JP5460291B2 - 有機発光装置の製造方法および有機発光装置 - Google Patents
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Description
透光性の第1の導電性電極層として、平均膜厚150nmのインジウムドープされた酸化錫(ITO)膜を片面全体にコーティングした、厚さ0.7mmの無アルカリガラスを透光性基板として用いた。
実施例1と同様に、平均膜厚150nmのITO膜を片面全体にコーティングした、厚さ0.7mmの無アルカリガラスを透光性基板として用いた。この基板(外形寸法□200mm×200mm)のITO層を化学エッチングにより、図3(A)に示した形状になるように一部を除去した後、中性洗剤で洗浄し150℃で20分加熱乾燥させた。
2 透光性の第1の導電性電極層
3 有機発光層を含む積層体層
4 第2の導電性電極層
5 第1の開口部
6 絶縁体層を少なくとも1層含む絶縁体含有層
7 第2の開口部
8 第3の導電性電極層
Claims (11)
- (a)透光性基板上に、透光性の第1の導電性電極層、有機発光層を含む積層体層、第2の導電性電極層を順次形成した後、レーザービームを前記透光性基板側から照射し、前記積層体層および前記第2の導電性電極層の一部を同時に除去して、前記第1の導電性電極層の一部を露出させる、第1の開口部を設ける工程、
(b)前記第2の導電性電極層および前記第1の開口部の上に、絶縁体層を少なくとも1層含む絶縁体含有層を形成した後、レーザービームを前記透光性基板側から照射し、前記第1の開口部の上にある前記絶縁体含有層の一部を除去して、前記第1の開口部と内接しない位置に、前記透光性の第1の導電性電極層の一部を露出させる、第2の開口部を設ける工程、
(c)前記絶縁体含有層および前記第2の開口部の上に、第3の導電性電極層を形成する工程、
を含むことを特徴とする有機発光装置の製造方法であって、さらに、
前記透光性の第1の導電性電極層は、電極取り出しのため、少なくとも2以上に分割されることを特徴とする、有機発光装置の製造方法。 - 前記分割された透光性の第1の導電性電極層を形成する工程は、前記透光性基板上に第1の導電性電極層を形成し、レーザービームをこの層の側から照射し、その一部を除去することを特徴とする、請求項1に記載の有機発光装置の製造方法。
- 前記第2の導電性電極層および前記第3の導電性電極層は、分割された異なる前記透光性の第1の導電性電極層と、それぞれ電気的に接続されることを特徴とする、請求項1又は2に記載の有機発光装置の製造方法。
- 前記第1の開口部は、レーザー光源と前記透光性基板の間に、第1の遮光マスクを配置し、パルス状のレーザービームを連続照射して形成される、請求項1乃至3のいずれかに記載の有機発光装置の製造方法。
- 前記第2の開口部は、レーザー光源と前記透光性基板の間に、第2の遮光マスクを配置し、パルス状のレーザービームを連続照射して形成される、請求項1乃至4のいずれかに記載の有機発光装置の製造方法。
- 前記絶縁体層は、有機化合物であることを特徴とする、請求項1乃至5のいずれかに記載の有機発光装置の製造方法。
- 前記絶縁体層は、[トリス(8−ハイドロキシキノリナート)]アルミニウム(III)、Perylene、4,4'−ビス[N−(2−ナフチル)−N−フェニル−アミノ]ビフェニル、4,4'-ビス(N−カルバゾリル)ビフェニル、ビス(2,2,6,6−テトラメチル−3,5−ヘプタンジオナト)カルシウムを少なくとも1つ含有する、請求項6に記載の有機発光装置の製造方法。
- 前記絶縁体含有層は、最下位層が前記絶縁体層、最上位層が導電性層であることを特徴とする、請求項1乃至7のいずれかに記載の有機発光装置の製造方法。
- 前記第1の開口部および前記第2の開口部の形状は、直径10μm〜500μmの穴の集合からなる溝状であることを特徴とする、請求項1乃至8のいずれかに記載の有機発光装置の製造方法。
- 前記レーザー光源は、ネオジウムを添加した、YAGまたはYVO4の固体結晶をレーザー媒質とした、パルスレーザーの高調波であることを特徴とする、請求項1乃至9のいずれかに記載の有機発光装置の製造方法。
- 前記レーザービームの照射はクリーン度の高い、乾燥窒素雰囲気中または大気雰囲気中にて行なうことを特徴とする、請求項1乃至10のいずれかに記載の有機発光装置の製造方法。
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