JP5495767B2 - インプリント装置及び方法、並びに物品の製造方法 - Google Patents

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Families Citing this family (12)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP5828626B2 (ja) * 2010-10-04 2015-12-09 キヤノン株式会社 インプリント方法
JP5753755B2 (ja) * 2011-09-30 2015-07-22 富士フイルム株式会社 液滴吐出装置および液滴吐出方法
JP5910056B2 (ja) * 2011-12-13 2016-04-27 富士ゼロックス株式会社 レンズ製造装置
JP6029495B2 (ja) 2012-03-12 2016-11-24 キヤノン株式会社 インプリント方法およびインプリント装置、それを用いた物品の製造方法
JP6415120B2 (ja) * 2014-06-09 2018-10-31 キヤノン株式会社 インプリント装置及び物品の製造方法
JP6320183B2 (ja) * 2014-06-10 2018-05-09 キヤノン株式会社 インプリント装置、インプリント方法、および物品製造方法
JP6322158B2 (ja) * 2014-07-02 2018-05-09 キヤノン株式会社 インプリント方法及び装置、物品の製造方法、及びプログラム
CN105842982B (zh) * 2015-02-03 2019-11-08 佳能株式会社 压印装置以及物品的制造方法
JP6661334B2 (ja) * 2015-02-03 2020-03-11 キヤノン株式会社 装置、および物品の製造方法
JP6742177B2 (ja) * 2016-07-15 2020-08-19 キヤノン株式会社 インプリント装置、および物品製造方法
SG10201709153VA (en) * 2016-12-12 2018-07-30 Canon Kk Fluid droplet methodology and apparatus for imprint lithography
JP6898785B2 (ja) * 2017-06-16 2021-07-07 キヤノン株式会社 インプリント装置および物品製造方法

Family Cites Families (18)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP3932964B2 (ja) * 2002-04-19 2007-06-20 セイコーエプソン株式会社 デバイスの製造方法及びデバイスの製造装置
JP2004255335A (ja) * 2003-02-27 2004-09-16 Seiko Epson Corp 液状物の吐出方法、液状物の吐出装置、カラーフィルタの製造方法およびカラーフィルタ、液晶表示装置、エレクトロルミネッセンス装置の製造方法およびエレクトロルミネッセンス装置、プラズマディスプレイパネルの製造方法およびプラズマディスプレイ、並びに電子機器
JP4155511B2 (ja) 2003-05-09 2008-09-24 Ｔｄｋ株式会社 インプリント装置およびインプリント方法
US7935389B2 (en) * 2003-11-05 2011-05-03 Sony Corporation Liquid spraying apparatus and method
JP2005186598A (ja) * 2003-12-26 2005-07-14 Konica Minolta Holdings Inc 画像記録装置
US20050276919A1 (en) 2004-06-01 2005-12-15 Molecular Imprints, Inc. Method for dispensing a fluid on a substrate
JP4631357B2 (ja) * 2004-08-27 2011-02-16 セイコーエプソン株式会社 液滴吐出装置の描画制御方法、液滴吐出装置および電気光学装置の製造方法
US8011915B2 (en) * 2005-11-04 2011-09-06 Asml Netherlands B.V. Imprint lithography
US8001924B2 (en) * 2006-03-31 2011-08-23 Asml Netherlands B.V. Imprint lithography
JP4185941B2 (ja) 2006-04-04 2008-11-26 キヤノン株式会社 ナノインプリント方法及びナノインプリント装置
JP5328080B2 (ja) * 2006-05-16 2013-10-30 芝浦メカトロニクス株式会社 溶液の供給装置
JP2007313439A (ja) * 2006-05-26 2007-12-06 Hitachi High-Technologies Corp 樹脂塗布装置及び樹脂塗布方法
US8707890B2 (en) * 2006-07-18 2014-04-29 Asml Netherlands B.V. Imprint lithography
JP2008135602A (ja) 2006-11-29 2008-06-12 Seiko Epson Corp パターン形成方法及びパターン形成装置
JP5020844B2 (ja) * 2007-02-06 2012-09-05 キヤノン株式会社 インプリント方法及びインプリント装置、インプリント方法を用いた部材の製造方法
JP5018191B2 (ja) * 2007-04-05 2012-09-05 凸版印刷株式会社 光学素子の製造方法、カラーフィルタの製造方法及び有機エレクトロルミネッセンス素子の製造方法
KR20080101965A (ko) * 2007-05-17 2008-11-24 세크론 주식회사 접착 수지의 도포 장치 및 이를 포함하는 다이 본딩 장치
JP2009056719A (ja) 2007-08-31 2009-03-19 Seiko Epson Corp 液体吐出装置およびその制御方法並びにプログラム

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