JP5475679B2 - 酸素供給ラインから微粒子固体を除去する湿式スクラビング - Google Patents

Description

本発明は、一般的に、酸素含有ガス流及び炭化水素含有ガス流の混合物からのガス製造用のシステムに関する。本発明が有用性を有する例はエチレンオキサイドの工業的製造用システムである。

化学化合物エチレンオキサイド（化学式Ｃ₂Ｈ₄Ｏ）は、エチレングリコール（自動車不凍液の主成分）及びその他の化学品の製造に於いて中間体として使用される重要な工業的化学品である。エチレンオキサイドは食品及び医療用品用の滅菌剤としても使用される。これは、室温で無色の引火性ガスであり、冷却して液体として貯蔵することができる。

エチレンオキサイドは、最初に、第一次世界大戦の間にエチレングリコール及び化学兵器マスタードガスの両方への前駆体として、工業的重要性を達成した。１９３１年に、フランスの化学者であるTheodore Lefortは、触媒として銀を使用して、エチレン及び酸素からエチレンオキサイドを直接的に製造する手段を見出した。１９４０年以降、工業的に製造される殆ど全てのエチレンオキサイドは、この方法を使用して製造されてきた。

現在の工業的プロセスに於いて、エチレンオキサイドは、エチレン（ＣＨ₂＝ＣＨ₂）と酸素（Ｏ₂）とを、２００〜３００℃で、アルミナ上に担持された大きいＡｇナノ粒子を示す銀触媒上で反応させて製造する。典型的には、化学的変性剤、例えば塩素も含有されている。使用される圧力は１〜２ＭＰａの範囲内である。この反応についての化学式は
ＣＨ₂＝ＣＨ₂ ＋ 1/2Ｏ₂ → Ｃ₂Ｈ₄Ｏ
である。

エチレンオキサイド製造システムでは、銀触媒が存在する反応チャンバーの直ぐ上流で、炭化水素ガス流と酸素ガス流とを混合するために、ガス混合器が使用される。このガス混合器は、典型的には、容器又はパイプの形態で構成されている。この容器には、２種のガスのそれぞれのための入口マニホールドが含まれている。この容器は、時には、炭化水素含有ガス流を含有する主外側パイプ及び酸素流を含有する内部同心チューブ又は「フィンガー」で構成される。混合は、内部チューブ末端で、フィンガーから流出する酸素ガスと、外側チューブ内を流れる炭化水素含有ガスの主流とが出会う点で起こる。この基本的設計は特許文献１に記載されている。

この技術は、炭化水素含有ガス流（例えば他の炭化水素ガスと混合した例えばエチレンを含有するガスの流れ）が、ガス混合器内の酸素ガスと一緒になる点で、炭化水素含有ガス流の発火の危険性が存在することが、長い間認識されてきた。発火は、炭化水素又は酸素ガス流中に同伴される粒子（例えば錆又はパイプスケールの片）が、混合器内の金属表面、例えば混合器の壁に衝突し、それによってスパークを発生するとき起こり得る。このスパークが、酸素の高濃度の領域内の炭化水素流中で、例えば２種のガス流の混合の点又はその近傍で発生すると、発火が起こり得る。この発火は、ガス混合器を損傷し、また、発火を抑え、生産を再開する前にガス混合器を冷却させるために、生産の中断を必要とする。この可燃性領域は、２種のガスの混合ゾーンに限定される。炭化水素ガス並びに反応器供給ブレンドは、下方Ｏ₂可燃限界よりも低い、即ち燃焼するには濃すぎる。

この技術は、種々のガス混合器設計を案出した。これらの設計の幾つかは、特に、炭化水素ガス流及び酸素ガス流の発火の危険性を減少させることに関する。公知の先行技術には、前記引用した特許文献１に加えて、下記の特許文書、即ち特許文献２〜１３が含まれる。

酸素供給ラインには、発火危険を起こし得る粒子が含有されている。この危険物には、他の不活性汚染物質が危険を起こし得るが、砂、ダスト、金属及び部分酸化された金属粒子が含まれる。一つの極限に於いて、約１００〜２０００ミクロンの大きい粒子の衝突は、酸素配管、バルブ及びフロー制御装置を形成する金属を発火させ得る。他の極限に於いて、約５〜１０００ミクロンの小さい粒子は、部分酸化プロセスの混合物、例えばエチレンオキサイド及びグリコール又は高純度酸素を使用する関連する部分プロセス中の発火を起こし得る。大きな粒子を除去するために、酸素供給ライン中にストレーナーを使用することは通常行われている。これらは、混合器の火災を起こし得る小さな粒子を除去しない。より小さな約１０ミクロンまで低い粒子は、微細なフィルターを使用して除去することができるが、これは他の問題を生じる。これらのフィルターは詰まりやすく、酸素供給ライン中で火災を起こし得る、自然発火又は摩擦加熱に起因する発火の危険がある。後者は、典型的には、整備不良又は時間の経過によりコンポーネントが緩み、フィルターの金属コンポーネントの摩擦が起こることにより引き起こされる。

更に、濾過及びストレーナーの現在の実施によって、装置内に汚染物質が蓄積され、濃縮される。これは捕捉された微粒子を周期的にクリーニングし、除去することをも必要とする。ひだ付き（pleated）金属、セラミック又は鉱物ウールフィルター要素によって微粒子が集められる。しばしば、フィルターハウジングには、平行流路で作動する多数のフィルター要素が含まれているであろう。フィルターに充分な物質が集められたときに、現在の実施は、プラントをしばらく運転停止して、フィルター要素を清浄にすることである。濃縮された粒状物は、酸素火災のための点火物質の源泉となり得る。これらの手動操作は、人々を危険に曝す。更に、例えば５〜３０ミクロンの範囲のより小さいサイズの粒状物を除去するために、一層複雑で、高価な濾過装置が必要となる。

関心のある他の先行技術には、湿式スクラビング技術に関する下記の特許、即ち特許文献１４〜１７が含まれる。これまで、採鉱、半導体製造その他を含む幾つかの用途に於いて、例えば、環境の中に放出されるべき空気の供給から、炭塵、毒性若しくは可燃性ガス又は他の汚染物質、例えば硫黄化合物を除去するために、湿式スクラバーが使用されてきた。本発明者らの知る限り、湿式スクラビング（洗浄）技術は、エチレンオキサイド又は関連する製造システムに於いて、従来採用されていなかった。

本開示は、粒状物を濃縮せず、酸素供給ライン中のフィルターの目詰まり又は発火を伴う問題を回避しながら、酸素供給ライン中の約５ミクロンサイズまで低い粒子の除去の問題の解決のための、当該技術分野において長く意識されてきたニーズを解決する。更に、この開示の特徴を使用する製造システムによって、スクリーン又はフィルター内の蓄積された粒状物を管理するための、プロセス運転停止の必要性が回避される。更に、これによって、酸素供給ライン中の火災の原因物質となり得る物質を蓄積させることなく、粒状物質を除去する方法が提供される。

米国特許第３，７０６，５３４号明細書 米国特許第４，５７３，８０３号明細書 米国特許第３，７０２，６１９号明細書 米国特許第４，２５６，６０４号明細書 米国特許第４，４１５，５０８号明細書 米国特許第６，６５７，０７９号明細書 米国特許出願公開第２００３／００２１１８２号明細書 米国特許第３，５１８，２８４号明細書 米国特許第４，３９０，３４６号明細書 米国特許第３，２３７，９２３号明細書 米国特許第３，０８１，８１８号明細書 米国特許第２，６１４，６１６号明細書 米国特許第６，８４０，２５６号明細書 米国特許第６，２３１，６４８号明細書 米国特許第４，０１２，４６９号明細書 米国特許第５，１７８，６５４号明細書 米国特許第５，２５０，２６７号明細書

本開示は、酸素含有ガス又は富化された供給空気を使用する工業的製造用のシステムに関する。本発明は、酸素流から粒子を除去するために、酸素供給ライン中に１個又はそれ以上の湿式洗浄（scrubbing）システムを使用することを特徴とする。この湿式洗浄システムは、これらの粒子を水相に移動させる。特に、湿式洗浄技術は、固体粒子を、気相から水膜及び水相に、拡散又は衝突（impaction）させることによって移動させる。粒子は、湿式スクラバーを通って流れる水の中に同伴されようになり、湿式スクラバーから懸濁液として除去される。これによって、エチレンオキサイドの製造のような部分酸化プロセスに於いて、ガス混合器内での火災の可能性を増加させることなく、本質的に粒状物質を含有しない酸素流が作られる環境が提供される。粒子は水相中でシステムから除去される。好ましい洗浄液体である水中の粒状物濃度は、大きい粒子を除去するためのフィルタの組合せによって、粒子をシステムから除去すること及び小さい粒子を除去するために洗浄流体をパージすることによって管理される。水は、湿式スクラバーを、１回通過又は再循環水の適切なパージ及び濾過を伴う再循環ループで通すことができる。

本発明の一つの主な用途は、エチレンオキサイド製造プロセスであり、ここで、酸素は、中圧（約２０バール）で、エチレン及び他のガスを含有する再循環された可燃性ガスと混合される。本発明は、純粋な酸素又は富化された供給空気を使用する、他の部分酸化プロセスのために、同様に使用することができる。

本発明は、供給酸素中の同伴された粒状物質の発火源の除去により、ガス混合器内のエチレンの再循環流中への酸素注入システムの安全性を大きく改良する。粒状物除去の一種類としての水洗浄は、粒状物が除去され、決して濃縮されないので、エチレンオキサイドプロセス（及び他の炭化水素／酸素ガス混合プロセス）への連結のために有利である。前記のように、現在の最善の実施は、流入する酸素供給でフィルターを使用することである。しかしながら、これらのフィルターは、それ自体発火事象の原因である粒状物を集め、濃縮する。湿式スクラバーを酸素供給に連結することは、酸素供給ライン中のフィルターについての必要性を無くし、従って、これらに付随する問題を回避する。更に、湿式スクラバーは５〜１，０００ミクロンの範囲内のサイズ、即ちエチレンオキサイドガス混合器内の発火の特別の危険性を表す粒子サイズを有する粒状物を除去するように、容易に設計することができる。これらの粒子が除去されるので、ガス混合器内の発火の危険性は実質的に低減される。

従って、本開示の一つの面に於いて、エチレンオキサイドの製造のためのシステムに対する改良であって、このシステムには、酸素ガスの流れを運ぶ酸素供給ライン及び酸素ガスを炭化水素含有ガス流と混合させるガス混合器が含まれており、改良は、酸素供給ライン中に湿式スクラバーを設けることを含み、湿式スクラバーは、酸素ガスの流から粒状物質を除去し、洗浄された酸素（粒状物を含有していない）ガスがガス混合器に供給される改良が提供される。

別の面に於いて、酸素ガスを炭化水素ガスと混合する方法であって、酸素ガスを湿式スクラバー内で湿式洗浄する工程、湿式スクラバーからガス混合器に酸素ガスを供給する工程及び酸素ガスをガス混合器内で炭化水素ガスと混合する工程を含んでなる方法が提供される。

種々の湿式スクラバーの構成が、本発明の方法に於いて使用するのに適している。幾つかの好ましい構成を、幾らか詳細に説明する。これらには、充填塔、バブルキャップ、ジェット型及びスパージャー型湿式スクラバーが含まれる。

図１は、酸素供給ライン中の湿式スクラバー、ガス混合器及びガス混合器の下流の反応チャンバーを特徴とするガス製造システムの流れ図である。図１のシステムは、エチレンオキサイドの工業的製造に於いて使用することができる。 図２は、図１の湿式スクラバーの一態様の更に詳細な例示であり、この湿式スクラバーは「充填塔」型湿式スクラバーである。 図３は、図１の湿式スクラバーの代替態様の更に詳細な例示であり、この湿式スクラバーは「バブルキャップ」型湿式スクラバーである。 図４は、図１の湿式スクラバーの代替態様の更に詳細な例示であり、この湿式スクラバーは「スパージャー」型湿式スクラバーである。 図５は図４のスパージャーの平面図である。

図１は、例示の目的のためで、限定の目的のためではない、エチレンオキサイド製造システムである製造システム１０の流れ図である。本発明の原理は、以下の説明から明らかであるように、他の製造システムに応用可能である。

システム１０には、酸素ガスの流れを源泉（図示せず）から輸送する酸素供給ライン１２が含まれている。この酸素供給ラインには、同伴された粒状物質、例えば典型的にはサイズが５〜１０００ミクロン範囲内である砂、錆、パイプスケールが含まれている。このシステムには、非常に大きな粒子又は異物を除去するための任意のインラインストレーナー（図示せず）が含まれていてよい。システム１０は、所定のサイズ範囲（一態様に於いて５〜１０００ミクロン）内の粒状物質の殆ど又は更に好ましくは実質的に全部を、酸素ガスの流れから除去するように機能する湿式スクラバー１４を特徴とする。洗浄された酸素ガスはパイプ１６に沿ってガス混合器２０に供給される。パイプ１６は、好ましくはスケール及び耐腐食性材料、例えばステンレススチール又はモネル（Monel）から作られる。

第二のパイプ１８は炭化水素含有ガス流をガス混合器２０に輸送する。炭化水素含有ガス流（この例に於いてはエチレンガス及び場合により他の炭化水素ガスを含有する）は、ガス混合器２０内で、酸素ガス流と混合する。得られる混合ガスは、触媒を含有する反応チャンバー２２に供給する。反応チャンバー２２内で、２種のガスの間で反応が起こる。得られる反応生成物（例えばエチレンオキサイド（「ＥＯ」））は、反応チャンバー２２から、回収トレイン及び貯蔵設備又は下流の反応器若しくは製造設備に供給する。反応チャンバー２２（又は下流の反応設備）には、ＥＯ回収、ＣＯ₂除去及びＥＯ精製の設備が含まれてよい。炭化水素ガスは、反応チャンバー２２から回収し、ライン２３を経て混合器２４に再循環し、ここで、ライン２５を通るエチレンガスと混合する。従って、ライン１８で混合器２０の中に注入されるガスには、この例に於いて、エチレンガス及び他の炭化水素ガスが含有されている。

酸素供給ライン１２内での湿式スクラバー１４の使用によって、長年に亘って業界を悩ました多くの問題が克服される。特に、これは、粒子を濃縮しないで、酸素供給ライン１２内のフィルターの目詰まり又は発火を伴う問題を回避しながら、酸素供給ラインから粒子を除去する目的を達成する。更に、湿式スクラバー１４は、洗浄作業を連続的に実施して、スクリーン又はフィルター内の蓄積された粒状物を管理するためのプロセス運転停止の必要性を回避することができる。更に、これは、酸素供給ライン１２中の火災の「点火」物質源となり得る物質を蓄積させることなく、供給酸素から粒状物質を除去する。

湿式スクラバーの構成の具体的な詳細は、含まれる特定の工業的プロセスのニーズ又は必要条件によって広く変化させることができる。本開示のために適している粒状物システムのための湿式スクラバーはよく研究されている。粒状物除去のための幾つかの充分に特徴付けられた湿式スクラバーシステムは、Armin Burkholzの書籍、“Droplet Separation”VCH Publishers、ニューヨーク（１９８９年）（引用して本明細書中に含める）の図１１−６に例示されている。これらのシステムには、充填塔、ジェットスクラバー、渦巻きスクラバー、回転スクラバー及びベンチュリースクラバーシステムが含まれる。単純な充填塔は、２．４グラム／立方センチメートルの粒子密度のために、１．５ミクロン直径よりも大きい粒子の９５％除去を達成するように、容易に設計することができる。Burkholzの書籍の図１１−７には、１バール（絶対）圧力でこの粒子密度のダスト粒子について、異なった形式のスクラバーについて、実験的分別分離効率曲線が示されている。

湿式スクラバーシステムは、粒状物質を、スクラバー１４を通して流れている水流に移動させる。この粒状物質は液体からパージ又は濾過することができる。湿式スクラバーの始動及び停止に関連する幾つかの操作上の複雑性が存在する。更に、この水流は過酸化されるであろう。従って、湿式スクラバーのために選択される合金は、この環境中で耐腐食性でなくてはならない。好ましくは、湿式スクラバー中に使用される水は、溶解した塩がその水から実質的に除去されている、コンディショニングされた水である。例えばこのコンディショニングされた水はスチーム凝縮物（蒸留水）である。

湿式スクラバー１４には、下記の要素、即ちシステム酸素供給物、湿式洗浄粒状物除去装置（充填塔、ジェットスクラバー、ベンチュリースクラバー又は他の装置）、水再循環ポンプ、大きな粒子を除去するストレーナー（任意的）、洗浄液体（水、特にコンディショニングされた水が好ましい）供給物及び粒状物質を含有する水のパージが含まれてよい。より小さい直径の粒状物は、任意的に濾過することができるパージされた液体によってシステムから運び出されるであろう。このシステムのために高い信頼性が必要であり、従って、微粒子除去技術の一部は、複雑性のレベルが低く可動部品が存在しない為有利であり、他のものはこの用途には非常に不利である。回転スクラバーは、このようなスクラバーに使用される回転接触装置によって表される機械的複雑性による不利なアプローチの例である。

エチレンオキサイド製造システムに於ける粒状物除去のための典型的なプロセス必要条件は２０〜２５バールの運転圧力で５〜１０００ミクロンのサイズ範囲内にある粒子の除去である。この必要条件は、機械的にあまり集中的／複雑でない装置、例えば充填塔、棚段塔又はジェットスクラバーが、最大の信頼性で所望の結果を達成するであろうことを示唆する。

本発明者らによる湿式スクラバーの実験的試験は湿式スクラバーの好ましい設計への幾つかの追加の識見になった。

最初に、非常に小さい粒子は、スクラバー容器の静止（低フロー）部分、例えば容器壁上にそれら自体を付着させる能力を有すると思われる。時間が経過すると、これらの粒子は、これらが容器の壁から落ちることができるように、充分に大きい塊にまで蓄積するであろう。粒子の比較的大きい塊が表面から落ちるとき、幾つかの粒子がスクラバーから逃げ去ることが可能である。これに対して不利に働くために、規定された又は必要に応じたベースの上に洗浄水をスプレーして、小さい粒子を蓄積される可能性が最も高いスクラバー容器の内部壁を洗い落とすことを可能にする、水供給配管によって連結されたスプレーノズルの内部ネットワークからなる任意の構成を、スクラバーの中に導入することができる。これらの位置は、スプレーノズルの数及びそれらの配向を最適化できるように、容器設計の間に確認されるであろう。

第二に、小さい粒子が、水ミスト中でスクラバーから逃げる又はスクラバーの頂部から同伴される可能性を更に低下させるために、スクラバーに追加することができる別の任意の構成は、スクラバー容器の頂部（蒸気出口）のミスト除去器又はサイクル分離器である。適切なミスト除去器は金網又は金属羽根から作ることができる。

第三に、本発明者らは、非常に小さい（１００ミクロン未満）粒子が、（例えば以下検討する図３又は４の設計に於いて）水表面の頂部の膜内に蓄積できると思われることに注目した。この観察は、洗浄水中に少量（５００ｐｐｍｗ未満）の界面活性剤を添加して、非常に小さい粒子を洗浄水中に懸濁状態に保持することによって、これらの粒子の除去を増強するという洞察に通じた。この界面活性剤は酸素ガス流と化学的に相溶性でなくてはならない。

実施例１
図２は、図１の湿式スクラバー１４の一態様の更に詳細な例示であり、この湿式スクラバーは「充填塔」型湿式スクラバーである。

図２の湿式スクラバーには、充填材料５６（最も有利にはセラミックであるが、任意的に金属）を含有する容器３０及び水循環ループ３２が含まれている。循環ループ３２には、ポンプ３４、再循環ライン３６、ストレーナー３８、入口ライン４０及び水入り口４２が含まれている。水は充填材料５６を越えて下方に流れる。同伴された粒状物質は、水によって集められ、水出口４４を経て取り除かれる。ライン４５は、水を混合点４８に運び、そこでライン４６に沿って運ばれた補給水が、ライン４５からの水と混合する。循環ポンプ３４は、ループ３２を通して水を循環させる。ライン６０は、微粒子が排出されるパージラインである。

容器３０には、供給パイプ１２から酸素を受け取る酸素供給入口５０及び図１のガス混合器２０へ酸素ガスを供給する出口パイプ１６へきれいな酸素ガスを供給するきれいな酸素出口５４が含まれている。好ましくは、出口５４は、酸素／サイクルガス混合器２０に近接して連結されており、パイプ１６は合理的に実施可能な限り短く、湿式洗浄システムの出口５４と混合器２０との間に、分離及び流量制御バルブのみが存在する。

前記のように、ループ３２内を循環する水は、好ましくは、溶解塩が水から実質的に除去されている、きれいで、濾過され、脱イオン化され、コンディショニングされた水、例えばスチームの凝縮から得られる水（蒸留水）である。

充填塔型スクラバー（図２）に於ける商業的規模の実施に於いて、２０〜２５バールの圧力で約＋９９％純度の酸素を約５０，０００ｋｇ／時で、湿式スクラバー容器３０に通して供給する。この酸素には、１〜１０００ミクロン直径の粒子サイズを有する粒状不純物、例えば錆、パイプスケール及び砂が含まれている。容器３０への入口５０にある任意的なストレーナー（図示せず）によって、極めてオーバーサイズの異物は除去されるであろう。ライン４６を通る補給水は、水蒸気と共にシステムから出る酸素を飽和させるためかつパージされる液体を補充するために必要なものと合致しなくてはならない。パージされた液体流は、０〜１％の濃度で水中に微粒子を運ぶ。充填床５６の設計は、約１ｍのカラム直径になる公知の慣例に従う。この配置に於いて、再循環ポンプ３４が、充填材料５６としての１０〜２０ｍｍのセラミック又はステンレススチールサドルの１メートルの充填深さを有する充填塔のために示される。液体再循環ライン３６中の任意的なストレーナー３８は、充填材料を汚染し得る大きな粒状物を捕捉するであろう。コンディショニングした水、例えば磨きをかけた（polished）スチーム凝縮液は、溶解塩が最少量であるために、好ましいスクラビング液体である。

図２の設計は容器３０の内部壁を洗浄するためのスプレーノズル、出口５４にあるミスト除去器及び／又は酸素ガス流と相容性である少量の界面活性剤によって強化された洗浄水と適合させることもできる。

実施例２
図３は、図１の湿式スクラバー１４の代替態様の更に詳細な例示であり、この湿式スクラバーは「バブルキャップ」型湿式スクラバーである。

図３の設計は、水供給８０からの水の供給を受けるための水入口４２及びパージ水の排出のための水出口４４、パイプ１２からの酸素供給物供給を受けるためのガス入口５０及びスクラビングされた酸素ガスの除去のためのガス出口５４を有する容器３０を特徴とする。容器３０には、複数個のバブルキャップ７２が含まれ、基本的に、キャップは、酸素ガスがキャップを通って出て行くための小さい開口を有する。容器３０には、バブルキャップ７２を越える水の流れを支持するための、トレー７０の形での水保有要素（water containment features）が含まれる。バブルキャップ７２は、ガス入口５０から内部導管（図示せず）を経て酸素ガスを受け取る。水が、バブルキャップを完全に覆うレベルで、トレー７０の上に存在する。酸素ガスは、バブルキャップ内の開口を通って排出され、バブルキャップを越えて流れる水を通ってバブリングされる。酸素ガス中の同伴された粒状物質は、水の流れによって捕捉され、水出口４４を経て容器３０から除去される。

トレー７２は、バブルキャップ７２を越える水７４の流れを支持する、複数の垂直に積み重ねられたトレーで、容器３０内に配置されて示されている。水入口４２は、図３に示されるように、容器３０内の最頂部トレー７０又はその上に配置されている。始動時に、水７４は、最も上のトレー７０を充満し、次いで、エッジを越えて降水管（ダウンカマー）７６を下のトレーに流れ、下のトレーを、バブルキャップ７２が水中に沈むレベルまで充満し、降水管７６の上を下のトレーに流れ、以下同様に流れる。最終的に、全てのトレーは、バブルキャップを水面下に沈めた水で完全に充満され、水は、水が頂部４２の中に導入される速度から水がガス流の中に吸収され、容器から外に導かれる速度を差し引いた速度で、容器３０の底部に蓄積される。

商業的製造システムの例に於いて、乾燥酸素ガスは、容器３０の中に５０，０００ｋｇ／時の速度で流れる。クリーンで、濾過され、コンディショニングされた水が、５００ｋｇ／時の速度で入口４２で導入される。過剰の水は、約４２５ｋｇ／時の速度でライン８２で容器から除去され、約７５ｋｇ／時の水が、酸素ガスによって吸収される。例示された態様に於ける容器は、高さが約３メートルで、３０バールに耐えるためにステンレススチールから製造される。バブルキャップ７２は、トレー７０にシール溶接されている。この容器の直径は約１．３ｍである。トレー及びバブルキャップの数は、所望される粒状物除去の程度を達成するように変化させることができる。

図３の設計は、低液体流動必要条件を有し、単一路（single pass）システムとして構成することができる。即ちこれは、水システムに於いて如何なる再循環ループも必要としない。これは、他の湿式スクラビングシステムを越える幾つかの利点をもたらす。更に、図３の設計は、経済的で、現存する製造システムの中に改良装置を組み込むことが容易であり、最小の複雑さのものであり、可動部品を有さず、そして信頼性がある。このシステムは５〜１，０００ミクロンのサイズ範囲内の粒状物質を洗浄する際に有効でもある。

一つの可能性のある変形に於いて、図３の態様は、水システムに於いて再循環ループを含めるように修正される。水は、水出口４４から水入口４２に循環し、フィルター又はストレーナーが、水出口を水入口に連結するライン内に配置される。再循環ループには、酸素ガス中の水の吸収及び水ループの任意のパージを補うために、ループの中に補充水を添加するための混合点が含まれるであろう。ライン８２中のパージ流は、パージ水と共に粒状物質を除去するであろう。再循環ループは、バブルキャップ設計に比較してカラム直径を減少させるであろう、より高い容量の商業的トレーの使用を許容する。

実施例１に於ける場合のように、実施例２の設計は、好ましくは、湿式スクラバー１４の出口と混合器２０への入口との間に、分離及び流量制御バルブのみを設けて、湿式スクラバー１４をガス混合器２０に近く置く。

図３の設計は、容器３０の内部壁を洗浄するためのスプレーノズル、出口５４にあるミスト除去器及び／又は酸素ガス流と相溶性である少量の界面活性剤によって強化されたスクラビング水と適合させることもできる。

実施例３
図４は、図１の湿式スクラバーの代替態様の更に詳細な例示であり、この湿式スクラバー１４は、「スパージャー」型湿式スクラバーである。図４の湿式スクラバー１４には、容器３０、水を水入口４２に供給する水供給８０、水出口４４及びパージ水用のドレンライン８２が含まれる。酸素は、パイプ１２からスパージャー９０に供給する。クリーンで、濾過され、コンディショニングされた水７４は、容器３０の中に導入し、図示されるように、スパージャー９０を完全に覆うレベルまで、容器３０に充填する。スパージャー９０は図５に於いて平面図で示す。スパージャー９０は、酸素ガスを含有する中空チューブ９２及び９４の配列を含む。チューブ９２、９４は、チューブ内のガス圧力のために、それを通って酸素ガスが流れる小さい穴９６を有している。スパージャーは、スパージャー９０を容器３０内に支持するために、容器の壁に固定されているサポート９８を含む。孔９６から流出する酸素ガスは、水７４を通ってバブリングし同伴された粒状物質は水７４に移される。水７４中の泡のサイズは、スパージャーのオリフィス９６サイズに関係する。

商業的製造システムの例に於いて、乾燥酸素ガスは、容器３０の中に５０，０００ｋｇ／時の速度で流れる。クリーンで、濾過され、コンディショニングされた水を、５００ｋｇ／時の速度で入口４２に導入する。過剰の水は、約４２５ｋｇ／時の速度で容器から取り除き、約７５ｋｇ／時の水が、酸素ガスによって吸収され、ガスと共に容器から除去される。例示された態様に於ける容器は、高さが約３メートルで、幅が１．３ｍで、３０バールに耐えるための設計に於いてステンレススチールから製造される。

実施例３の設計は、それが可動部品を有しない単純な設計であり、水のための再循環ループを必要としないので、多くの応用に於いても有利である。代替態様には、再循環ループ及びフィルター又はスクリーン、補充混合点並びに再循環ループから水を除去するためのパージが含まれるであろう。

実施例１に於ける場合のように、実施例３の設計は、好ましくは、湿式スクラバー１４の出口と混合器２０への入口との間に、分離及び流量制御バルブのみを設けて、湿式スクラバーをガス混合器２０に近く置く。

図４の設計は、容器３０の内部壁を洗浄するスプレーノズル、容器３０の頂部のクリーンなＯ₂ガス出口にあるミスト除去器及び／又は酸素ガス流と相容性である界面活性剤によって強化されたスクラビング水と適合させることもできる。

上記の検討から、上記開示の実施例は、図１と併せて酸素ガスを湿式スクラバー１４内で洗浄する工程、湿式スクラバー１４からガス混合器２０に酸素ガスを供給する工程及びこの酸素ガスをガス混合器内で炭化水素含有ガスと混合する工程を含む、酸素ガスと炭化水素含有ガスとの混合方法を示していることが認識されるであろう。ガス混合器２０は、前に引用した特許文書中に記載されているガス混合器の形を取ることができる。一つの態様に於いて、炭化水素含有ガスはエチレンガスを含む。他の態様の例として、炭化水素含有ガスは、メタンガス又はＮ₂バラストガスを含んでいる。しかしながら、この方法は、他の炭化水素ガスを使用する他のプロセスと併せて使用することができる。この方法の好ましい態様は、５〜１，０００ミクロンの範囲内のサイズを有する、湿式スクラバー内の粒状物質の除去を提供する。この湿式スクラバー技術は、また、サブミクロンサイズまで低下する、より小さい粒子を捕捉するために有効であるが、これは、開示されたＥ−Ｏガス混合用途のために必須であるとは思われない。

更に一般的に述べれば、本開示の特徴は、酸素ガスの流れを運ぶ酸素供給ラインを有する、任意の部分酸化システム（エチレンオキサイド製造は一例に過ぎない）への改良を提供する。この改良は、酸素供給ライン中に湿式スクラバーを設ける形を取り、この湿式スクラバーは、酸素ガスの流れから粒状物質を除去する。

本開示の湿式スクラバーに於いて使用される水は、典型的には、環境（周囲）温度であろう。

現在好ましい態様を詳細に説明したが、この開示した態様の特定のものからの変形を、本発明の範囲から逸脱することなく行うことができる。本発明の範囲に関する全ての問題は、添付された特許請求の範囲を参照することによって決定されるべきである。
以下に、本発明及びその関連態様を記載する。
態様１．酸素含有ガスの流れを運ぶ酸素供給ライン及び酸素ガスをエチレン含有ガスと混合させるガス混合器を含むエチレンオキサイドの製造システムであって、
酸素供給ライン中に湿式スクラバーを設けることを含んでなり、該湿式スクラバーが、酸素含有ガスの流れから粒状物質を除去し、洗浄された酸素ガスを、ガス混合器に供給することを含んでなる改良。
態様２．前記湿式スクラバーが充填塔型湿式スクラバーを含む、態様１に記載の改良。
態様３．前記湿式スクラバーがバブルキャップ型湿式スクラバーを含む、態様１に記載の改良。
態様４．前記湿式スクラバーがスパージャー型湿式スクラバーを含む、態様１に記載の改良。
態様５．前記湿式スクラバーがジェットスクラバーを含む態様１に記載の改良。
態様６．前記湿式スクラバーによって、前記酸素ガスから５〜１，０００ミクロンの範囲内のサイズを有する粒状物質を除去する態様１〜５の何れか１項に記載の改良。
態様７．前記充填塔型スクラバーが、
充填材料、酸素供給入口及びクリーン酸素出口を含む容器、
循環ポンプ並びに
前記循環ポンプによって循環される水を含む水ループであって、前記容器、前記容器の上流のストレーナー及び補給水をループ中に導入するための混合点を含む水ループ
を含んでなる態様２に記載の改良。
態様８．前記水が、コンディショニングされて溶解塩が実質的に除去されている、水を含む態様７に記載の改良。
態様９．前記コンディショニングされた水がスチーム凝縮脱イオン水を含む態様８に記載の改良。
態様１０．前記コンディショニングされた水を、粒状汚染物質を除去するために、濾過する態様８又は９に記載の改良。
態様１１．前記バブルキャップ型湿式スクラバーが、
水の供給を受けるための水入口及び過剰の水を除去するための水出口、酸素供給物供給を受けるためのガス入口及び洗浄された酸素ガスを取り出すためのガス出口を有する容器、
バブルキャップを越える水の流れを支持するための水保有要素を有する、容器内の複数個の、ガス入口からの酸素ガスを受ける、バブルキャップ
を含んでなり、酸素ガスがバブルキャップを通過し、バブルキャップを越えて流れる水を通ってバブリングし、酸素ガス中に同伴された粒状物質を、水の流れによって捕捉し、水出口を経て除去する態様３に記載の改良。
態様１２．前記バブルキャップが、容器内で、該バブルキャップを越える水の流れを支持する、複数の垂直に積み重ねられたトレー内に配置されており、水入口が、容器内の最頂部のトレー又はその上に配置されており、水保有要素が、垂直に積み重ねられたトレー内に一つのトレーから次のトレーに落ちる水の流れのための降水管を含む態様１１に記載の改良。
態様１３．前記水が、コンディショニングされて溶解塩が実質的に除去されている水を含む態様１１又は１２に記載の改良。
態様１４．前記コンディショニングされた水がスチーム凝縮脱イオン水を含む態様１３に記載の改良。
態様１５．前記コンディショニングされた水を、粒状汚染物質を除去するために、濾過する態様１３又は１４に記載の改良。
態様１６．前記水を、水出口から水入口へ循環し、水出口を水入口に連結するライン内にフィルターを設けている態様１１〜１５のいずれか１項に記載の改良。
態様１７．前記水を、容器を通して１回通過で循環する態様１１〜１６のいずれか１項に記載の改良。
態様１８．前記湿式スクラバーがガス混合器に緊密に連結されている態様１〜１７のいずれか１項に記載の改良。
態様１９．前記湿式スクラバーが、ａ）前記湿式スクラバーの内部壁をスプレーする１個又はそれ以上のスプレー器、ｂ）前記スクラバーの酸素ガス出口にあるミスト除去器及びｃ）前記湿式スクラバーに供給される水に添加される界面活性剤の少なくとも１個を含む態様１〜１８のいずれか１項に記載の改良。
態様２０．湿式スクラバー内で酸素ガスを湿式洗浄する工程、
酸素含有ガスを、この湿式スクラバーからガス混合器に供給する工程、
この酸素含有ガスを、このガス混合器内で炭化水素含有ガスと混合する工程
を含んでなる酸素含有ガスを炭化水素含有ガスと混合する方法。
態様２１．前記炭化水素含有ガスがエチレンガスを含む態様２０に記載の方法。
態様２２．前記湿式スクラバーが充填塔型湿式スクラバーを含む態様２０又は２１に記載の方法。
態様２３．前記湿式スクラバーがバブルキャップ型湿式スクラバーを含む態様２０又は２１に記載の方法。
態様２４．前記湿式スクラバーがスパージャー型湿式スクラバーを含む態様２０又は２１に記載の方法。
態様２５．前記湿式スクラバーがジェットスクラバー型湿式スクラバーを含む態様２０又は２１に記載の方法。
態様２６．前記湿式スクラバーによって、前記酸素ガスから、５〜１，０００ミクロンの範囲内のサイズを有する粒状物質を除去する態様２０〜２５のいずれか１項に記載の方法。
態様２７．水湿式スクラバーを通して水を循環し、該水が、コンディショニングされて溶解塩が実質的に除去されている水を含む態様２０に記載の方法。
態様２８．前記コンディショニングされた水がスチーム凝縮脱イオン水を含む態様２６に記載の方法。
態様２９．前記湿式スクラバー、ａ）前記湿式スクラバーの内部壁をスプレーする１個又はそれ以上のスプレー器、ｂ）前記スクラバーの酸素ガス出口にあるミスト除去器及びｃ）前記湿式スクラバーに供給される水に添加される界面活性剤
の少なくとも一つを含む態様２０〜２９のいずれか１項に記載の改良。
態様３０．酸素含有ガスの流れを運ぶ酸素供給ラインを有する部分酸化システムであって、
酸素供給ライン中に湿式スクラバーを設けることを含んでなり、該湿式スクラバーが酸素含有ガスの流れから粒状物質を除去する改良。

Claims (19)

1. 酸素含有ガスの流れを運ぶ酸素供給ライン及び酸素ガスをエチレン含有ガスと混合させるガス混合器を含むエチレンオキサイドの製造システムであって、
   該システムが、酸素含有ガスの流れから粒状物質を除去するために、酸素供給ライン中に湿式スクラバーを設ける改良を含んでなり、洗浄された酸素ガスを、ガス混合器に供給することを含んでなるシステム。
2. 前記湿式スクラバーが充填塔型湿式スクラバーを含む、請求項１に記載のシステム。
3. 前記湿式スクラバーがバブルキャップ型湿式スクラバーを含む、請求項１に記載のシステム。
4. 前記湿式スクラバーがスパージャー型湿式スクラバーを含む、請求項１に記載のシステム。
5. 前記湿式スクラバーがジェットスクラバーを含む請求項１に記載のシステム。
6. 前記湿式スクラバーによって、前記酸素ガスから５〜１，０００ミクロンの範囲内のサイズを有する粒状物質を除去する請求項１〜５の何れか１項に記載のシステム。
7. 前記充填塔型スクラバーが、
   充填材料、酸素供給入口及びクリーン酸素出口を含む容器、
   循環ポンプ並びに
   前記循環ポンプによって循環される水を含む水ループであって、前記容器、前記容器の上流のストレーナー及び補給水をループ中に導入するための混合点を含む水ループ
   を含んでなる請求項２に記載のシステム。
8. 前記水が、コンディショニングされて溶解塩が実質的に除去されている、水を含む請求項７に記載のシステム。
9. 前記コンディショニングされた水がスチーム凝縮脱イオン水を含む請求項８に記載のシステム。
10. 前記コンディショニングされた水を、粒状汚染物質を除去するために、濾過する請求項８又は９に記載のシステム。
11. 前記バブルキャップ型湿式スクラバーが、
    水の供給を受けるための水入口及び過剰の水を除去するための水出口、酸素供給物供給を受けるためのガス入口及び洗浄された酸素ガスを取り出すためのガス出口を有する容器、
    バブルキャップを越える水の流れを支持するための水保有要素を有する、容器内の複数個の、ガス入口からの酸素ガスを受ける、バブルキャップ
    を含んでなり、酸素ガスがバブルキャップを通過し、バブルキャップを越えて流れる水を通ってバブリングし、酸素ガス中に同伴された粒状物質を、水の流れによって捕捉し、水出口を経て除去する請求項３に記載のシステム。
12. 前記バブルキャップが、容器内で、該バブルキャップを越える水の流れを支持する、複数の垂直に積み重ねられたトレー内に配置されており、水入口が、容器内の最頂部のトレー又はその上に配置されており、水保有要素が、垂直に積み重ねられたトレー内に一つのトレーから次のトレーに落ちる水の流れのための降水管を含む請求項１１に記載のシステム。
13. 前記水が、コンディショニングされて溶解塩が実質的に除去されている水を含む請求項１１又は１２に記載のシステム。
14. 前記コンディショニングされた水がスチーム凝縮脱イオン水を含む請求項１３に記載のシステム。
15. 前記コンディショニングされた水を、粒状汚染物質を除去するために、濾過する請求項１３又は１４に記載のシステム。
16. 前記水を、水出口から水入口へ循環し、水出口を水入口に連結するライン内にフィルターを設けている請求項１１〜１５のいずれか１項に記載のシステム。
17. 前記水を、容器を通して１回循環させる請求項１１〜１６のいずれか１項に記載のシステム。
18. 前記湿式スクラバーがガス混合器に連結されている請求項１〜１７のいずれか１項に記載のシステム。
19. 前記湿式スクラバーが、ａ）前記湿式スクラバーの内部壁をスプレーする１個又はそれ以上のスプレー器、ｂ）前記スクラバーの酸素ガス出口にあるミスト除去器及びｃ）前記湿式スクラバーに供給される水に添加される界面活性剤の少なくとも１個を含む請求項１〜１８のいずれか１項に記載のシステム。

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