JP5454477B2 - 単結晶シンチレータ材料およびその製造方法、放射線検出器、並びにpet装置 - Google Patents
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Description
出発原料としては、Li、Na、K、Rb、Csから選ばれるアルカリ金属の化合物、Wおよび/またはMoの化合物、ホウ素化合物、Ce化合物、Lu化合物などを所要の割合で混合したものを用いる。
(1)昇温・温度保持
上記出発原料を50℃/時間〜500℃/時間の昇温速度で800℃以上、ホウ酸ルテチウムの相転移点である1350℃以下の温度に昇温させ、そのまま1時間〜12時間温度保持して全体を溶融させる。ホウ酸ルテチウムの融点は1650℃であるが、それより低い上記範囲の温度で溶融した溶媒に溶解するので、冷却工程で結晶の相転移点を通過せずに、カルサイト構造の単結晶を析出させることができる。
続いて、上記溶融溶解物を、上記保持温度(800℃以上1350℃以下)から、750℃以上1350℃未満の上記保持温度より低い温度まで(前記温度範囲を以下第1徐冷温度領域と称する)、好ましくは0.001℃/時間以上5℃/時間以下で徐冷することが好ましく、0.003℃/時間以上2℃/時間以下で徐冷することがより好ましい。最初の冷却段階をこのような低い速度でゆっくりと徐冷することにより、析出する結晶を大きく成長させることができる。途中結晶を大きく成長させる為に800℃以上1350℃未満の温度範囲内で30分以上温度を保持してもよい。また、結晶をより大きく成長させるという観点から、第1徐冷温度領域では、比較的低い冷却速度から比較的高い冷却速度へと、いくつかの段階に分けて徐冷することが望ましい。
具体的な結晶成長法としては、フラックス法(徐冷法,温度差法)、ブリッジマン法、TSSG(Top Seeded Solution Growth)法などが挙げられる。TSSG法によれば、大きな結晶を育成することができ、さらに育成した結晶と溶液との分離が容易になる。以下、TSSG法による結晶育成の具体例について図2を参照して説明する。
本実施例では、フラックス法(徐冷法)により結晶体を成長させた。直径50mm、深さ60mmの白金坩堝を用意し、Na2CO3:15.30g、Li2CO3:5.80g、WO3:33.50g、B2O3:6.20g、Lu2O3:4.20g、CeO2:0.02gを秤量した。その後、乳鉢にて混合し、上記坩堝内に充填した。この白金坩堝を、直径60mm、深さ70mmのアルミナ坩堝に入れてふたをし、図3に示すヒートパターンで結晶を育成した。図3の縦軸は温度、横軸は時間である。冷却過程の途中は記載を省略している。
本実施例では、図2に示す装置を用いてTSSG法により結晶体を成長させた。直径50mm、深さ50mmの白金製の坩堝1を用意し、Na2CO3:25.50g、Li2CO3:9.60g、WO3:55.90g、B2O3:10.30g、Lu2O3:7.10g、CeO2:0.03gを秤量後、乳鉢にて混合し、上記坩堝内に充填した。この坩堝1を、その周囲に配置されたヒータ2により温度制御して、図6に示すヒートパターンで結晶を育成した。図6の縦軸は温度、横軸は時間である。冷却過程の途中は記載を省略している。
本実施例では、図2に示す装置を用いてTSSG法により結晶体を成長させた。直径50mm、深さ50mmの白金製の坩堝1を用意し、Na2CO3:19.80g、Li2CO3:13.80g、WO3:57.70g、B2O3:9.30g、Lu2O3:3.50g、CeO2:0.03gを秤量した。その後、乳鉢にて混合し、上記坩堝内に充填した。この坩堝1を、その周囲に配置されたヒータ2により温度制御して、図8に示すヒートパターンで結晶を育成した。図8の縦軸は温度、横軸は時間である。冷却過程の途中は記載を省略している。
本比較例では、フラックス法(徐冷法)により結晶体を成長させた。直径45mm、深さ50mmの白金坩堝を用意し、Na2CO3:32.00g、BaCO3:28.00g、B2O3:10.60g、Lu2O3:4.20g、CeO2:0.02gを秤量した。その後、乳鉢にて混合し、上記坩堝内に充填した。この白金坩堝を、直径60mm、深さ70mmのアルミナ坩堝に入れてふたをし、図3に示すヒートパターンで結晶を育成した。
本比較例では、図2に示す装置を用いてTSSG法により結晶体を成長させた。直径40mm、深さ50mmの白金製の坩堝1を用意し、PbO:100g、B2O3:18g、Lu2O3:10g、CeO2:0.1gを秤量した。その後、乳鉢にて混合し、上記坩堝内に充填した。この坩堝1を、その周囲に配置されたヒータ2により温度制御して、図10に示すヒートパターンで結晶を育成した。図10の縦軸は温度、横軸は時間である。冷却過程の途中は記載を省略している。
本実施例では、フラックス法(徐冷法)により結晶体を成長させた。直径50mm、深さ60mmの白金坩堝を用意し、K2CO3:13.50g、Li2CO3:14.43g、WO3:39.41g、MoO3:3.64g、B2O3:7.30g、Lu2O3:2.85g、CeO2:0.01gを秤量した。その後、実施例1と同様に結晶育成を行ったところ、対角5mm、厚さ1mmのセリウム賦活ホウ酸ルテチウム単結晶を得ることができた。実施例3と同様の測定を行ったところ、この結晶はカルサイト構造を有していた。バテライト構造等の他の相は含まれていなかった。この結晶の組成式(CexLu1-x)BO3におけるCeの組成比率xは、0.001であり、Pbの含有量は質量比率で50ppm以下であった。また、発光のピーク波長は365nmであり、波長270nmにおける透過率は約55%であることが確認された。
本実施例では、フラックス法(徐冷法)により結晶体を成長させた。直径50mm、深さ60mmの白金坩堝を用意し、Na2CO3:9.90g、Li2CO3:6.90g、MoO3:17.92g、B2O3:4.64g、Lu2O3:1.76g、CeO2:0.02gを秤量した。その後、実施例1と同様に結晶育成を行ったところ、対角5mm、厚さ1mmのセリウム賦活ホウ酸ルテチウム単結晶を得ることができた。実施例3と同様の測定を行ったところ、この結晶はカルサイト構造を有していた。バテライト構造等の他の相は含まれていなかった。この結晶の組成式(CexLu1-x)BO3におけるCeの組成比率xは、0.003であり、Pbの含有量は質量比率で50ppm以下であった。また、発光のピーク波長は365nmであり、波長270nmにおける透過率は、約50%であることが確認された。
本実施例では、フラックス法(徐冷法)により結晶体を成長させた。直径50mm、深さ60mmの白金坩堝を用意し、Na2CO3:13.69g、Cs2CO3:28.05g、WO3:33.27g、B2O3:5.50g、Lu2O3:2.99g、CeO2:0.01gを秤量した。その後、実施例1と同様に結晶育成を行ったところ、対角5mm、厚さ1mmのセリウム賦活ホウ酸ルテチウム単結晶を得ることができた。実施例3と同様の測定を行ったところ、この結晶はカルサイト構造を有していた。バテライト構造等の他の相は含まれていなかった。この結晶の組成式(CexLu1-x)BO3におけるCeの組成比率xは、0.0005であり、Pbの含有量は質量比率で50ppm以下であった。また、発光のピーク波長は365nmであり、波長270nmにおける透過率は約55%であることが確認された。
本実施例では、TSSG法により結晶体を成長させた。直径75mm、深さ75mmの白金製の坩堝1を用意し、Na2CO3:184.8g、Li2CO3:128.8g、WO3:538.9g、B2O3:86.7g、Lu2O3:33.1g、CeO2:0.1gを秤量した。その後、乳鉢にて混合し、上記坩堝内に充填した。この坩堝1を、その周囲に配置されたヒータ2により温度制御し、図11に示すヒートパターンで結晶を育成した。図11の縦軸は温度、横軸は時間である。冷却過程の途中は記載を省略している。本実施例で用いたTSSG法による結晶育成装置を図12に示す。
本実施例では、図12の装置を用いた以外は、実施例2と同様に結晶育成を行ったところ、対角20mm、厚さ1.5mmのセリウム賦活ホウ酸ルテチウム単結晶を得ることができた。実施例3と同様の測定を行ったところ、この結晶はカルサイト構造を有していた。バテライト構造等の他の相は含まれていなかった。この結晶の組成式(CexLu1-x)BO3におけるCeの組成比率xは、0.001であり、Pbの含有量は質量比率で50ppm以下であった。また、発光のピーク波長は365nmであり、波長270nmにおける透過率は、約55%であることが確認された。
本実施例では、図12の装置を用いた以外は、実施例3と同様に結晶育成を行ったところ、対角20mm、厚さ1.5mmのセリウム賦活ホウ酸ルテチウム単結晶を得ることができた。実施例3と同様の測定を行ったところ、この結晶はカルサイト構造を有していた。バテライト構造等の他の相は含まれていなかった。この結晶の組成式(CexLu1-x)BO3におけるCeの組成比率xは、0.002であり、Pbの含有量は質量比率で50ppm以下であった。また、発光のピーク波長は365nmであり、波長270nmにおける透過率は、約55%であることが確認された。
本実施例では、フラックス法(徐冷法)により結晶体を成長させた。直径50mm、深さ60mmの白金坩堝を用意し、Na2CO3:15.84g、Li2CO3:11.04g、WO3:46.19g、B2O3:7.43g、Lu2O3:2.77g、CeO2:0.07gを秤量した。本実施例では、まず200℃/Hrで1200℃まで昇温させた後、0.5℃/Hrで800℃まで降温させ、その後は150℃/Hrで降温を続けた。冷却後、坩堝内の固化物を水で洗浄することで溶媒成分を除去し、坩堝内に残った結晶体を取り出したところ、対角5mm、厚さ1mmのセリウム賦活ホウ酸ルテチウム単結晶を得ることができた。実施例3と同様の測定を行ったところ、この結晶はカルサイト構造を有していた。バテライト構造等の他の相は含まれていなかった。この結晶の組成式(CexLu1-x)BO3におけるCeの組成比率xは、0.006であり、Pbの含有量は質量比率で50ppm以下であった。また、発光のピーク波長は365nmであり、波長270nmにおける透過率は、約45%であることが確認された。
本実施例では、フラックス法(徐冷法)により結晶体を成長させた。直径50mm、深さ60mmの白金坩堝を用意し、Li2CO3:23.49g、WO3:49.14g、B2O3:7.87g、Lu2O3:2.77g、CeO2:0.01gを秤量した。本実施例では、まず200℃/Hrで1200℃まで昇温させた後、0.5℃/Hrで1135℃まで降温させ、その後は150℃/Hrで降温を続けた。冷却後、坩堝内の固化物を水で洗浄することで溶媒成分を除去し、坩堝内に残った結晶体を取り出したところ、対角5mm、厚さ1mmのセリウム賦活ホウ酸ルテチウム単結晶を得ることができた。実施例3と同様の測定を行ったところ、この結晶はカルサイト構造を有していた。バテライト構造等の他の相は含まれていなかった。この結晶の組成式(CexLu1-x)BO3におけるCeの組成比率xは、0.001であり、Pbの含有量は質量比率で50ppm以下であった。また、発光のピーク波長は365nmであり、波長270nmにおける透過率は、約55%であることが確認された。
本実施例では、フラックス法(徐冷法)により結晶体を成長させた。直径50mm、深さ60mmの白金坩堝を用意し、Na2CO3:8.92g、Li2CO3:6.22g、WO3:39.01g、B2O3:6.64g、Lu2O3:4.46g、CeO2:0.02gを秤量した。本実施例では、まず200℃/Hrで1200℃まで昇温させた後、0.5℃/Hrで1050℃まで降温させ、その後は150℃/Hrで降温を続けた。冷却後、坩堝内の固化物を水で洗浄することで溶媒成分を除去し、坩堝内に残った結晶体を取り出したところ、対角5mm、厚さ1mmのセリウム賦活ホウ酸ルテチウム単結晶を得ることができた。実施例3と同様の測定を行ったところ、この結晶はカルサイト構造を有していた。バテライト構造等の他の相は含まれていなかった。この結晶の組成式(CexLu1-x)BO3におけるCeの組成比率xは、0.001であり、Pbの含有量は質量比率で50ppm以下であった。また、発光のピーク波長は365nmであり、波長270nmにおける透過率は、約55%であることが確認された。
本比較例では、フラックス法(徐冷法)により結晶体成長を試みた。直径50mm、深さ60mmの白金坩堝を用意し、Na2CO3:20.31g、Li2CO3:14.15g、WO3:22.21g、B2O3:3.98g、Lu2O3:3.66g、CeO2:0.02gを秤量した。その後は実施例12と同様に結晶育成を行った。冷却後、坩堝内の固化物を水で洗浄することで溶媒成分を除去したが、粒径0.1mm以下の粉末状の残留物しかなく、目的とする結晶を得ることはできなかった。
本比較例では、フラックス法(徐冷法)により結晶体成長を試みた。直径50mm、深さ60mmの白金坩堝を用意し、Na2CO3:23.25g、Li2CO3:16.21g、B2O3:31.3g、Lu2O3:4.24g、CeO2:0.02gを秤量した。その後、実施例12と同様に結晶育成を行った。冷却後、坩堝内の固化物を水で洗浄することで溶媒成分を除去したが、粒径0.1mm以下の粉末状の残留物しかなく、目的とする結晶を得ることはできなかった。
本比較例では、フラックス法(徐冷法)により結晶体成長を試みた。直径50mm、深さ60mmの白金坩堝を用意し、Na2CO3:9.88g、Li2CO3:6.89g、WO3:43.23g、Lu2O3:3.81g、CeO2:0.02gを秤量した。その後は実施例12と同様に結晶育成を行った。冷却後、坩堝内の固化物を水で洗浄することで溶媒成分を除去したが、粒径0.1mm以下の粉末状の残留物しかなく、目的とする結晶を得ることはできなかった。
2 ヒータ
3 電気炉
4 坩堝台
4´ 坩堝台
5 引上げ軸
6 種子材料
7 原料溶液
11 シンチレータ結晶
12 反射材
13 光電子増倍管(PMT)
14 光学グリス
15 γ線
16 被検者
Claims (13)
- Li、Na、K、Rb、Csからなる群から選ばれる少なくとも1種と、Wおよび/またはMoと、Bおよび酸素とを含有し、Pbを含まない溶媒を用意する工程と、
Ce化合物およびLu化合物を前記溶媒と混合し、800℃以上1350℃以下の温度に加熱して前記化合物を溶融させる工程と、
溶融した前記化合物を冷却することにより、組成式(CexLu1-x)BO3で表され、Ceの組成比率xが0.0001≦x≦0.05を満足する単結晶を析出成長させる工程と、
を含み、不可避的に混入するPbの含有量が質量比率で50ppm以下とした単結晶シンチレータ材料の製造方法。 - 前記溶媒を用意する工程および前記化合物を溶融させる工程は、前記溶媒を形成する化合物と、Ce化合物と、Lu化合物とを混合し、800℃以上1350℃以下の温度に加熱する工程である、請求項1に記載の単結晶シンチレータ材料の製造方法。
- Li、Na、K、Rb、Csからなる群から選ばれる少なくとも1種と、Wおよび/またはMoと、Bおよび酸素とを含有し、Pbを含まない溶媒を用意する工程と、
Ce化合物およびLu化合物を前記溶媒と混合し、加熱して前記化合物を溶融させる工程と、
溶融した前記化合物を冷却することにより、組成式(CexLu1-x)BO3で表され、Ceの組成比率xが0.0001≦x≦0.05を満足する単結晶を析出成長させる工程と、
を含み、不可避的に混入するPbの含有量が質量比率で50ppm以下とし、
前記単結晶の析出成長は、高温バテライト相からカルサイト相への相転移の温度よりも低い温度で実行する、単結晶シンチレータ材料の製造方法。 - 前記Ceの組成比率xが0.001≦x≦0.03を満足する請求項1から3のいずれかに記載の単結晶シンチレータ材料の製造方法。
- 前記単結晶を析出成長させる工程は、TSSG法により行う、請求項1から4のいずれかに記載の単結晶シンチレータ材料の製造方法。
- 前記単結晶を析出成長させる工程において、溶融した前記化合物の温度が750℃以上1350℃未満の温度まで0.001℃/時間以上5℃/時間以下の降温速度で冷却する、請求項1から5のいずれかに記載の単結晶シンチレータ材料の製造方法。
- 前記析出成長させる工程は、80時間以上の時間をかけて行う、請求項6に記載の単結晶シンチレータ材料の製造方法。
- 請求項1から7のいずれかに記載の製造方法によって得た単結晶シンチレータ材料であって、
組成式(CexLu1-x)BO3で表され、Ceの組成比率xが0.0001≦x≦0.05を満足する単結晶部を有し、前記単結晶部のPbの含有量が質量比率で50ppm以下である単結晶シンチレータ材料。 - 前記Ceの組成比率xが0.001≦x≦0.03を満足する請求項8に記載の単結晶シンチレータ材料。
- 前記単結晶部はカルサイト型結晶構造を有している請求項8または9に記載の単結晶シンチレータ材料。
- 厚さ0.5mmに鏡面加工された前記単結晶部の波長270nmにおける透過率は、20%以上である請求項8から10のいずれかに記載の単結晶シンチレータ材料。
- 請求項8から11のいずれかに記載の単結晶シンチレータ材料と、
前記単結晶シンチレータ材料からの発光を検出する検出器と
を備える放射線検出器。 - リング状に配列された複数の放射線検出器を備え、被検体からのγ線を検出するPET装置であって、
前記複数の放射線検出器の各々は、請求項12に記載の放射線検出器である、PET装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2010530745A JP5454477B2 (ja) | 2008-09-29 | 2009-09-28 | 単結晶シンチレータ材料およびその製造方法、放射線検出器、並びにpet装置 |
Applications Claiming Priority (6)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2008250978 | 2008-09-29 | ||
JP2008250978 | 2008-09-29 | ||
JP2008329041 | 2008-12-25 | ||
JP2008329041 | 2008-12-25 | ||
PCT/JP2009/004939 WO2010035500A1 (ja) | 2008-09-29 | 2009-09-28 | 単結晶シンチレータ材料およびその製造方法、放射線検出器、並びにpet装置 |
JP2010530745A JP5454477B2 (ja) | 2008-09-29 | 2009-09-28 | 単結晶シンチレータ材料およびその製造方法、放射線検出器、並びにpet装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPWO2010035500A1 JPWO2010035500A1 (ja) | 2012-02-16 |
JP5454477B2 true JP5454477B2 (ja) | 2014-03-26 |
Family
ID=42059512
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2010530745A Expired - Fee Related JP5454477B2 (ja) | 2008-09-29 | 2009-09-28 | 単結晶シンチレータ材料およびその製造方法、放射線検出器、並びにpet装置 |
Country Status (5)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US8455833B2 (ja) |
EP (1) | EP2336398A4 (ja) |
JP (1) | JP5454477B2 (ja) |
CN (1) | CN102165107B (ja) |
WO (1) | WO2010035500A1 (ja) |
Families Citing this family (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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CN102251273A (zh) * | 2011-07-18 | 2011-11-23 | 福建福晶科技股份有限公司 | 一种金红石晶体的熔盐生长方法 |
US10809393B2 (en) * | 2015-04-23 | 2020-10-20 | Fermi Research Alliance, Llc | Monocrystal-based microchannel plate image intensifier |
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Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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JP3877162B2 (ja) | 2002-02-05 | 2007-02-07 | 日立化成工業株式会社 | Gso単結晶及びpet用シンチレータ |
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JP2005298678A (ja) | 2004-04-12 | 2005-10-27 | Fuji Photo Film Co Ltd | セリウム付活ホウ酸ルテチウム系輝尽性蛍光体、放射線像変換パネルおよび放射線画像記録再生方法 |
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-
2009
- 2009-09-28 CN CN200980138423.7A patent/CN102165107B/zh not_active Expired - Fee Related
- 2009-09-28 JP JP2010530745A patent/JP5454477B2/ja not_active Expired - Fee Related
- 2009-09-28 WO PCT/JP2009/004939 patent/WO2010035500A1/ja active Application Filing
- 2009-09-28 EP EP09815919.7A patent/EP2336398A4/en not_active Withdrawn
- 2009-09-28 US US13/120,217 patent/US8455833B2/en not_active Expired - Fee Related
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Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPWO2010035500A1 (ja) | 2012-02-16 |
EP2336398A4 (en) | 2014-01-08 |
CN102165107A (zh) | 2011-08-24 |
US8455833B2 (en) | 2013-06-04 |
WO2010035500A1 (ja) | 2010-04-01 |
EP2336398A1 (en) | 2011-06-22 |
US20110176657A1 (en) | 2011-07-21 |
CN102165107B (zh) | 2014-04-16 |
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Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
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|
A131 | Notification of reasons for refusal |
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A521 | Request for written amendment filed |
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TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
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|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
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LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |