JPS607525B2 - ガス混合方法およびガス混合装置 - Google Patents

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は炭化水素含有ガス流と酸素含有ガス流とを混合
するガス混合方法およびガス混合装置に関するものであ
る。

詳しくは、エチレン、プロピレン、ベンゼン、オルソキ
シレン、ナフタリン等の炭化水素の接触気相酸化反応、
特にエチレンを分子状酸素により銀を王とする銀触媒の
存在下接触気相酸化して酸化エチレンを製造するプロセ
スにおいて、安全にエチレン含有ガス流と酸素含有ガス
流を充分に混合せしめるガス混合方法およびガス混合装
置に関するものである。炭化水素の接触気相酸化反応た
とえばエチレンを銀触媒の存在下分子状酸素により接触
気相酸化して酸化エチレンを製造するプロセスにおいて
、エチレンの他にメタン、ェタン等の炭化水素ならびに
窒素、二酸化炭素、アルゴン、酸素等を含む炭化水素含
有ガスに空気もしくは酸素を富化した空気または純酸素
からなる酸素含有ガスを所望の比率に調製した後、銀触
媒を充填した反応帯に導びかれ接触気相酸化反応が行な
われる。

ここで生成した酸化エチレンを含む反応生成ガスは酸化
エチレン吸収塔に導びき、該塔頂より導入されるエチレ
ングリコール水溶液からなる吸収液に反応生成ガス中の
酸化エチレンを吸収し、酸化ヱチレン吸収塔底部より酸
化エチレン放散塔へ送り酸化エチレンを分離し精製プロ
セスを経て製品酸化エチレンを製造することができる。
酸化エチレン吸収塔頂よりの未吸収ガスは必要により二
酸化炭素吸収塔へ導びきアルカリ水溶液により所望の二
酸化炭素を吸収除去した後エチレンおよび酸素を補給し
所望の反応原料ガス組成に調製し反応帯へ再循環される
。これらの反応帯、酸化エチレン吸収塔および二酸化炭
素吸収塔の循環工程のいずれの部分においても混合ガス
の組成は燃焼範囲を外れていなければならない。

しかしながら「炭化水素含有ガス流と酸素含有ガス流と
を混合させる際「不充分な混合および逆流のため局所的
に燃焼範囲内の組成となることが往々にして避けられな
い。このため、炭化水素含有ガス流と酸素含有ガス流と
の混合をできるだけ速やかに行ない、混合不充分の領域
を小さくするよう、また酸素含有ガス配管への炭化水素
含有ガス流の逆流を防ぐよう種々の改良がなされてきた
。たとえば、特開昭４６一４３６２号明細書および特関
昭４７−１６３８１号明細書において多数の管東または
オリフィスを有するリングからなるガス混合装置により
、酸素含有ガス流を炭化水素含有ガス流の中に分散させ
て添加混合し、また炭化水素含有ガス流が酸素含有ガス
配管へ逆流するのを防ぐため、多量の窒素ガスを酸素含
有ガス流の中に加えることにより危険性を減少させてい
る。

しかしながら、これらの製造装置においては定期修理、
故障、停電等による予期されたまた不測の装置の運転の
停止および再開がおこり、このような非定常４状態時に
往々にして着火にいたる充分なエネルギーが局部的に生
じ装置の破かし、等の事故がおきるおそれがある。従来
の炭化水素含有ガス流と酸素含有ガス流とを混合させる
際の着火エネルギーを消滅させる方法はまだ充分とは云
えない。

また、炭化水素含有ガス流が酸素含有ガス配管へ逆流す
るのを防止するために、窒素ガスを酸素含有ガス流の中
に添加する方法があるが、多量の窒素を必要とするため
問題がある。したがって、本発明の目的は炭化水素ガス
流と酸素含有ガス流との新規なガス混合方法およびその
装置を提供することにある。

０ 本発明の他の目的は窒素の使用量を零ないし徴量に
でき、しかも着火エネルギーを消滅させ得る炭化水素ガ
ス流と酸素含有ガス流との安全なガス混合方法およびそ
の装置を提供することにある。

すなわち、本発明は酸素含有ガス流を炭化水素ガス流に
安全に混合する方法において、炭化水素含有ガス流の入
口に該ガス流の通過可能な水性媒体層「炭化水素含有ガ
ス流の出口にデミスタ−、該水性媒体層とデミスターと
の間に設けたガス混合部に酸素含有ガス流を導入し炭化
水素含有ガス流と酸素ガス流とを安全に混合することを
特徴とするガス混合方法および、■ 炭化水素含有ガス
流の入口に水性媒体滞留部【Ｂ’炭化水素含有ガス流の
出口にデミスターに｝ 炭化水素含有ガス流の入口と出
口の間にガス混合部■ ガス混合部に水性媒体の導入口 ｛Ｅ｝ 水性媒体滞留部の水性媒体の排出口‘Ｆ｝ ガ
ス混合部に酸素含有ガス導入管を設けたことを特徴とす
るガス混合装置からなるものである。

本発明によるガス混合方法において、炭化水素含有ガス
流はト気液接触トレイ、充填物等の水性媒体滞留部を備
えたガス吸収塔または容器内において水性媒体と向流接
触される。

一方、酸素含有ガス流は、水性媒体滞留層の水性媒体ま
たは水と接触したのちにガス混合部に導入されて炭化水
素含有ガスと混合される。酸素含有ガスと充分に混合さ
れた炭化水素含有ガス流は、デミスターを通過して反応
工程へ送られる。本発明によるガス混合装置は、内部に
少なくとも１個の水性媒体滞留部を備え、かつデミスタ
ーのごとき火炎伝播遮蔽手段を備えてなるもので、ガス
吸収塔とほぼ同一の構造を有してなるものである。

したがって、水性媒体手段は、通常、バブルキヤツプト
レイ、ユニフラツクストレイ、シーブトレイ、ノぐラス
トトレイ、ノＶレブトレイ、ベンチユリトレイ、ターボ
グリツドトレイ、デュアルフロートレイ、キツテルトレ
イ等のトレイである。同機に、ラシヒリング、レッシン
グリング、ベルサドル、ィンタロックサドル等の充填物
の層も使用できる。また、デミスターとしてはミストセ
パレータとしての機能を有するものであればいずれも使
用できるが、ワイヤーメッシュ型のものが特に好適であ
る。前記水性媒体滞留部としてＺは、気液接触トレイが
好ましく、特にダウンカマーを備えた十字流接触型のト
レイが最も好ましい。したがって、ガス混合装置として
は通常トレイ塔および充填塔型の吸収塔が使用され、特
に気液接触トレイを備えたトレイ塔が好ましい。しかし
ながら、ガス吸収塔以外にも上記のごとき構造を有する
ものは混合装置として使用できる。しかして、混合装置
の水性媒体が滞留する水性媒体層には炭化水素含有ガス
流導入口および水性媒排出口が設けられ、かつデミスタ
ーから炭化水素含有ガス流（炭化水素含有ガスと分子状
酸素含有ガスとのガス状混合物）が排出される。また、
水性媒体導入口は、デミスターより下部に設けられてい
る。このようにして水性媒体が滞留する水性媒体層とデ
ミスターとの間に形成されるガス混合部には、後述のご
とき分子状酸素導入手段が設けられる。

したがって「ガス混合装置から導入された炭化水素含有
ガス流は、水性媒体が滞留するトレイ上の水性媒体層を
通過して上昇し、ガス混合城に達したら、後述するよう
にこのガス混合部に水性媒体層中を通過して導入される
酸素との混合が行なわれる。ついでデミスターのごとき
火炎伝播遮蔽手段を通過して排出口よりガス混合装置外
へ排出される。一方、ガス混合装置に供給される水性媒
体は、導入口よりガス混合装置の気液接触トレイの上部
から供給され、水性媒体層排出口より排出される。ガス
混合装置としてガス吸収塔を使用する場合には、同時に
所望の成分が水性媒体に溶解し、ガス吸収塔の塔底より
系外に除去される。水性媒体と炭化水素含有ガスとの流
量比は、上昇するこのガスが吹抜けころとなく、気液の
接触が充分行なわれるように水性媒体滞留手段に液層を
なして滞留するに十分な比であればよく、当業者にとつ
て公知の吸収塔設計用の計算式を用いて決定すればよい
。したがって、ガス混合装置がガス吸収塔もかねる際に
は、液（Ｌ）ガス（Ｇ）比（Ｌ／Ｇ）は増大する。本発
明において使用される水性媒体としては、純水、脱イオ
ン水等の新鮮な水、吸収塔の塔底から排出される吸収水
より所定の成分を分離回収したのちの循環水、所定の成
分を分離回収してもなお完全に分離できないかあるいは
他の成分を含有している循環水溶液等がある。

後者の例としては、例えば酸化エチレン製造時において
、エチレンの酸化反応生成物を吸収して回収する際に使
用されるエチレングリコールを０．１〜３の重量％、特
に１〜２の重量％含有する水溶液がある。分子状酸素含
有ガスとしては、純酸素の他に、不活性ガスで希釈した
純酸素、酸素を富化した空気、空気等がある。

炭化水素含有ガスとしては、エチレン、プロピレン、ベ
ンゼン、オルソキシレソ、ナフタリン等の他に、これら
炭化水素を前記分子状酸素含有ガスにより接触気相酸化
して得られ、かつ未反応の炭化水素をなお含有している
ガスがある。特に、未反応の炭化水素を含有する接触気
相酸化反応生成ガスを使用すれば「所望の生成物の吸収
による回収と同時に分子状酸素含有ガスの混合も同時に
行なわれる。したがって、本発明による混合方法および
装置は、分子状酸素含有ガスによる接触気相酸化により
エチレンから酸化エチレン、プロピレンからアクロレイ
ンおよびアクリル酸またはアクリロニトリル、ベンゼン
から０無水マレィン酸、オルソキシレンまたはナフタリ
ンから無水フタル酸、ナフタリンからナフトキノン等を
製造するプロセスにおいて好適に使用できる。特に、エ
チレンを純酸素により気相酸化して酸化エチレンを製造
するプロセスにおいては優れ５た結果が得られる。本発
明によるガス混合方法において、分子状酸素含有ガスの
ガス混合城への代表的な導入方法としては、つぎのもの
が挙げられる。｛１）第１の型のガス混合装置において
酸素含有ガ０ ス導入管は多数の管東に分岐され、各々
１ないし複数個のオリフィスを有する管東の先端は気液
接触トレイの作動を妨げないように気液接触トレイ上に
均一に分散配置され、かつオリフィス部は気液接触トレ
イ上を流れる水性媒体城に１〜１０狐の深さに浸される
のが好ましい。

各々のオリフィスは同一水準面にあるよう設置されるが
、０．１〜３肌程度の高さのずれが生じた場合、酸素含
有ガスの微少流量時一部のオリフィス部のみから流れ、
残りのオリフィスから水性媒体が管東中に逆流すること
がある。これを避けるため「水性媒体の０．１〜３弧の
差圧にうち勝つべく徴量の窒素ガスを酸素含有ガス流中
に加え常に全オリフィスからガスが流れるように制御す
る。■ 第２の型のガス混合装置において、酸素含有ガ
ス導入管は気液接触トレイ上の気相部に設置した二重管
で構成され」酸素含有ガスは内管に通し、水は外管に導
入される。

内管下部にあげられた複数個のオリフィスより酸素含有
ガスは外管部の水層に気泡となって入り、外管上部の開
放部より水と共にガス混合部に入り炭化水素含有ガス流
と混和される。使用する水の量は「酸素含有ガスに飽和
される量と飛沫に同伴される量の和以上であればよい。
過剰の水の使用はコストの増加を招き好ましくない。好
適な水の使用量はガス体積１でにつき５〜１００その水
を添加するのが望ましい。使用する水は酸素含有ガス配
管への逆流による有機物の汚染を避けるためトまた酸化
反応を阻害する成分の混入を避けるため有機物「ハロゲ
ン等を実質的に含まない純水を使用するのが好ましい。
｛３｝ 第３のガス混合装置において、酸素含有ガス導
入管は第１と第２の型のガス混合装置を複合した型であ
って、酸素含有ガス流は第２の型の３ガス混合装置と同
様の２重管よりなり「酸素含有ガスは内管に通し〜水ま
たは外管に導入し、外管上部から先端に１個ないし複数
個のオリフィスをもつ多数の管東が分岐され「第１の型
のガス混合装置を同様の気液接触トレイ上の水性３媒体
域中に浸されて配管され、酸素含有ガス流は外管の水と
共にオリフィスより気液接触トレイの水性媒体城中に噴
出し、ガス混合部において炭化水素含有ガス流と充分混
合される。

外管に供給される水の使用量と水質は第２の型同様４で
あることが好ましい。オリフイスが気液接触トレイの水
性媒体城中に浸る液深およびオリフィスの配置は第１の
型を同様であることが好ましい。本発明のガス混合装置
は、内部に気液接触トレイとデミスターが設けられてい
るガス吸収塔の最上部と同一の構造を有する。

ガス混合装置に導入された炭化水素含有ガス流は気液接
触トレイ上を通過する水性媒体層と向流接触する。この
際第１と第３の型のガス混合方法では、酸素含有ガス流
は始め水性媒体城中を接触通過した後、ガス混合部にお
いて炭化水素含有ガス流との混合が行なわれる。また、
第２の型のガス混合装置では、二重管の内管の酸素含有
ガス流は外管の水中を接触通過した後ガス混合部の気相
部において炭化水素含有ガス流と酸素含有ガス流との混
合が行なわれる。本発明におけるガス混合装置を使用し
た際、酸素含有ガス流ならびに炭化水素含有ガス流は混
合される以前に各々水または水性媒体に接触するため、
何らかの原因で着火エネルギーが発生したとしてもその
エネルギーは吸収され、又局部的に燃焼範囲に入りやす
い混合部において燃焼をおこしたとしても、ガス混合部
の炭化水素含有ガス流出口側はデミスター、炭化水素含
有ガス流入口側は気液接触トレイ上の水性媒体層により
シールされているので火炎が炭化水素含有ガス流の上、
下流に伝播することはない。

また、酸素含有ガス流の上流および下流の火炎伝播は、
気液接触トレイ上の水性媒体層、デミスター「および酸
素含有ガス導入管の外管の水によりシールされているた
め阻止することができる。さらに第２と第３の型の酸素
含有ガス導入方法は酸素含有ガス流量が徴量のときでも
窒素の添加を必要としない。第１の型の酸素含有ガス導
入管においてもオリフィス液深のバラッキを補償するに
たる徴量の窒素を添加すればよい。本発明によるガス混
合装置の作動を酸化エチレン製造工程における酸化エチ
レン吸収塔の最上段のトレイとデミスターの部を利用し
た例を図面に従って説明する。

第でＡ図において「反応器を出た炭化水素含有ガス流は
導管１を通して酸化エチレン吸収塔１０１‘こ導びき、
さらに酸化エチレン吸収塔の最上段のトレイ３とデミス
ター４の部を利用したガス混合部１０２に導びき〜 １
の重量％のグリコール水溶液からなる酸化エチレン吸収
液が流れる気液接触トレイ３（３０段のバラストトレィ
）を順次通過し、最上部のデミスター４で炭化水素含有
ガス流に同伴したミストを除去後、導管５を通り図面で
は示されていない反応器に導びかれる。

吸収液として１の重量％のグリコール水溶液は導管６よ
り最上部の気液接触トレイ３に供給され、炭化水素含有
ガス流と接触し酸化エチレンを吸収しながらダウンカマ
ー７を適切頃次下部の気液接触トレイ３をくぐりぬけ吸
収塔２底部より導管８をへて酸化エチレン放散塔へ送ら
れる。

第ＩＢ図は、気液後触トレイ３の水平面のバラストキャ
ップの位置を示し、第ＩＣ図の、Ａはバラストトレイ、
Ｂはシープトレイ、Ｃはバブルキャップトレイを示す。

第１の型の酸素含有ガス導入管は第２Ａ，Ｂ，Ｃ図にお
いて示され、酸素含有ガス流は徴量の窒素とともに導管
２１よりガス混合装置１０１のガス混合部１０２へ入り
、分岐された管東２２のオリフィス２３よりトレイ３上
の吸収液中に噴出し孔９よりの炭化水素含有ガス流と混
合する。第２の型の酸素含有ガス導入管第３Ａ，Ｂ？
Ｃ図において示され、酸素含有ガス流はガス混合装置１
０１のガス混合部１０２へフラッディングを起さないよ
う吸収液面より上部に設置された二重管の外管３２の純
水槽を内管３１の多数のオリフイス３３より気泡となっ
て通過し、吸収液が外管に入らないよう設けられた上ぶ
た３５と外管開放部３４の隙間より水とともに流出し炭
化水素含有ガス流と混合する。第３の型の酸素含有ガス
導入管は第４Ａ，Ｂ，Ｃ図において示され、酸素含有ガ
ス流はガス混合装置１０１のガス混合部１０２の気相部
へ２重管の外管４２の純水層を内管４１のオリフイス４
３より気泡となって通過し、外管上部に設けられた管束
４４のオリフィス４５より純水とともに吸収液中に噴出
し炭化水素含有ガスと混合する。

酸素含有ガス導入管のオリフィスの口径と個数は製造装
置において許される圧損によってさまり、定常状態にお
いて０．１〜３ｋ９／地の圧損となるよう設計するのが
望ましい。

【図面の簡単な説明】

第ＩＡ図はガス吸収塔を利用した本発明におけるガス混
合装置の縦断面図、第ＩＢ図は横断面図で気液接触トレ
イの配置を示し、第ＩＣ図は凶パラストトレイ、【Ｂ）
シーブトレイ、（Ｃ）バブルキヤツプトレィを示す。 第２Ａおよび第２Ｂ図は本発明の第１の型の酸素含有ガ
ス導入管からなるガス混合装置の縦断面図および横断面
図、第２Ｃ図はその作動状態を示す。第３Ａおよび第３
Ｂ図は本発明の第２の型の酸素含有ガス導入管からなる
ガス混合装置の縦断面図および横断面図、第３Ｃ図はそ
の作動状態を示す。第４Ａおよび第４Ｂ図は本発明の第
３の型の酸素含有ガス導入管からなるガス混合装置の縦
断面図および横断面図、第４Ｃ図はその作動状態を示す
。１…・・・炭化水素含有ガス導入管、１０１…・・・
ガス混合装置（酸化エチレン吸収塔）、３・…・４気液
接触トレイ、４…・・・デミスター、５…・・・導管、
７…・・・ダウンカマー、８…・・・吸収液出口導管、
９・・・…トレイ構造及びその位置、１０・・…・水導
入管、１０２…・・・ガス混合部、２１・・・・・・酸
素含有ガス導入管、２２・…・・酸素含有ガス導入管の
管東、２３…・・・酸素含有ガス導入管の管東のオリフ
ィス、２４・…・・酸素含有ガス導入管の均圧ライン、
３１・・・…酸素含有ガス導入管の内管、３２・…・・
酸素含有ガス導入管の外管、３３・・・・・・酸素含有
ガス導入管の内管のオリフィス、３４・・・・・・酸素
含有ガス導入管の外管のオリフィス、３５・…・・上蓋
、３６・・・・・・０酸素含有ガス導入管の内管上部オ
リフィス、４１・・・・・・酸素含有ガス導入管の内管
、４２・・・・・・酸素含有ガス導入管の外管、４３・
・・・・・酸素含有ガス導入管の内管のオリフィス、４
４・・…・酸素含有ガス導入管の管東、４５・・・・・
・酸素含有ガス導入管の管東夕のオリフィス、４６・・
・・・・酸素含有ガス導入管の内管上部のオリフィス、
４７・・…・酸素含有ガス導入管の境圧ライン。矛ＩＡ
図 オーＢ図 才ｌｃ図 オ２Ａ図 次２Ｂ図 次２Ｃ図 才３Ａ図 才３Ｂ図 才３Ｃ図 才４Ａ図 才４Ｂ図 オ ４ Ｃ‘紅

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 １ 酸素含有ガス流を炭化水素含有ガス流に安全に混合
   する方法において、炭化水素含有ガス流の入口に該ガス
   流の通過可能な水性媒体層、炭化水素含有ガス流の出口
   にデミスター、該水性媒体層とデミスターとの間に設け
   たガス混合部に酸素含有ガス流を導入し炭化水素含有ガ
   ス流と酸素含有ガス流とを安全に混合することを特徴と
   するガス混合方法。 ２ 酸素含有ガス流を水性媒体層中に導入せしめた後つ
   いでガス混合部に導入せしめる特許請求の範囲第１項記
   載の方法。 ３ 水性媒体層中に酸素含有ガス流を水と共に導入せし
   める特許請求の範囲第２項記載の方法。 ４ ガス混合部の気相部に酸素含有ガス流を水と共に導
   入せしめる特許請求の範囲第１項記載の方法。 ５ （Ａ） 炭化水素含有ガス流の入口に水性媒体滞留
   部（Ｂ） 炭化水素含有ガス流の出口にデミスター（Ｃ
   ） 水性媒体滞留部とデミスターとの間にガス混合部（
   Ｄ） ガス混合部に水性媒体の導入口 （Ｅ） 水性媒体滞留部の水性媒体の排出口（Ｆ） ガ
   ス混合部に酸素含有ガス流導入管を設けたことを特徴と
   するガス混合装置。 ６ 酸素含有ガス導入口がオリフイスを有する多数の管
   束で水性媒体滞留部の水性媒体層に浸漬されている特許
   請求の範囲第５項記載の装置。 ７ 酸素含有ガス導入口が、多数のオリフイスを有する
   酸素含有ガス流通用内管と、上部に開口部を有する水流
   通用外管とよりなる二重管であり、かつガス混合部の気
   相部に設けてなる特許請求の範囲第５項記載の装置。 ８ 酸素含有ガス導入口が、多数のオリフイスを有する
   酸素含有ガス流通用内管と、多数の管束のオリフイスを
   有する水流通用外管とよりなる二重管であり、かつ気液
   接触トレイ上の水性媒体に浸漬されている特許請求の範
   囲第５項記載の装置。