JP5518303B2 - Heat treatment equipment - Google Patents

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Description

本発明は、被加熱物を加熱処理するための熱処理装置に関する。   The present invention relates to a heat treatment apparatus for heat-treating an object to be heated.

従来より、下記特許文献1に開示されているような熱処理装置が液晶ディスプレイ(LCD:Liquid Crystal Display)やプラズマディスプレイ(PDP:Plasma Display)、有機ELディスプレイ等のようなフラットパネルディスプレイ(FPD:Flat Panel display)の製作に使用されている。熱処理装置は、予めガラス板等の基板(被加熱物)に対して特定の溶液を塗布して加熱乾燥させたものを加熱室内に収容し、加熱室内に導入される所定の温度の熱風に晒して熱処理(焼成)する装置である。
特許第2971771号明細書
Conventionally, a heat treatment apparatus as disclosed in the following Patent Document 1 is a flat panel display (FPD: Flat Display) such as a liquid crystal display (LCD), a plasma display (PDP), and an organic EL display. Panel display). The heat treatment apparatus accommodates, in a heating chamber, a specific solution previously applied to a substrate such as a glass plate (object to be heated) and dried by heating, and is exposed to hot air having a predetermined temperature introduced into the heating chamber. This is an apparatus for heat treatment (firing).
Japanese Patent No. 2971771

従来技術の熱処理装置は、被加熱物を出し入れするための開口や隙間等があり、完全な密閉状態とはなっておらず、前記した開口や隙間の近傍は比較的低温になりやすい。そのため、熱処理に伴って基板上に塗布されていた特定の溶液等が気化して発生した生成ガスは、開口や隙間の近傍で冷却されて固化し、いわゆる昇華物となる。昇華物は、粒子状やタール状になっており、熱処理装置内を汚染して被加熱物の品質を低下させてしまうばかりか、被加熱物の出し入れの際に熱処理装置の外部に漏出してしまうという問題があった。   The heat treatment apparatus of the prior art has openings and gaps for taking in and out the object to be heated and is not completely sealed, and the vicinity of the openings and gaps tends to be relatively low in temperature. Therefore, the generated gas generated by vaporizing a specific solution or the like applied on the substrate with the heat treatment is cooled and solidified in the vicinity of the opening or the gap to become a so-called sublimation product. The sublimated material is in the form of particles or tar, which not only contaminates the inside of the heat treatment apparatus and degrades the quality of the heated object, but also leaks out of the heat treatment apparatus when the heated object is taken in and out. There was a problem that.

通常、熱処理装置は、比較的清浄度の高いクリーンルーム等に設置されている。そのため、従来技術の熱処理装置のように昇華物が熱処理装置から漏出してしまうと、クリーンルームの清浄度までも低下させてしまうという問題があった。   Usually, the heat treatment apparatus is installed in a clean room having a relatively high cleanliness. Therefore, when the sublimate leaks from the heat treatment apparatus as in the conventional heat treatment apparatus, there is a problem that the cleanliness of the clean room is also lowered.

上記した問題に鑑み、上記特許文献1に開示されている熱処理装置では、熱処理装置内の空気や生成ガスが外部に漏出してしまうのを防止すべく、熱処理装置の内側から外側に向けて排気し、熱処理装置内の静圧を低下させる構成とされていた。かかる構成とした場合、熱処理装置から昇華物が外部に排出されるという問題に対しては一定の効果を有していた。しかし、従来技術の熱処理装置では、熱処理装置内の静圧が場所によって相違していたため、静圧が十分低くならない位置に設けられた開口が被加熱物の出し入れのために開くと、当該開口から生成ガスや昇華物を含んでいる可能性のある空気が漏洩してしまうといった問題があった。   In view of the problems described above, in the heat treatment apparatus disclosed in Patent Document 1, the air and generated gas in the heat treatment apparatus are exhausted from the inside to the outside of the heat treatment apparatus to prevent leakage to the outside. The static pressure in the heat treatment apparatus is reduced. In such a configuration, there was a certain effect on the problem that the sublimate was discharged from the heat treatment apparatus. However, in the conventional heat treatment apparatus, since the static pressure in the heat treatment apparatus differs depending on the location, if an opening provided at a position where the static pressure does not become sufficiently low is opened for taking in and out the object to be heated, There has been a problem that air that may contain generated gas and sublimates leaks.

また、上述したように静圧が十分低くならない場所があることを想定し、熱処理装置内の空気等を吸引し排気するために設けた排気手段の排気能力を高く設定すると、被加熱物の出し入れのために開口を開くことにより生成ガス等が漏洩するのを防止できるものの、熱処理室内の静圧が過度に低くなった部分ができてしまうという問題がある。そのため、かかる構成とした場合は、静圧が過度に低い部分に設けられた開口が開くと、当該開口を介して外気が熱処理室内に流入してしまい、熱処理装置内の温度分布が不均一になってしまうという問題があった。   In addition, assuming that there is a place where the static pressure does not become sufficiently low as described above, if the exhaust capacity of the exhaust means provided for sucking and exhausting air in the heat treatment apparatus is set high, the object to be heated can be taken in and out. For this reason, opening the opening can prevent leakage of product gas and the like, but there is a problem that a portion in which the static pressure in the heat treatment chamber is excessively low is formed. Therefore, in such a configuration, when an opening provided in a portion where the static pressure is excessively low opens, outside air flows into the heat treatment chamber through the opening, and the temperature distribution in the heat treatment apparatus becomes uneven. There was a problem of becoming.

そこで、本発明は、換装口の開閉に伴い熱処理に伴って発生した生成ガスや昇華物などの漏洩や、熱処理室内の温度分布のムラが発生しにくい熱処理装置の提供を目的とした。   Accordingly, an object of the present invention is to provide a heat treatment apparatus that is less likely to cause leakage of a generated gas or a sublimate generated by heat treatment accompanying opening and closing of a replacement opening and uneven temperature distribution in the heat treatment chamber.

上記した課題を解決すべく提供される本発明に関連する熱処理装置は、被加熱物を収容可能な熱処理室と、当該熱処理室に対して被加熱物を出し入れ可能な複数の換装口と、前記熱処理室の内側から外側に向けて気体を吸引し排出するための排気能力を変更可能な排気手段と、を備えており、前記換装口のいずれかが開状態となるときに、当該開状態となる換装口に隣接する位置における前記熱処理室内の静圧が、前記換装口を開状態とする前よりも低圧になるように前記排気手段の排気能力が調整されることを特徴としている。
また、上記の特徴を踏まえた請求項1に記載の発明は、被加熱物を収容可能な熱処理室と、当該熱処理室に対して被加熱物を出し入れ可能な複数の換装口と、前記熱処理室の内側から外側に向けて気体を吸引し排出するための排気能力を変更可能な排気手段と、熱処理室内から外側に向けて気体を排出するための排気口と、を備えており、前記熱処理室は、当該熱処理室内の換装口に隣接する位置における静圧が、前記排気手段が動作状態とされた状態において、各換装口と前記排気口との距離に応じて異なるものであり、前記換装口のいずれかが開状態となるときに、各換装口に隣接する位置における前記熱処理室内の静圧が、前記換装口のいずれかを開状態とする前よりも低圧になるように前記排気手段の排気能力が調整されることを特徴とする熱処理装置である。
A heat treatment apparatus related to the present invention provided to solve the above-described problems includes a heat treatment chamber capable of accommodating an object to be heated, a plurality of replacement ports capable of inserting and removing the object to be heated with respect to the heat treatment chamber, An exhaust means that can change the exhaust capacity for sucking and exhausting the gas from the inside to the outside of the heat treatment chamber, and when any of the replacement ports is in the open state, The exhaust capability of the exhaust means is adjusted so that the static pressure in the heat treatment chamber at a position adjacent to the replacement port becomes lower than that before the replacement port is opened.
In addition, the invention according to claim 1 based on the above characteristics is characterized in that a heat treatment chamber capable of accommodating an object to be heated, a plurality of exchange ports capable of inserting and removing the object to be heated with respect to the heat treatment chamber, and the heat treatment chamber An exhaust means for changing the exhaust capacity for sucking and exhausting gas from the inside to the outside, and an exhaust port for exhausting the gas from the heat treatment chamber to the outside. The static pressure at a position adjacent to the replacement port in the heat treatment chamber differs depending on the distance between each replacement port and the exhaust port in a state where the exhaust means is in an operating state. When any one of the exhaust means is open, the static pressure in the heat treatment chamber at a position adjacent to each replacement port is lower than that before opening any of the replacement ports. The exhaust capacity is adjusted. It is a heat treatment apparatus to be.

本発明の熱処理装置では、複数設けられた換装口のうち開状態となるものに隣接する位置において、開状態になる換装口に隣接する位置における熱処理室内の静圧が、換装口を開状態とする前よりも低圧になるように排気手段の排気能力が調整されるため、被加熱物の出し入れを行ったとしても生成ガスや昇華物などが漏洩するのを防止することができる。   In the heat treatment apparatus of the present invention, the static pressure in the heat treatment chamber at a position adjacent to the exchange port that is in the open state at a position adjacent to the open one of the plurality of exchange ports that is open, the exchange port is in the open state. Since the exhaust capacity of the exhaust means is adjusted so that the pressure is lower than before, even if the object to be heated is taken in and out, it is possible to prevent the generated gas or sublimate from leaking.

また、上述した本発明の熱処理装置は、換装口のいずれかが開状態となるときに、当該換装口に隣接する位置における前記熱処理室内の静圧が、当該熱処理室の外側の気圧以下になるように前記排気手段の排気能力が調整されることが望ましい(請求項2)。   In the heat treatment apparatus of the present invention described above, when any of the replacement ports is in an open state, the static pressure in the heat treatment chamber at a position adjacent to the replacement port is equal to or lower than the atmospheric pressure outside the heat treatment chamber. Thus, it is desirable that the exhaust capacity of the exhaust means be adjusted.

かかる構成とした場合、換装口が開くことにより、生成ガスや昇華物などが換装口を介して漏洩するのをより一層確実に防止することができる。   In such a configuration, it is possible to prevent the generated gas, the sublimate, and the like from leaking through the replacement port more reliably by opening the replacement port.

上述した本発明の熱処理装置は、開状態になる換装口と前記排気口との距離に応じて、排気手段の排気能力が調整されることが望ましい(請求項3)。 In the heat treatment apparatus of the present invention described above, it is desirable that the exhaust capacity of the exhaust means is adjusted in accordance with the distance between the replacement port that is in the open state and the exhaust port.

かかる構成によれば、複数設けられた換装口のうち開状態となるものに隣接する位置における熱処理室内の静圧を、より一層適確に被加熱物の出し入れに際して生成ガス等が漏洩するのを防止するのに適した圧力に調整することができる。   According to such a configuration, the static pressure in the heat treatment chamber at a position adjacent to the open one of the plurality of exchange ports provided is more accurately prevented from leaking generated gas or the like when the object to be heated is taken in or out. It can be adjusted to a pressure suitable to prevent.

上述した本発明の熱処理装置は、換装口が、前記排気口に近い領域A、並びに、前記排気口に対して前記領域Aよりも離れた領域Bに複数並べて設けられており、当該領域A,Bに設けられた前記換装口が所定の順番で開閉するものであり、前記領域Bに配された換装口が開状態になるタイミングを基準として所定の期間における前記排気手段の排気能力が、前記領域Aに配された換装口が開状態になるタイミングを基準として所定の期間における前記排気手段の排気能力よりも高いことが望ましい(請求項4)。 The heat treatment apparatus of the present invention described above, conversion Sokuchi is, the region near the outlet A, and are provided side by side a plurality in the area B apart than the area A relative to the exhaust port, the area A , B opened and closed in a predetermined order, the exhaust capacity of the exhaust means in a predetermined period with reference to the timing when the replacement port arranged in the region B is opened, It is desirable that it is higher than the exhaust capacity of the exhaust means in a predetermined period with reference to the timing when the replacement port arranged in the region A is in the open state (claim 4).

本発明の熱処理装置では、排気口に近い領域Aおよび排気口から離れた領域Bのそれぞれに換装口が設けられているため、排気手段を同一の排気能力で作動させた場合は領域A付近の静圧よりも領域B付近の静圧の方が高くなる傾向にある。しかし、本発明の熱処理装置は、領域Bに配された換装口が開状態になるタイミングを基準として所定の期間における排気手段の排気能力が、領域Aに配された換装口が開状態になるタイミングを基準として所定の期間における排気手段の排気能力よりも高くなるように作動する。そのため、領域Bに設けられた換装口が開状態になった場合であっても、換装口近辺の静圧を領域Aに設けられた換装口が開状態になった場合と同程度まで低下させることができる。従って、本発明の熱処理装置によれば、領域A,Bのいずれに設けられた換装口を介して被加熱物の出し入れを行ったとしても、生成ガスや昇華物などが漏洩するのを防止することができる。   In the heat treatment apparatus of the present invention, the replacement ports are provided in each of the region A close to the exhaust port and the region B far from the exhaust port, so that when the exhaust means is operated with the same exhaust capability, The static pressure near the region B tends to be higher than the static pressure. However, in the heat treatment apparatus according to the present invention, the exhaust port of the exhaust means in a predetermined period is in the open state when the replacement port arranged in the region B is open, with reference to the timing when the replacement port arranged in the region B is in the open state. It operates so as to be higher than the exhaust capacity of the exhaust means in a predetermined period with reference to the timing. Therefore, even when the replacement port provided in the region B is in the open state, the static pressure near the replacement port is reduced to the same level as when the replacement port provided in the region A is in the open state. be able to. Therefore, according to the heat treatment apparatus of the present invention, even if the object to be heated is taken in or out through the replacement opening provided in either of the regions A and B, the generated gas, the sublimate, and the like are prevented from leaking. be able to.

また、本発明の熱処理装置では、領域Bに配された換装口が開状態になるタイミングを基準として所定の期間において排気手段の排気能力が高くなるため、領域Aに配された換装口が開状態になる際に領域A付近の静圧が過度に低圧になるのを防止することができる。そのため、本発明の熱処理装置では、換装口を開状態とした際に、熱処理室内に外気が流入し、熱処理室内の温度分布のムラが発生するのを防止することができる。   Further, in the heat treatment apparatus of the present invention, the exhaust port of the exhaust means becomes high in a predetermined period with reference to the timing when the replacement port arranged in the region B is opened, so that the replacement port arranged in the region A is opened. It is possible to prevent the static pressure in the vicinity of the region A from becoming excessively low when entering the state. Therefore, in the heat treatment apparatus of the present invention, it is possible to prevent the outside air from flowing into the heat treatment chamber and causing uneven temperature distribution in the heat treatment chamber when the replacement opening is in the open state.

ここで、一般的に、加熱され高温になっている気体は上方側に向かう傾向にある。そのため、上述した本発明の熱処理装置において、領域Aに対して領域Bが上方に位置する構成とした場合は、熱処理室内で高温になった気体は、領域B側から漏出しやすい傾向にあるものと想定される。しかし、上述したように、本発明の熱処理装置は、領域Bに配された換装口が開状態になるタイミングを基準として所定の期間において、排気手段の排気能力が、領域Aに配された換装口が開状態になるタイミングを基準として所定の期間における排気能力よりも高く設定される。従って、本発明の熱処理装置は、領域Aに対して領域Bが上方に位置しており、排気口が、熱処理室の下方側の位置に設けられた構成としても、生成ガス等の漏洩を確実に防止できる(請求項5)。   Here, generally, the heated and high-temperature gas tends to move upward. Therefore, in the heat treatment apparatus of the present invention described above, when the region B is positioned above the region A, the gas that has become high temperature in the heat treatment chamber tends to leak from the region B side. It is assumed. However, as described above, in the heat treatment apparatus of the present invention, the exhaust capacity of the exhaust means is disposed in the region A in a predetermined period with reference to the timing when the replacement port disposed in the region B is opened. It is set higher than the exhaust capacity in a predetermined period with reference to the timing when the mouth is opened. Therefore, in the heat treatment apparatus of the present invention, even when the region B is located above the region A and the exhaust port is provided at a position below the heat treatment chamber, leakage of generated gas and the like is ensured. (Claim 5).

上述した本発明の熱処理装置は、排気手段の排気能力の調整が、複数の換装口のいずれかが開状態になる前に完了することがより一層望ましい(請求項6)。   In the heat treatment apparatus of the present invention described above, it is more desirable that the adjustment of the exhaust capacity of the exhaust means is completed before any of the plurality of replacement ports is opened (Claim 6).

かかる構成によれば、各換装口が開状態になるまでに当該換装口に隣接する位置の静圧を低下させ、換装口を介して生成ガスや昇華物などが漏洩するのを確実に防止することができる。   According to such a configuration, the static pressure at a position adjacent to the replacement port is reduced until each replacement port is opened, and the generation gas, sublimate, and the like are reliably prevented from leaking through the replacement port. be able to.

上述した本発明の熱処理装置は、熱処理室を構成し、換装口が設けられた壁面に対して隣接する位置に、排気口が設けられており、排気手段により、前記排気口を介して前記熱処理室内の気体を熱処理室の外部に排出可能であることが望ましい(請求項7)。   The heat treatment apparatus of the present invention described above constitutes a heat treatment chamber, and an exhaust port is provided at a position adjacent to the wall surface provided with the replacement port, and the heat treatment is performed by the exhaust means via the exhaust port. It is desirable that the indoor gas can be discharged to the outside of the heat treatment chamber.

かかる構成によれば、換装口を介して生成ガス等が漏洩するのをより一層確実に防止することができる。   According to this configuration, it is possible to more reliably prevent the product gas and the like from leaking through the replacement port.

上述した本発明の熱処理装置は、換装口と熱処理室との間に、熱処理室の内側および外側の気圧よりも低圧の低圧領域が設けられていることが望ましい(請求項8)。   In the heat treatment apparatus of the present invention described above, it is desirable that a low pressure region having a pressure lower than the pressure inside and outside the heat treatment chamber is provided between the replacement opening and the heat treatment chamber.

かかる構成によれば、被加熱物の出し入れのために換装口が開いた際に、熱処理室の内側から外側に気体が漏洩するのをより一層確実に防止することができる。従って、上記した構成によれば、生成ガスを含む気体が熱処理室の外部に漏洩するのをより一層確実に防止することができる。   According to such a configuration, it is possible to more reliably prevent gas from leaking from the inside to the outside of the heat treatment chamber when the replacement opening is opened for taking in and out the object to be heated. Therefore, according to the configuration described above, it is possible to more reliably prevent the gas containing the generated gas from leaking to the outside of the heat treatment chamber.

また、上記した構成によれば、換装口が開くことにより、当該換装口を介して外気が熱処理室内に流入するのも防止することができる。従って、上記した構成によれば、熱処理室の外側から内側に低温の空気等が流入することで熱処理室内の温度分布が乱れるのをより一層確実に防止することができる。   Moreover, according to the above-described configuration, it is possible to prevent the outside air from flowing into the heat treatment chamber through the replacement port by opening the replacement port. Therefore, according to the above-described configuration, it is possible to more reliably prevent the temperature distribution in the heat treatment chamber from being disturbed by low-temperature air or the like flowing from the outside to the inside of the heat treatment chamber.

ここで、上記した熱処理装置において、複数設けられた換装口の全てが閉状態である場合は、排気手段を停止状態としたり、必要最小限の排気能力で排気させても、換装口から生成ガスや昇華物などが漏洩しない。また、このように排気手段の動作状態を調整すれば、排気手段の動作により消費されるエネルギーを必要最小限に抑制することができる。   Here, in the above-described heat treatment apparatus, when all of the plurality of replacement openings are closed, the generated gas is discharged from the replacement opening even if the exhaust means is stopped or exhausted with the minimum required exhaust capacity. And sublimates do not leak. Further, by adjusting the operating state of the exhaust means in this way, the energy consumed by the operation of the exhaust means can be suppressed to the minimum necessary.

かかる知見に基づけば、上述した本発明の熱処理装置は、全ての換装口が閉状態である場合に、排気手段が、排気流量が所定の最小流量となる状態、各換装口が開くときに調整される排気能力のうちの最小の排気能力を発揮する状態、あるいは、停止状態、のいずれかとなるように、排気手段の動作状態が調整されるものであることが望ましい(請求項9)。   Based on such knowledge, the heat treatment apparatus of the present invention described above is adjusted when the exhaust means is in a state where the exhaust flow rate becomes a predetermined minimum flow rate when each replacement port is open when all the replacement ports are closed. It is desirable that the operation state of the exhaust means be adjusted so that the exhaust state is in a state in which the minimum exhaust capability is exhibited or in a stopped state.

本発明によれば、換装口の開閉に伴い熱処理に伴って発生した生成ガスや昇華物などの漏洩が起こりにくい熱処理装置を提供できる。   ADVANTAGE OF THE INVENTION According to this invention, the heat processing apparatus with which generation gas, sublimate, etc. which generate | occur | produced with heat processing with opening and closing of a replacement opening | mouth easily cannot occur can be provided.

続いて、本発明の一実施形態に係る熱処理装置1について、図面を参照しつつ詳細に説明する。なお、以下の説明において、上下や前後の位置関係は、特に断りのない限り本実施形態の熱処理装置の通常の使用状態を基準として説明する。すなわち、以下の説明において上下は高さ方向の位置関係を指すものである。また、以下の説明で「手前」および「前」とは、熱処理装置やラックに被加熱物たる基板W(板状体)を出し入れする際に使用される移載装置側の位置、すなわち熱処理装置やラックの正面側を指す。また、「手前」および「前」の逆側(熱処理装置やラックの背面側)の位置を「奥」や「後」と称す。また、以下の説明において、「左右」の位置関係は、熱処理装置やラックを正面側から観察した姿勢を基準とする。   Next, the heat treatment apparatus 1 according to an embodiment of the present invention will be described in detail with reference to the drawings. In the following description, the positional relationship between the upper and lower sides and the front and rear sides will be described based on the normal use state of the heat treatment apparatus of the present embodiment unless otherwise specified. That is, in the following description, the top and bottom indicate the positional relationship in the height direction. Further, in the following description, “front” and “front” refer to the position on the transfer device side used when a substrate W (plate-like body) that is an object to be heated is taken in and out of the heat treatment device or the rack, that is, the heat treatment device. Or the front side of the rack. In addition, the positions on the opposite side of “front” and “front” (the back side of the heat treatment apparatus and the rack) are referred to as “back” and “rear”. In the following description, the positional relationship of “left and right” is based on the posture of the heat treatment apparatus and the rack observed from the front side.

図1に示すように、熱処理装置1は、熱処理装置本体10によって主要部が構成されている。また、図2に示すように、熱処理装置1は、熱処理装置本体10から排気するための排気装置11(排気手段)を備えている。図2や図3に示すように、熱処理装置本体10は、断熱性を有する壁面によって取り囲まれた空間を有し、この内部に温調部12や、熱処理室13が設けられた構成とされている。   As shown in FIG. 1, a main part of the heat treatment apparatus 1 is constituted by a heat treatment apparatus main body 10. As shown in FIG. 2, the heat treatment apparatus 1 includes an exhaust device 11 (exhaust means) for exhausting air from the heat treatment apparatus body 10. As shown in FIG. 2 and FIG. 3, the heat treatment apparatus main body 10 has a space surrounded by a wall surface having heat insulation properties, and a temperature control unit 12 and a heat treatment chamber 13 are provided therein. Yes.

温調部12は、内部にヒータ16と送風機17とを備えている。温調部12は、フィルター14を介して熱処理室13と隣接しており、熱処理室13と連通している。温調部12は、ヒータ16と送風機17とを作動させることにより、加熱された空気をフィルター14を介して熱処理室13に送り込み、熱処理室13の室内温度を所定温度まで加熱することができる。   The temperature control unit 12 includes a heater 16 and a blower 17 inside. The temperature control unit 12 is adjacent to the heat treatment chamber 13 through the filter 14 and communicates with the heat treatment chamber 13. The temperature control unit 12 operates the heater 16 and the blower 17 to send heated air to the heat treatment chamber 13 through the filter 14 and to heat the indoor temperature of the heat treatment chamber 13 to a predetermined temperature.

熱処理室13は、被加熱物たる基板Wを配置可能な空間である。熱処理室13は、正面13b(壁面)側、すなわち図2において左側、図3において下側に基板Wを出し入れするための換装口18を有する。換装口18は、上述した温調部12に対して対向する位置にあり、温調部12から吹き出される空気の流れの下流側の位置に設けられている。   The heat treatment chamber 13 is a space in which the substrate W that is an object to be heated can be placed. The heat treatment chamber 13 has a replacement port 18 for taking in and out the substrate W on the front surface 13b (wall surface) side, that is, on the left side in FIG. 2 and on the lower side in FIG. The replacement port 18 is located at a position facing the above-described temperature adjustment unit 12, and is provided at a position downstream of the flow of air blown out from the temperature adjustment unit 12.

換装口18は、図1や図2に示すように熱処理室13に対して上下方向に複数(本実施形態では4つ)、等間隔に設けられている。さらに詳細には、熱処理室13の内部空間を、図2に二点鎖線で示すように熱処理室13の底面13aに対してほぼ平行で、熱処理室13の高さのほぼ半分の位置を通る仮想平面Pを想定し、この仮想平面Pを境として上下に領域X1,X2(それぞれ領域A,Bに相当)を想定した場合に、底面13a側に位置する領域X1内に2つの換装口18(以下、それぞれ換装口18a,18bとも称す)が上下に並んで存在している。また、領域X1に対して上方に位置する領域X2内にも、2つの換装口18(以下、それぞれ換装口18c,18dとも称す)が上下に並んで存在している。   As shown in FIG. 1 and FIG. 2, a plurality of replacement ports 18 are provided in the vertical direction with respect to the heat treatment chamber 13 (four in this embodiment) at equal intervals. More specifically, the internal space of the heat treatment chamber 13 is virtually parallel to the bottom surface 13a of the heat treatment chamber 13 as shown by a two-dot chain line in FIG. Assuming the plane P, and assuming the areas X1 and X2 (corresponding to areas A and B, respectively) above and below the virtual plane P, two replacement ports 18 (in the area X1 located on the bottom surface 13a side) Hereinafter, the replacement ports 18a and 18b) are also arranged in the vertical direction. Also, two replacement ports 18 (hereinafter also referred to as replacement ports 18c and 18d, respectively) exist side by side in the region X2 located above the region X1.

上述した換装口18a〜18dは、シャッターSn(n=1〜4の自然数)がそれぞれ独立的に作動可能なように取り付けられている。換装口18a〜18dは、シャッターSnを開くことにより、従来公知のロボットハンド等によって構成される移載装置(図示せず)を用いて基板Wを熱処理室13に対して出し入れ可能な状態になる。   The replacement ports 18a to 18d described above are attached so that the shutters Sn (n = 1 to 4) can be operated independently. The replacement ports 18 a to 18 d are in a state in which the substrate W can be taken in and out of the heat treatment chamber 13 by using a transfer device (not shown) constituted by a conventionally known robot hand or the like by opening the shutter Sn. .

熱処理室13の略中央部には、基板Wを配置するためのラック30が設けられている。ラック30は、上下方向に多数の棚40を所定の間隔毎に並ぶように配置した構成とされている。ラック30の底部には、昇降装置(図示せず)の昇降軸36が取り付けられており、昇降軸36の伸縮により熱処理室13内でラック30が上下動し、各換装口18と各棚40との位置関係を調整可能とされている。   A rack 30 for placing the substrate W is provided in a substantially central portion of the heat treatment chamber 13. The rack 30 is configured such that a large number of shelves 40 are arranged at predetermined intervals in the vertical direction. An elevating shaft 36 of an elevating device (not shown) is attached to the bottom of the rack 30, and the rack 30 moves up and down in the heat treatment chamber 13 due to the expansion and contraction of the elevating shaft 36, and each replacement opening 18 and each shelf 40. The positional relationship between and can be adjusted.

熱処理室13の底面13aには、排気口21が設けられている。排気口21は、熱処理室13の正面13b側、すなわち換装口18側に隣接する位置に設けられている。排気口21には、排気装置11が配管22を介して接続されている。排気装置11は、従来公知の送風機やポンプなどによって構成されており、熱処理室13内に存在する空気などを熱処理室13の外側に向けて吸引し、排気することができる。配管22の中途には、弁23が設けられている。   An exhaust port 21 is provided on the bottom surface 13 a of the heat treatment chamber 13. The exhaust port 21 is provided at a position adjacent to the front surface 13 b side of the heat treatment chamber 13, that is, the replacement port 18 side. The exhaust device 11 is connected to the exhaust port 21 via a pipe 22. The exhaust device 11 is configured by a conventionally known blower, pump, or the like, and can suck and exhaust air or the like existing in the heat treatment chamber 13 toward the outside of the heat treatment chamber 13. A valve 23 is provided in the middle of the pipe 22.

本実施形態の熱処理装置1は、熱処理室13内に設けられたラック30の棚40上に配され焼成が終わった基板Wと、熱処理室13の外部にある未焼成状態の基板Wとをロボットハンドなどの移載装置(図示せず)を用いて入れ替えることにより、基板Wの焼成を連続的に実施する、いわゆるタクトシステムを採用したものである。以下、本実施形態の熱処理装置1の動作について、図面を参照しつつ詳細に説明する。   The heat treatment apparatus 1 of the present embodiment is a robot that moves a substrate W placed on a shelf 40 of a rack 30 provided in the heat treatment chamber 13 and has been fired, and an unfired substrate W outside the heat treatment chamber 13. A so-called tact system is employed in which the substrate W is continuously baked by switching using a transfer device (not shown) such as a hand. Hereinafter, operation | movement of the heat processing apparatus 1 of this embodiment is demonstrated in detail, referring drawings.

熱処理装置1は、基板Wの焼成(熱処理)に先立ち、図示しない制御装置によってヒーター16や送風機17を作動させて熱風を熱処理室13に送り込み、熱処理室13内の温度を所定の熱処理温度に調整する。熱処理室13内の雰囲気温度が所定の熱処理温度(本実施形態では230℃〜250℃)に達すると、熱処理装置1は、基板Wを焼成可能な状態となる。   Prior to the firing (heat treatment) of the substrate W, the heat treatment apparatus 1 operates the heater 16 and the blower 17 by a control device (not shown) to send hot air into the heat treatment chamber 13 to adjust the temperature in the heat treatment chamber 13 to a predetermined heat treatment temperature. To do. When the atmospheric temperature in the heat treatment chamber 13 reaches a predetermined heat treatment temperature (230 ° C. to 250 ° C. in the present embodiment), the heat treatment apparatus 1 is ready to fire the substrate W.

上記したようにして熱処理室13の雰囲気温度が熱処理温度に到達すると、図4に示すように、熱処理装置1の制御装置(図示せず)は、基板Wの出し入れのために、換装口18a〜18dのシャッターSn(n=1〜4の自然数)を下方にあるものから順に開閉させる。また、制御手段は、一番上のシャッターS4を閉じた後は、前記したのと同様にして一番下のシャッターS1から順に各シャッターSnを開閉させる。また、制御装置は、各シャッターSnが作動するタイミングまでに、換装口18a〜18dのうち開状態になるものに相当する位置に、基板Wを出し入れすべき棚40が到来するようにラック30を上下動させる。   When the atmospheric temperature of the heat treatment chamber 13 reaches the heat treatment temperature as described above, the control device (not shown) of the heat treatment apparatus 1 is used for loading and unloading the substrate W as shown in FIG. The shutter Sn of 18d (n = 1 to 4) is opened and closed sequentially from the lower one. Further, after closing the uppermost shutter S4, the control means opens and closes each shutter Sn in order from the lowermost shutter S1 in the same manner as described above. In addition, the control device moves the rack 30 so that the shelf 40 where the substrate W is to be taken in and out arrives at a position corresponding to the opening of the replacement ports 18a to 18d before the timing when each shutter Sn is operated. Move up and down.

熱処理装置1は、換装口18a〜18dのうち、シャッターSnの作動により開状態となったものを介して基板Wを出し入れすることができる。換装口18a〜18dは、基板Wの出し入れのために割り当てられた時間が経過すると、再びシャッターSnが作動し、閉状態となる。その後、次のシャッターSnが作動し、前記したのと同様に所定の時間内にわたって基板Wを出し入れ可能な状態になる。   The heat treatment apparatus 1 can take in and out the substrate W through the exchange ports 18a to 18d opened by the operation of the shutter Sn. When the time allotted for taking in and out of the substrate W elapses, the replacement holes 18a to 18d are operated again by the shutter Sn. Thereafter, the next shutter Sn is activated, and the substrate W can be taken in and out for a predetermined time in the same manner as described above.

ここで、上述したように、本実施形態の熱処理装置1では、各換装口18a〜18dが、下方にあるものから順番に開閉する。そのため、各換装口18a〜18dのうち、領域X1に存在する換装口18a,18bが開状態になるタイミングを基準として設定される期間aと、領域X2に存在する換装口18c,18dが開状態になるタイミングを基準として設定される期間bとが時間の経過と共に交互に到来する。熱処理装置1では、前述した期間aと期間bとで、排気装置11の出力が切り替えられる。   Here, as above-mentioned, in the heat processing apparatus 1 of this embodiment, each replacement | exchange port 18a-18d opens and closes in order from what exists below. Therefore, among the replacement ports 18a to 18d, the period a set based on the timing when the replacement ports 18a and 18b existing in the region X1 are opened, and the replacement ports 18c and 18d existing in the region X2 are opened. The period b set on the basis of the timing becomes the alternating with the passage of time. In the heat treatment apparatus 1, the output of the exhaust device 11 is switched between the period a and the period b described above.

具体的には、本実施形態では、図4に示すように、各換装口18a〜18dのうちの一つが開状態になるタイミングと、このタイミングの直前において他の換装口18a〜18dが閉状態になるタイミングとの間に、わずかな待機時間tが設けられている。また、本実施形態では、熱処理装置1の起動後、最初に換装口18aが開くタイミングに対して前述した待機時間tだけ前のタイミングから、領域X1の換装口18bが閉状態になるまでの間が期間aと設定されている。同様に、領域X1に設けられた換装口18aが開状態になるタイミングに対して前述した待機時間tだけ前のタイミング、すなわち領域X2に設けられた換装口18dが閉状態になったタイミングから、領域X1の換装口18bが閉状態になるまでの期間についても期間aと設定されている。また、領域X2に設けられた換装口18cが開状態になるタイミングに対して前述した待機時間tだけ前のタイミング、すなわち領域X1に設けられた換装口18bが閉状態になったタイミングから、領域X2の換装口18dが閉状態になるまでの間が期間bと設定されている。   Specifically, in this embodiment, as shown in FIG. 4, the timing at which one of the replacement ports 18 a to 18 d is opened, and the other replacement ports 18 a to 18 d are closed immediately before this timing. A slight waiting time t is provided between the timing when the time elapses. Further, in the present embodiment, after the heat treatment apparatus 1 is started, the timing from the timing before the waiting time t described above to the timing at which the replacement opening 18a is first opened until the replacement opening 18b in the region X1 is closed. Is set as a period a. Similarly, from the timing before the waiting time t described above with respect to the timing when the replacement port 18a provided in the region X1 is opened, that is, from the timing when the replacement port 18d provided in the region X2 is closed. The period until the replacement opening 18b in the region X1 is closed is also set as the period a. Further, from the timing before the above-described waiting time t with respect to the timing when the replacement port 18c provided in the region X2 is opened, that is, from the timing when the replacement port 18b provided in the region X1 is closed. The period b is set until the X2 replacement opening 18d is closed.

図4に示すように、熱処理装置1は、期間aにおいて排気装置11の出力がp1に設定され、作動する。これにより、図5に示すように、熱処理室13内の領域X1において換装口18a,18bに近い位置の静圧が熱処理室13の外気圧Poと同等、あるいは、外気圧Po以下となる。そのため、基板Wの出し入れのために換装口18a,18bが開状態になっても、熱処理室13の内側から外側に向けて生成ガス等を含む空気が漏洩しない。また、期間aにおいては、換装口18c,18dが設けられた領域X2の静圧が外気圧Poよりも高いが、換装口18c,18dは閉状態である。そのため、換装口18c,18dにおいて、生成ガス等を含む空気の漏洩や、外気の流入が起こらない。   As shown in FIG. 4, the heat treatment apparatus 1 operates with the output of the exhaust apparatus 11 set to p1 during the period a. As a result, as shown in FIG. 5, the static pressure at a position near the replacement ports 18 a and 18 b in the region X <b> 1 in the heat treatment chamber 13 is equal to or less than the external pressure Po of the heat treatment chamber 13. Therefore, even if the replacement ports 18a and 18b are opened for loading and unloading the substrate W, the air containing the generated gas does not leak from the inside of the heat treatment chamber 13 to the outside. In the period a, the static pressure in the region X2 where the replacement ports 18c and 18d are provided is higher than the external pressure Po, but the replacement ports 18c and 18d are closed. Therefore, no leakage of air containing generated gas or the like and no inflow of outside air occur at the replacement ports 18c and 18d.

一方、熱処理装置1は、期間bにおいて排気装置11の出力が上述したp1よりも大きなp2に設定され、作動する。これにより、図5に示すように、熱処理室13内の領域X1だけでなく、領域X2においても換装口18c,18dに近い位置の静圧が熱処理室13の外気圧Poと同等、あるいは、外気圧Po以下となる。そのため、期間bにおいて基板Wの出し入れのために換装口18c,18dが開状態になっても、熱処理室13の内側から外側に向けて生成ガス等を含む空気が漏洩しない。また、期間bにおいては、領域X1において換装口18a,18bに隣接する部分の静圧が、熱処理室13の外気圧Poよりも低くなるが、換装口18a,18bは閉状態となっている。そのため、期間bにおいて、換装口18a,18bから外気が熱処理室13の内側に流入することがなく、熱処理室13内の温度分布が不均一になったり、予期せぬ場所における昇華物の発生や付着といった不具合が起こらない。   On the other hand, the heat treatment apparatus 1 operates by setting the output of the exhaust apparatus 11 to p2 larger than the above-described p1 in the period b. As a result, as shown in FIG. 5, not only in the region X1 in the heat treatment chamber 13 but also in the region X2, the static pressure near the replacement ports 18c and 18d is equal to the external pressure Po in the heat treatment chamber 13 or outside. Atmospheric pressure Po or lower. Therefore, even if the replacement ports 18c and 18d are opened for loading and unloading the substrate W in the period b, the air containing the generated gas does not leak from the inside to the outside of the heat treatment chamber 13. In the period b, the static pressure in the portion adjacent to the replacement ports 18a and 18b in the region X1 is lower than the external pressure Po of the heat treatment chamber 13, but the replacement ports 18a and 18b are closed. Therefore, in the period b, the outside air does not flow into the heat treatment chamber 13 from the replacement ports 18a and 18b, the temperature distribution in the heat treatment chamber 13 becomes non-uniform, generation of sublimates in unexpected places, There is no problem of adhesion.

上記実施形態では、開状態になる換装口18が設けられている領域X1,X2の静圧が、外気圧Poと同等、あるいは、外気圧Po以下となるように排気装置11の出力が調整されるものであったが、本発明はこれに限定されるものではない。具体的には、領域X1,X2における静圧の調整に加えて生成ガスの漏洩を防止する方策が施されており、領域X1,X2における静圧が多少外気圧Poよりも高い気圧P1であっても熱処理室13から生成ガス等を含む空気の漏洩を防止することができるような場合は、開状態になる換装口18が設けられている領域X1,X2の静圧が気圧P1と同等あるいはこれ以下となるように排気装置11の出力を調整することとしてもよい。   In the above embodiment, the output of the exhaust device 11 is adjusted so that the static pressure in the regions X1 and X2 in which the exchange ports 18 that are in the open state are provided is equal to or less than the external pressure Po. However, the present invention is not limited to this. Specifically, in addition to adjusting the static pressure in the regions X1 and X2, measures are taken to prevent leakage of the product gas, and the static pressure in the regions X1 and X2 is a pressure P1 that is slightly higher than the external pressure Po. However, in the case where leakage of air containing generated gas or the like from the heat treatment chamber 13 can be prevented, the static pressure in the regions X1 and X2 provided with the replacement ports 18 that are opened is equal to the atmospheric pressure P1 or It is good also as adjusting the output of the exhaust apparatus 11 so that it may become below this.

また、上記した熱処理装置1は、開状態になる換装口18と、排気口21との距離に応じて排気装置11の排気能力を調整することで熱処理室13から生成ガスを含む空気が漏洩したり、熱処理室13に換装口18を介して外気が流入するのを防止するのに加え、生成ガスの漏洩や外気の流入を防止する方策として、図6に示すような構成を採用したものとしてもよい。具体的には、図6に示す例では、換装口18と熱処理室13との間に、熱処理室13の内側および外側の気圧よりも静圧が低い低圧領域50が形成されている。さらに詳細には、図6に示す例では、換装口18に対して上方および下方に隣接する位置にダクト状の低圧領域50が設けられている。低圧領域50を構成する壁面であって、換装口18を介して出入りする基板Wに対向する面51,52には、スリット状の開口53,55が設けられている。そのため、図6に示すような構成とした場合は、基板Wの出し入れのために換装口18が開いても、熱処理室13から外側に向けて漏洩しようとする気体は、開口53,55を介して回収され、外部に漏洩しない。また、換装口18から熱処理室13側に向けて流れる気体についても、熱処理室13に至る以前に開口53,55に吸い込まれ、熱処理室13に侵入しない。そのため、上記実施形態で説明したような排気手段11の排気能力の調整に加えて、図6に示すような構成を採用すれば、熱処理室13から生成ガスを含む気体が外部に漏洩したり、外部から熱処理室13内に外気が流入して熱処理室13内の温度分布が乱れるといった不具合をより一層確実に防止することができる。   Further, in the heat treatment apparatus 1 described above, the air containing the generated gas leaks from the heat treatment chamber 13 by adjusting the exhaust capacity of the exhaust apparatus 11 according to the distance between the exchange port 18 that is opened and the exhaust port 21. In addition to preventing the outside air from flowing into the heat treatment chamber 13 through the replacement port 18, the configuration shown in FIG. 6 is adopted as a measure for preventing the leakage of generated gas and the inflow of outside air. Also good. Specifically, in the example shown in FIG. 6, a low pressure region 50 having a static pressure lower than the air pressure inside and outside the heat treatment chamber 13 is formed between the replacement port 18 and the heat treatment chamber 13. More specifically, in the example shown in FIG. 6, a duct-like low-pressure region 50 is provided at a position adjacent to the replacement port 18 above and below. Slit-like openings 53 and 55 are provided on the walls 51 and 52 that constitute the low-pressure region 50 and face the substrate W that enters and exits through the replacement port 18. Therefore, in the case of the configuration shown in FIG. 6, even if the replacement opening 18 is opened for taking in and out the substrate W, the gas that leaks outward from the heat treatment chamber 13 passes through the openings 53 and 55. Collected and not leaked to the outside. In addition, the gas flowing from the replacement port 18 toward the heat treatment chamber 13 is also sucked into the openings 53 and 55 before reaching the heat treatment chamber 13 and does not enter the heat treatment chamber 13. Therefore, in addition to the adjustment of the exhaust capacity of the exhaust means 11 as described in the above embodiment, if the configuration as shown in FIG. 6 is adopted, the gas containing the generated gas leaks from the heat treatment chamber 13 to the outside. The problem that the outside air flows into the heat treatment chamber 13 from the outside and the temperature distribution in the heat treatment chamber 13 is disturbed can be prevented more reliably.

上記実施形態では、熱処理室13内の領域を排気口21からの距離に基づいて領域X1,X2の2領域に分けると共に、各領域X1,X2に設けられた換装口18が開状態になるタイミングを基準として期間a,bを設定し、各期間a,b毎に排気装置11の出力を調整するものであったが、本発明はこれに限定されるものではない。具体的には、熱処理室13内の領域をさらに多数の領域Xn(n=3以上の自然数)に分け、多数の領域Xnのうちの一つ(領域A)に設けられた換装口18が開く場合における排気装置11の排気能力が、当該領域Xn(領域A)よりも排気口21から離れた位置にある他の領域Xn(領域B)の換装口18が開く場合における排気装置11の排気能力よりも低くなるように排気装置11の出力を調整することとしてもよい。かかる構成とした場合は、換装口18と排気口21との距離に応じて、排気装置11の出力がさらに多段階で切り替えられる事となり、生成ガス等を含む空気が熱処理室13から漏洩するのを防止するのに最適な状態となるように各領域Xnの静圧を調整することができる。   In the above embodiment, the region in the heat treatment chamber 13 is divided into two regions X1 and X2 based on the distance from the exhaust port 21, and the replacement port 18 provided in each region X1 and X2 is opened. The periods a and b are set based on the above and the output of the exhaust device 11 is adjusted for each period a and b. However, the present invention is not limited to this. Specifically, the region in the heat treatment chamber 13 is further divided into a large number of regions Xn (n = a natural number of 3 or more), and the replacement port 18 provided in one of the large number of regions Xn (region A) opens. The exhaust capability of the exhaust device 11 in the case where the replacement port 18 of the other region Xn (region B) located farther from the exhaust port 21 than the region Xn (region A) is opened. It is good also as adjusting the output of the exhaust apparatus 11 so that it may become lower. In the case of such a configuration, the output of the exhaust device 11 is switched in more stages depending on the distance between the replacement port 18 and the exhaust port 21, and air containing the generated gas leaks from the heat treatment chamber 13. It is possible to adjust the static pressure in each region Xn so as to be in an optimum state for preventing the above.

上述したように、熱処理装置1では、熱処理装置本体10の正面13bに換装口18が設けられており、これに対して隣接する位置に排気口21が設けられた構成であるため、換装口18を介して外部に漏洩しようとする生成ガス等を排気口21側に吸引でき、生成ガス等の漏洩を確実に防止できる。なお、排気口21は、上記したように正面13bに隣接する位置に設けることが望ましいが、例えば熱処理室13の底面13aの中央部や、これよりもやや正面13b側に偏在した位置、温調部12内や、温調部12側に偏在した位置、熱処理室13の周壁など、適宜の位置に設けることができる。また、排気口21を正面13bから離れた位置に設ける場合は、正面13bに近い位置に排気取入口を設け、当該排気取入口と排気口21とをダクトなどで繋いだ構成とすることも可能である。   As described above, in the heat treatment apparatus 1, the replacement opening 18 is provided on the front surface 13 b of the heat treatment apparatus body 10, and the exhaust opening 21 is provided at a position adjacent to the replacement opening 18. The generated gas or the like that is about to leak to the outside can be sucked to the exhaust port 21 side through the valve, and leakage of the generated gas or the like can be reliably prevented. As described above, the exhaust port 21 is desirably provided at a position adjacent to the front surface 13b. However, for example, the central portion of the bottom surface 13a of the heat treatment chamber 13, a position slightly unevenly located on the front surface 13b side, and temperature control. It can be provided at an appropriate position such as a position unevenly distributed in the part 12, the temperature control part 12 side, or a peripheral wall of the heat treatment chamber 13. Further, when the exhaust port 21 is provided at a position away from the front surface 13b, an exhaust intake port may be provided at a position close to the front surface 13b, and the exhaust intake port and the exhaust port 21 may be connected by a duct or the like. It is.

上記実施形態で示したように、熱処理装置1は、各換装口18および領域X1,X2が上下方向に並んでおり、熱処理室13の底面13a側に排気口21が設けられているため、上方側の領域X2における静圧が下方側の領域X1よりも高くなる傾向にある。熱処理室13内では、空気や生成ガスが加熱され高温になるため上方側に向かう傾向にあるため、領域X2の静圧が外気圧Poよりも高いと、換装口18c,18dが開状態になった際に生成ガスが漏洩したり、高温の空気と共に熱エネルギーが漏洩する可能性がある。しかし、本実施形態の熱処理装置1では、上方側にある領域Aの換装口18が開く際に、領域Bの換装口18が開く場合よりも排気装置11の排気能力を向上させることとしている。そのため、上記したように、換装口18や領域X1,X2から生成ガスを含む空気が漏洩するのを確実に防止できる。   As shown in the above embodiment, the heat treatment apparatus 1 has the replacement ports 18 and the regions X1 and X2 arranged in the vertical direction, and the exhaust port 21 is provided on the bottom surface 13a side of the heat treatment chamber 13. The static pressure in the region X2 on the side tends to be higher than that on the region X1 on the lower side. In the heat treatment chamber 13, since the air and the generated gas are heated to high temperature and tend to move upward, when the static pressure in the region X <b> 2 is higher than the external pressure Po, the replacement ports 18 c and 18 d are opened. In this case, the generated gas may leak or the heat energy may leak together with the high-temperature air. However, in the heat treatment apparatus 1 of the present embodiment, when the replacement port 18 in the upper region A is opened, the exhaust capability of the exhaust device 11 is improved as compared with the case where the replacement port 18 in the region B is opened. Therefore, as described above, it is possible to reliably prevent the air containing the generated gas from leaking from the replacement port 18 and the regions X1 and X2.

なお、上記実施形態では、左右方向(幅方向)に拡がる各換装口18が上下方向(高さ方向)に並んだ構成を例示したが、本発明はこれに限定されるものではなく、例えば各換装口18が上下方向(高さ方向)に拡がるように形成され、それぞれが左右方向(幅方向)に並んだ構成であってもよい。各換装口18を幅方向に並べて配置した場合についても、上記実施形態で説明したのと同様に、各換装口18が並ぶ方向の一端側に排気口21を設けた構成とすると共に、排気口21からの距離に応じて領域X1,X2を想定し、領域X2の換装口18が開く際に、領域X1の換装口18が開く場合よりも排気装置11の排気能力を高くすることとしてもよい。かかる構成によれば、開口領域が高さ方向に拡がる各換装口18を設けた場合についても、生成ガスを含む空気が熱処理室13の外側に漏洩するのを防止することができる。   In addition, in the said embodiment, although each replacement port 18 extended in the left-right direction (width direction) illustrated the structure arranged in the up-down direction (height direction), this invention is not limited to this, For example, each The replacement opening 18 may be formed so as to expand in the vertical direction (height direction), and each may be arranged in the left-right direction (width direction). In the case where the replacement ports 18 are arranged side by side in the width direction, the exhaust port 21 is provided on one end side in the direction in which the replacement ports 18 are arranged, as described in the above embodiment. Assuming the regions X1 and X2 according to the distance from the region 21, when the replacement port 18 in the region X2 is opened, the exhaust capacity of the exhaust device 11 may be made higher than when the replacement port 18 in the region X1 is opened. . According to such a configuration, it is possible to prevent the air containing the generated gas from leaking to the outside of the heat treatment chamber 13 even when each replacement port 18 whose opening region expands in the height direction is provided.

上記実施形態では、各換装口18が順次開閉する際に、先に開状態であった換装口18が閉止状態になってから次の換装口18が開状態になるまでの間に所定の待機時間tが設けられているため、排気装置11の排気能力を切り替えるための基準となる期間a,bを、領域X1,X2において換装口18a,18cが開状態になるタイミングに対し、待機時間t分だけ先行させている。そのため、熱処理装置1では、領域X1,X2において最初に開く換装口18a,18cが開状態になるまでの間を領域X1,X2の静圧調整に利用することができる。なお、上記実施形態では、換装口18a〜18dのいずれが開状態になる場合であっても、待機時間tが均一であったが、本発明はこれに限定されるものではなく、例えば必要に応じて適宜変更したり、待機時間tを設けない構成としてもよい。   In the above-described embodiment, when each replacement opening 18 is opened and closed sequentially, a predetermined waiting time is required after the replacement opening 18 that has been opened first is closed until the next replacement opening 18 is opened. Since the time t is provided, the reference periods a and b for switching the exhaust capacity of the exhaust device 11 are set to the waiting time t with respect to the timing when the replacement ports 18a and 18c are opened in the regions X1 and X2. It is preceded by minutes. Therefore, in the heat treatment apparatus 1, the time until the replacement ports 18a and 18c that are initially opened in the regions X1 and X2 are in the open state can be used for static pressure adjustment in the regions X1 and X2. In the above-described embodiment, the standby time t is uniform even when any of the replacement ports 18a to 18d is in the open state, but the present invention is not limited to this, and is necessary, for example. Accordingly, the configuration may be changed as appropriate, or the standby time t may not be provided.

また、上記実施形態では、待機時間tを静圧調整のために利用するものであったが、本発明はこれに限定されるものではなく、領域X1,X2の静圧が所定値になるまで各換装口18a〜18dが開状態にならない構成とすることも可能である。かかる構成によれば、生成ガス等を含む空気が換装口18を介して漏洩するのをより一層確実に防止することができる。   In the above embodiment, the standby time t is used for static pressure adjustment. However, the present invention is not limited to this, and until the static pressure in the regions X1 and X2 reaches a predetermined value. It is also possible to adopt a configuration in which the replacement ports 18a to 18d are not opened. According to such a configuration, it is possible to prevent the air containing the generated gas and the like from leaking through the replacement port 18 more reliably.

上記実施形態では、排気装置11に接続された配管22に弁23を設けた例を例示したが、本発明はこれに限定されるものではなく、弁23を設けないものであってもよい。また、上記した排気装置11は、いかなる方策で排気能力を調整可能なものであってもよいが、いわゆるインバータ制御により排気能力を調整可能なものを好適に採用することができる。   In the said embodiment, although the example which provided the valve 23 in the piping 22 connected to the exhaust apparatus 11 was illustrated, this invention is not limited to this, The valve 23 may not be provided. In addition, the exhaust device 11 described above may be capable of adjusting the exhaust capacity by any method, but an apparatus capable of adjusting the exhaust capacity by so-called inverter control can be suitably employed.

上記した熱処理装置1において、複数設けられた換装口18の全てが閉状態である場合は、排気装置11を停止状態としても各換装口18から生成ガスや昇華物などが漏洩しない。また、各換装口18が全て閉状態である場合は、排気装置11の排気能力を冷却換気などのために必要とされる最小限のものに調整しても、各換装口18から生成ガスや昇華物などが漏洩しない。同様に、各換装口18が全て閉状態である場合は、各換装口18を開状態とするときにおける排気装置11の排気能力のうち、最も小さい排気能力(上記実施形態では、領域X1の換装口18が開状態になるときの出力p1)、あるいは、これと同程度の排気能力となるように、排気装置11の排気能力を調整してもよい。このように排気装置11の出力調整を行えば、排気手段の動作により消費されるエネルギーを必要最小限に抑制することができる。   In the heat treatment apparatus 1 described above, when all of the plurality of replacement ports 18 are in a closed state, the generated gas, sublimate, and the like do not leak from each replacement port 18 even when the exhaust device 11 is stopped. In addition, when all the changeover ports 18 are closed, even if the exhaust capacity of the exhaust device 11 is adjusted to the minimum required for cooling ventilation, the generated gas or No sublimation leaks. Similarly, when all the replacement ports 18 are in the closed state, the exhaust capability of the exhaust device 11 when the replacement ports 18 are opened is the smallest exhaust capability (in the above embodiment, the replacement of the region X1). The exhaust capacity of the exhaust device 11 may be adjusted so that the output p1) when the opening 18 is in the open state or an exhaust capacity comparable to this. By adjusting the output of the exhaust device 11 in this way, the energy consumed by the operation of the exhaust means can be suppressed to the minimum necessary.

本発明の一実施形態に係る熱処理装置を示す斜視図である。It is a perspective view which shows the heat processing apparatus which concerns on one Embodiment of this invention. 図1のA−A断面図である。It is AA sectional drawing of FIG. 図1のB−B断面図である。It is BB sectional drawing of FIG. 図1に示す熱処理装置の動作を示すタイミングチャートである。It is a timing chart which shows operation | movement of the heat processing apparatus shown in FIG. 熱処理室内の位置と静圧との関係を示すグラフである。It is a graph which shows the relationship between the position in a heat processing chamber, and a static pressure. 図1に示す熱処理装置の変形例に係る換装口近傍の構造を示す拡大断面図である。It is an expanded sectional view which shows the structure of the replacement port vicinity which concerns on the modification of the heat processing apparatus shown in FIG.

1 熱処理装置
11 排気装置(排気手段)
13 熱処理室
13a 底面
13b 正面(壁面)
21 排気口
X1 領域(領域A)
X2 領域(領域B)
Xn 領域(領域A,B)
a,b 期間
1 Heat treatment device 11 Exhaust device (exhaust means)
13 Heat treatment chamber 13a Bottom surface 13b Front (wall surface)
21 Exhaust port X1 area (area A)
X2 area (area B)
Xn region (regions A and B)
a, b period

Claims (9)

被加熱物を収容可能な熱処理室と、
当該熱処理室に対して被加熱物を出し入れ可能な複数の換装口と、
前記熱処理室の内側から外側に向けて気体を吸引し排出するための排気能力を変更可能な排気手段と、
熱処理室内から外側に向けて気体を排出するための排気口と、を備えており、
前記熱処理室は、当該熱処理室内の換装口に隣接する位置における静圧が、前記排気手段が動作状態とされた状態において、各換装口と前記排気口との距離に応じて異なるものであり、
前記換装口のいずれかが開状態となるときに、換装口に隣接する位置における前記熱処理室内の静圧が、前記換装口のいずれかを開状態とする前よりも低圧になるように前記排気手段の排気能力が調整されることを特徴とする熱処理装置。
A heat treatment chamber capable of accommodating an object to be heated;
A plurality of outlets that allow the heated object to be taken in and out, and
An exhaust means capable of changing the exhaust capacity for sucking and exhausting the gas from the inside to the outside of the heat treatment chamber;
An exhaust port for discharging gas from the heat treatment chamber to the outside ,
In the heat treatment chamber, the static pressure at a position adjacent to the replacement port in the heat treatment chamber is different depending on the distance between each replacement port and the exhaust port in a state where the exhaust means is in an operating state.
When any of the replacement ports is in an open state, the static pressure in the heat treatment chamber at a position adjacent to each of the replacement ports is lower than before the open state of any of the replacement ports. A heat treatment apparatus characterized in that the exhaust capacity of the exhaust means is adjusted.
換装口のいずれかが開状態となるときに、当該開状態となる換装口に隣接する位置における前記熱処理室内の静圧が、当該熱処理室の外側の気圧以下になるように前記排気手段の排気能力が調整されることを特徴とする請求項1に記載の熱処理装置。   When any of the replacement ports is in an open state, the exhaust means exhausts the static pressure in the heat treatment chamber at a position adjacent to the replacement port in the open state to be equal to or lower than the atmospheric pressure outside the heat treatment chamber. The heat treatment apparatus according to claim 1, wherein the capacity is adjusted. 開状態になる換装口と前記排気口との距離に応じて、排気手段の排気能力が調整されることを特徴とする請求項1又は2に記載の熱処理装置。   3. The heat treatment apparatus according to claim 1, wherein the exhaust capacity of the exhaust means is adjusted according to a distance between the exchange port that is in an open state and the exhaust port. 換装口が、前記排気口に近い領域A、並びに、前記排気口に対して前記領域Aよりも離れた領域Bに複数並べて設けられており、当該領域A,Bに設けられた前記換装口が所定の順番で開閉するものであり、
前記領域Bに配された換装口が開状態になるタイミングを基準として所定の期間における前記排気手段の排気能力が、前記領域Aに配された換装口が開状態になるタイミングを基準として所定の期間における前記排気手段の排気能力よりも高いことを特徴とする請求項1〜3のいずれかに記載の熱処理装置。
A plurality of replacement ports are provided side by side in a region A close to the exhaust port and a region B farther from the region A than the exhaust port, and the replacement ports provided in the regions A and B are It opens and closes in a predetermined order,
The exhaust capacity of the exhaust means in a predetermined period with reference to the timing when the replacement port arranged in the region B is opened is determined based on the timing when the replacement port arranged in the region A is opened. The heat treatment apparatus according to claim 1, wherein the heat treatment apparatus has a higher exhaust capacity than the exhaust means in a period.
領域Aに対して領域Bが上方に位置しており、
排気口が、熱処理室の下方側の位置に設けられていることを特徴とする請求項4に記載の熱処理装置。
Region B is located above region A,
The heat treatment apparatus according to claim 4, wherein the exhaust port is provided at a position below the heat treatment chamber.
排気手段の排気能力の調整が、複数の換装口のいずれかが開状態になる前に完了することを特徴とする請求項1〜5のいずれかに記載の熱処理装置。   The heat treatment apparatus according to any one of claims 1 to 5, wherein the adjustment of the exhaust capacity of the exhaust means is completed before any of the plurality of replacement ports is opened. 熱処理室を構成し、換装口が設けられた壁面に対して隣接する位置に、排気口が設けられており、
排気手段により、前記排気口を介して前記熱処理室内の気体を熱処理室の外部に排出可能であることを特徴とする請求項1〜6のいずれかに記載の熱処理装置。
An exhaust port is provided at a position that constitutes a heat treatment chamber and is adjacent to the wall surface provided with the replacement port.
The heat treatment apparatus according to any one of claims 1 to 6, wherein the gas in the heat treatment chamber can be discharged to the outside of the heat treatment chamber through the exhaust port by an exhaust means.
換装口と熱処理室との間に、熱処理室の内側および外側の気圧よりも低圧の低圧領域が設けられていることを特徴とする請求項1〜7のいずれかに記載の熱処理装置。   The heat treatment apparatus according to any one of claims 1 to 7, wherein a low pressure region having a pressure lower than the pressure inside and outside the heat treatment chamber is provided between the exchange opening and the heat treatment chamber. 全ての換装口が閉状態である場合に、排気手段が、排気流量が所定の最小流量となる状態、各換装口が開くときに調整される排気能力のうちの最小の排気能力を発揮する状態、あるいは、停止状態、のいずれかとなるように、排気手段の動作状態が調整されることを特徴とする請求項1〜8のいずれかに記載の熱処理装置。   When all the changeover ports are closed, the exhaust means is in a state in which the exhaust flow rate is a predetermined minimum flow rate, or in a state in which the minimum exhaust capability is adjusted among the exhaust capacities adjusted when each changeover port is opened. The heat treatment apparatus according to any one of claims 1 to 8, wherein the operation state of the exhaust means is adjusted so as to be in any one of the stop state.
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