JP5517584B2 - 電子顕微鏡 - Google Patents
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Description
図1は、特性X線分光装置と電子線エネルギー分光装置(EELS)を備えた走査透過型電子顕微鏡(STEM)の主要部分の概略構成を示す図である。なお、この走査透過型電子顕微鏡は、各実施例において共通のものである。
次に、電子線エネルギー分光装置22による電子線エネルギー損失スペクトル測定や元素像観察時の制御装置21内の動作について説明する。
続いて、特性X線分光装置6による元素像観察時の制御装置21内における動作について説明する。
さらに、特性X線分光装置6と電子線エネルギー分光装置22を用いて、高S/Nかつ定量的な元素像や特性X線スペクトル、並びに高S/Nかつ高エネルギー分解能の元素像や電子線エネルギー損失スペクトルの計測について説明する。
上記(4)で述べたように、Zコントラスト像,特性X線スペクトル、及び電子線エネルギー損失スペクトルを同一場所から同時に計測できる。特性X線スペクトルを基に、分析対象における元素のピーク強度を抽出し、それを画像の輝度信号とすれば、特性X線による元素分布像を得る。また、電子線エネルギー損失スペクトルを基に、分析対象の元素のピーク強度を抽出し、それを画像の輝度信号とすれば、電子線エネルギー損失スペクトルによる元素分布像を得る。電子線エネルギー損失スペクトルから分析対象の元素のピーク強度を抽出する方法は、前述の非特許文献2に記載されている。
実施例1では、1つのピクセルにおける電子線照射中電子線エネルギー損失スペクトルの計測において、コアロスを含む電子線エネルギー損失スペクトル(core−1)とゼロロスを含む電子線エネルギー損失スペクトル(zero)を2つの場合に分けていた(図3参照)が、本実施例では、別の分析元素のコアロスを含む電子線エネルギー損失スペクトル(core−2)を取得する(図4参照)。別の分析元素におけるコアロスを含む電子線エネルギー損失スペクトル(core−2)を計測する時間(図4のコアロス(2)(771)、Δt_EELS−2)は、最初の分析元素のコアロスを含む電子線エネルギー損失スペクトル(core−1)を計測する時間(図4のコアロス(1)(761)、Δt_EELS−1)と同じである必要はなく、対象とする元素ごとに最適化すればよい。その一例を図4に示す。2種類の元素を対象としたそれぞれの電子線エネルギー損失スペクトルの計測(図4のコアロス(1)(761)とコアロス(2)(771))と、ゼロロスを含む電子線エネルギー損失スペクトルの計測(図4のゼロロス(751))が行われる。
実施例1における「(5)特性X線分光装置と電子線エネルギー分光装置によるスペクトル同時計測を用いた元素像観察」で述べたように、本実施例で取得した特性X線スペクトルや電子線エネルギー損失スペクトルを基に、それぞれの元素分布像を取得できる。
2 電子線
3 電子線走査コイル
4 対物レンズ
5 試料
6 特性X線分光装置
7 投影レンズまたは投影レンズ系
9 Zコントラスト検出器
10 物点
11 電子線
12 多極子レンズ
14 4重極レンズ
15 エネルギー分散部
16 電子線検出器
17 エネルギー分散面
18 ドリフトチューブ
21 制御装置
22 電子線エネルギー分光装置
23 演算部
24 データベース部
25 表示装置
27 メモリー部
28 電子線エネルギー分光装置制御部
29 中央制御装置
30 STEM制御部
31 入力装置
40 特性X線分光装置制御部
Claims (5)
- 電子線源で発生させた電子線を試料に照射する電子線照射装置と、
前記試料を透過した非弾性散乱電子の電子線のエネルギーを分析する電子線エネルギー分光装置と、
前記電子線照射装置及び前記電子線エネルギー分光装置を制御し、前記試料に関する像を取得する制御装置と、
を備えた電子顕微鏡であって、
前記制御装置が、前記試料の同一照射位置に前記電子線を所定時間照射するように前記電子線照射装置を制御し、
前記所定時間内に前記電子線エネルギー分光装置により検出した複数の電子線エネルギー損失スペクトルを取得し、前記電子線エネルギー分光装置から出力される複数の電子線エネルギー損失スペクトルが異なるエネルギー範囲となるよう制御し、
前記複数の電子線エネルギー損失スペクトルをつなぎ合わせた電子線エネルギー損失スペクトルを作成すること
を特徴とする電子顕微鏡。 - 請求項1の電子顕微鏡において、
前記電子線の照射によって前記試料から発生する特性X線を検出し、特性X線スペクト
ルを出力する特性X線分光装置を備え、
前記所定時間内に前記特性X線分光装置により検出した特性X線スペクトルを取得すること
を特徴とする電子顕微鏡。 - 請求項1の電子顕微鏡において、
前記所定時間内に前記電子線エネルギー分光装置から出力される複数のスペクトルが、分析対象とする元素のコアロスピークを含む電子線エネルギー損失スペクトルであり、同一エネルギー範囲の前記電子線エネルギー損失スペクトルを前記所定時間内に複数回取得すること
を特徴とする電子顕微鏡。 - 請求項1の電子顕微鏡において、
前記電子線エネルギー分光装置から出力される複数のスペクトルのうち1つが、ゼロロスを含む電子線エネルギー損失スペクトルであり、前記スペクトル検出器で予めゼロロス基準位置と定めたエネルギー基準位置と、ゼロロスピークのピクセル位置におけるエネルギーずれ量を検出し、前記エネルギーずれ量を基に、前記複数の電子線エネルギー損失スペクトルのエネルギーを補正し、
前記複数の電子線エネルギー損失スペクトルをつなぎ合わせた電子線エネルギー損失スペクトルを作成すること
を特徴とする電子顕微鏡。 - 請求項4の電子顕微鏡において、
前記所定時間内に前記電子線エネルギー分光装置から出力される複数のスペクトルが、分析対象とする元素のコアロスピークを含む電子線エネルギー損失スペクトルであり、前記エネルギー補正された同一エネルギー範囲の前記電子線エネルギー損失スペクトルを複数回積算すること
を特徴とする電子顕微鏡。
Priority Applications (4)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2009278105A JP5517584B2 (ja) | 2009-12-08 | 2009-12-08 | 電子顕微鏡 |
PCT/JP2010/006291 WO2011070704A1 (ja) | 2009-12-08 | 2010-10-25 | 電子顕微鏡 |
EP10835635.3A EP2511937B1 (en) | 2009-12-08 | 2010-10-25 | Electron microscope |
US13/514,306 US8901493B2 (en) | 2009-12-08 | 2010-10-25 | Electron microscope |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2009278105A JP5517584B2 (ja) | 2009-12-08 | 2009-12-08 | 電子顕微鏡 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2011123999A JP2011123999A (ja) | 2011-06-23 |
JP5517584B2 true JP5517584B2 (ja) | 2014-06-11 |
Family
ID=44145272
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2009278105A Active JP5517584B2 (ja) | 2009-12-08 | 2009-12-08 | 電子顕微鏡 |
Country Status (4)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US8901493B2 (ja) |
EP (1) | EP2511937B1 (ja) |
JP (1) | JP5517584B2 (ja) |
WO (1) | WO2011070704A1 (ja) |
Families Citing this family (13)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP5563995B2 (ja) * | 2011-01-17 | 2014-07-30 | 日本電子株式会社 | 電子プローブマイクロアナライザにおけるデータ処理方法及び電子プローブマイクロアナライザ |
JP2013033671A (ja) * | 2011-08-03 | 2013-02-14 | Hitachi High-Technologies Corp | 荷電粒子線装置 |
US9274070B2 (en) * | 2012-03-08 | 2016-03-01 | Appfive, Llc | System and process for measuring strain in materials at high spatial resolution |
CN104597112A (zh) * | 2013-10-31 | 2015-05-06 | 中国科学院大连化学物理研究所 | 一种时间分辨的带电粒子成像装置 |
CN104597477B (zh) * | 2013-10-31 | 2017-06-30 | 中国科学院大连化学物理研究所 | 一种用于研究负离子体系的光电子成像装置 |
US10297413B2 (en) * | 2015-03-10 | 2019-05-21 | North-Western International Cleaner Production Centre | Method and device for the production of highly charged ions |
EP3070732A1 (en) * | 2015-03-18 | 2016-09-21 | Fei Company | Apparatus and method of performing spectroscopy in a transmission charged-particle microscope |
CN106847659B (zh) | 2016-01-20 | 2019-10-11 | 加坦公司 | 使用直接检测传感器的电子能量损失光谱仪 |
EP3496129B1 (en) * | 2017-12-07 | 2023-11-01 | FEI Company | Transmission charged particle microscope with improved eels/eftem module |
WO2021046118A1 (en) * | 2019-09-03 | 2021-03-11 | Drexel University | Direct detection electron energy loss spectroscopy system |
EP3929962A1 (en) * | 2020-06-25 | 2021-12-29 | FEI Company | Method of imaging a specimen using a transmission charged particle microscope |
JP7200186B2 (ja) | 2020-09-17 | 2023-01-06 | 日本電子株式会社 | 荷電粒子線装置 |
JP7178725B2 (ja) * | 2020-11-30 | 2022-11-28 | 株式会社リガク | 蛍光x線分析装置 |
Family Cites Families (14)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US4253154A (en) * | 1979-01-11 | 1981-02-24 | North American Philips Corporation | Line scan and X-ray map enhancement of SEM X-ray data |
NL8700949A (nl) * | 1987-04-22 | 1988-11-16 | Philips Nv | Inrichting voor het meten van stralingsquanta, impulsonderscheidingsinrichting geschikt voor gebruik in en spectrometer voorzien van een dergelijke inrichting. |
JP3269524B2 (ja) * | 1998-10-05 | 2002-03-25 | 日本電気株式会社 | 電子エネルギー損失分光分析装置およびそのスペクトルシフト補正方法 |
JP3687541B2 (ja) * | 1999-01-04 | 2005-08-24 | 株式会社日立製作所 | 元素マッピング装置、走査透過型電子顕微鏡および元素マッピング方法 |
JP3790643B2 (ja) * | 1999-07-07 | 2006-06-28 | 日本電子株式会社 | エネルギー分散形x線検出器を備えた表面分析装置 |
EP1209720A3 (en) | 2000-11-21 | 2006-11-15 | Hitachi High-Technologies Corporation | Energy spectrum measurement |
JP3726673B2 (ja) * | 2000-11-21 | 2005-12-14 | 株式会社日立製作所 | エネルギースペクトル測定装置,電子エネルギー損失分光装置、及びそれを備えた電子顕微鏡、及び電子エネルギー損失スペクトル測定方法 |
JP3888980B2 (ja) * | 2003-03-18 | 2007-03-07 | 株式会社日立ハイテクノロジーズ | 物質同定システム |
FR2874124B1 (fr) * | 2004-08-04 | 2006-10-13 | Centre Nat Rech Scient Cnrse | Dispositif pour l'acquisition d'images et/ou de spectres de pertes d'energie |
JP2006196236A (ja) * | 2005-01-12 | 2006-07-27 | Hitachi High-Technologies Corp | 電子顕微鏡及び観察方法 |
DE102005014794B4 (de) * | 2005-03-31 | 2009-01-15 | Advanced Micro Devices, Inc., Sunnyvale | Verfahren zum Prüfen einer Halbleiterprobe mit mehreren Abtastungen |
JP4423230B2 (ja) * | 2005-05-20 | 2010-03-03 | 株式会社リガク | X線検出器の不感時間の測定方法 |
JP5086818B2 (ja) * | 2008-01-16 | 2012-11-28 | 株式会社日立ハイテクノロジーズ | 電子顕微鏡装置 |
JP4474473B2 (ja) * | 2008-03-31 | 2010-06-02 | 株式会社日立ハイテクノロジーズ | 電子分光器を備えた透過型電子顕微鏡 |
-
2009
- 2009-12-08 JP JP2009278105A patent/JP5517584B2/ja active Active
-
2010
- 2010-10-25 EP EP10835635.3A patent/EP2511937B1/en not_active Not-in-force
- 2010-10-25 WO PCT/JP2010/006291 patent/WO2011070704A1/ja active Application Filing
- 2010-10-25 US US13/514,306 patent/US8901493B2/en active Active
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
US8901493B2 (en) | 2014-12-02 |
US20120241611A1 (en) | 2012-09-27 |
JP2011123999A (ja) | 2011-06-23 |
EP2511937B1 (en) | 2018-04-11 |
EP2511937A1 (en) | 2012-10-17 |
EP2511937A4 (en) | 2015-03-04 |
WO2011070704A1 (ja) | 2011-06-16 |
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Date | Code | Title | Description |
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