好な平滑性は有しているがオーミック特性を示さず、熱処理によってオーミック特性は得られるが平滑性が失われたことを示している。
本発明のp型SiC半導体のオーミック電極を適用したSiC製電界効果トランジスタの模式図を図13に示す。
本発明のp型SiC半導体のオーミック電極を適用したN−チャネルパワー電界効果トランジスタ(パワーMOSFET)の模式図を図14に示す。
本発明のp型SiC半導体のオーミック電極を適用したSiCN−チャネル絶縁ゲート型バイポーラトランジスタ(IGBT)の模式図を図15に示す。
図15に示すIGBTは、室温、又は比較的低温でオーミック特性を確保できるためゲート酸化膜形成、イオン注入等の表面プロセス終了後においても、熱影響なく、裏面のドレイン電極が実現できる。
Claims (2)
- 下記式の(I)〜(IV)で示される4つの直線および曲線で囲まれる組成域(但し、x=0の線上およびTi n+1 SiC n (nは1、2、3又はそれ以上)の組成を除く)のTi(1−x−y)Si(x)C(y)三元素混合膜からなり、かつアモルファス構造であって表面粗さが0.1μm未満であるオーミック電極層がp型SiC半導体の表面に直接堆積され積層されているp型SiC半導体素子のオーミック電極。
(I) x=0 (0.35≦y≦0.5)
(II)y=1.778(x−0.375)2+0.1 (0≦x≦0.375)
(III)y=−1.120x+0.5200 (0.1667≦x≦0.375)
(IV)y=−2.504x2−0.5828x+0.5 (0≦x≦0.1667) - p型SiC半導体表面に、下記式の(I)〜(IV)で示される4つの直線および曲線で囲まれる組成域(但し、x=0の線上およびTi n+1 SiC n (nは1、2、3又はそれ以上)の組成を除く)のTi(1−x−y)Si(x)C(y)三元素混合膜からなり、かつアモルファス構造であって表面粗さが0.1μm未満であるオーミック電極層を直接堆積して積層するp型SiC半導体素子のオーミック電極の製造方法。
(I) x=0 (0.35≦y≦0.5)
(II)y=1.778(x−0.375)2+0.1 (0≦x≦0.375)
(III)y=−1.120x+0.5200 (0.1667≦x≦0.375)
(IV)y=−2.504x2−0.5828x+0.5 (0≦x≦0.1667)
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