JP5510522B2 - グラフェンシート系材料の処理方法 - Google Patents
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Description
A=−log(T)=log(1/T)=εbc
で表される法則をいう。
本発明は上記実施形態に限らず種々の変形が可能である。
ことを特徴とするグラフェンシート系材料の処理方法。
前記グラフェンシート系材料の表面に、前記グラフェンシート系材料に作用する反応性物質を含む雰囲気中で紫外線を照射することにより、前記グラフェンシート系材料に含まれるグラフェンシートを前記表面側から順次除去することにより、前記グラフェンシート系材料に含まれる前記グラフェンシートを所望の層数に制御する工程と
を有することを特徴とするグラフェンシート系材料の処理方法。
前記グラフェンシート系材料に含まれる前記グラフェンシートの層数を測定する工程を更に有する
ことを特徴とするグラフェンシート系材料の処理方法。
前記グラフェンシート系材料を形成する工程の後、前記グラフェンシートの層数を制御する工程の前に、前記グラフェンシート系材料のエッジ部を囲むマスク膜を形成する工程を更に有する
ことを特徴とするグラフェンシート系材料の処理方法。
前記反応性物質は、前記紫外線により活性化されて前記グラフェンシート系材料に作用する物質である
ことを特徴とするグラフェンシート系材料の処理方法。
前記反応性物質は、酸化性物質である
ことを特徴とするグラフェンシート系材料の処理方法。
前記雰囲気は、不活性気体で希釈された前記反応性物質を含む
ことを特徴とするグラフェンシート系材料の処理方法。
前記紫外線は、真空紫外線である
ことを特徴とするグラフェンシート系材料の処理方法。
前記真空紫外線として、キセノン、クリプトン、アルゴン及び塩化クリプトンを含む群から選択される少なくとも一種類の材料を用いた真空紫外線ランプにより発生する
ことを特徴とするグラフェンシート系材料の処理方法。
前記グラフェンシート系材料は、グラフェンシート又はその一部が化学修飾されたシートの積層体である
ことを特徴とするグラフェンシート系材料の処理方法。
紫外線発生光源と、
ガス導入口及びガス噴出口を備えた活性反応室と、
前記ガス噴出口に対向して設けられ、前記被処理基板を載置する被処理基板載置ステージとを有し、
前記グラフェンシート系材料に作用する反応性物質を含むガスを前記ガス導入口から導入し、前記紫外線発生光源からの紫外線によって活性化し、活性化した前記反応性物質を前記被処理基板に吹き付けることにより、前記グラフェンシート系材料の最表面層を除去し又は前記最表面層を改質化して前記グラフェンシート系材料の電気的性質を変化する
ことを特徴とするグラフェンシート系材料の処理装置。
前記被処理基板載置ステージを移動する移動機構を更に有する
ことを特徴とするグラフェンシート系材料の処理装置。
前記移動機構は、前記被処理基板載置ステージを一定の速度で連続的に走査する
ことを特徴とするグラフェンシート系材料の処理装置。
前記移動機構は、前記被処理基板載置ステージの移動と停止を繰り返して断続的に走査する
ことを特徴とするグラフェンシート系材料の処理装置。
前記グラフェンシート系材料のエッチングレートを考慮して前記移動機構による前記被処理基板載置ステージの移動速度を制御する制御機構を更に有する
ことを特徴とするグラフェンシート系材料の処理装置。
前記紫外線発生光源は、キセノン、クリプトン、アルゴン及び塩化クリプトンを含む群から選択される少なくとも一種類の材料を用いた真空紫外線ランプである
ことを特徴とするグラフェンシート系材料の処理装置。
12…活性化反応容器
14…収容部
16…XeエキシマUVランプ
18…ガス導入管
20…ガス噴出口
22…金属ブロック
24…冷媒ダクト
26…冷却機構
28…基板載置ステージ
30…被処理基板
32…移動機構
34…混合ガス
36…VUV光
38…活性化種
40…グラフェンシート系材料
42…遮蔽板
44…スリット
50…基板
52,60…グラフェンシート系材料層
54…ハードマスク
56…フォトレジスト膜
58…開口部
Claims (5)
- 基板上に、グラフェンシート系材料を形成する工程と、
前記グラフェンシート系材料の表面に、前記グラフェンシート系材料に作用する反応性物質を含む雰囲気中で紫外線を照射することにより、前記グラフェンシート系材料に含まれるグラフェンシートを前記表面側から順次除去することにより、前記グラフェンシート系材料に含まれる前記グラフェンシートを所望の層数に制御する工程と
を有することを特徴とするグラフェンシート系材料の処理方法。 - 請求項1記載のグラフェンシート系材料の処理方法において、
前記反応性物質は、前記紫外線により活性化されて前記グラフェンシート系材料に作用する物質である
ことを特徴とするグラフェンシート系材料の処理方法。 - 請求項1又は2記載のグラフェンシート系材料の処理方法において、
前記雰囲気は、不活性気体で希釈された前記反応性物質を含む
ことを特徴とするグラフェンシート系材料の処理方法。 - 請求項1乃至3のいずれか1項に記載のグラフェンシート系材料の処理方法において、
前記紫外線は、真空紫外線である
ことを特徴とするグラフェンシート系材料の処理方法。 - 請求項1乃至4のいずれか1項に記載のグラフェンシート系材料の処理方法において、
前記グラフェンシート系材料は、グラフェンシート又はその一部が化学修飾されたシートの積層体である
ことを特徴とするグラフェンシート系材料の処理方法。
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