JP5454073B2 - 半導体モジュールとその制御方法 - Google Patents
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本発明は、上述した実情に鑑みて創作されたものであり、ダイオードの定常損失を増大させることなく、ダイオードの逆回復電流を抑制することができる技術を提供する。
ここで、Vg:トレンチゲート電極109に印加される負電圧(ゲート電圧)、q:ドリフト領域の単位体積当たりの電荷量、Na:ドリフト領域の不純物濃度、εs:半導体の誘電率、である。
図3および図4は、図2の回路図の一部であって、半導体装置1Aおよび1Bを示している。図5は、半導体装置1Bの断面を模式的に示す図であって、図6および図7は、半導体装置1Aの断面を模式的に示す図である。図8は、制御手段20が行う半導体モジュール3の制御の一例を示す図であって、横軸は時間tであり、縦軸は、図の上から順に、GQ1端子に印加される電圧VGE(Q1)、GQ2端子に印加される電圧VGE(Q2)、半導体装置1BのIGBT32に流れる電流IQ2、半導体装置1Aのダイオード33に流れる電流ID1、ダイオード33の順方向電圧VD1を示している。
図8に示すように、時間t1において、制御手段20は、GQ1端子およびGD1端子をオフ状態とし、GQ2端子およびGD2端子に正電圧を印加する制御を行う。これによって、IGBT32に電流iaが流れる。
次に、時間t2〜t3において、制御手段20は、GQ1端子およびGD1端子に負電圧を印加し、GQ2端子およびGD2端子をオフ状態とする制御を行う。これによって、ダイオード33に還流電流としての電流ibが流れる。
時間t4においては、GQ1端子およびGD1端子には負電圧が印加されており、GQ2端子およびGD2端子はオフ状態なっている。次に、時間t5において、制御手段20は、GQ1端子およびGD1端子に印加した負電圧を解除してオフ状態とし、GQ2端子およびGD2端子に正電圧を印加してオン状態とする制御を行う。これによって、IGBT32に電流iaが流れる。
3 半導体モジュール
5 IGBT素子領域
7 ダイオード素子領域
11 半導体基板
20 制御手段
21、22 駆動回路
23、24 負電圧発生回路
25 CPU
26、27 電源
31、32 IGBT
33、34 ダイオード
101 コレクタ領域
102 カソード領域
102 アノード領域
103 ドリフト領域
104 ボディ領域
105 エミッタ領域
106 ボディコンタクト領域
107 トレンチ
108 ゲート絶縁膜
109 トレンチゲート電極
121 裏面電極
123 表面電極
131 キャリア減衰領域
141 空乏層
211、221 共通端子
212〜214、222〜224 端子
Claims (4)
- 同一半導体基板に、IGBT素子領域とダイオード素子領域が形成されており、
IGBT素子領域は、コレクタ領域と、ドリフト領域と、ボディ領域と、エミッタ領域とが積層されており、エミッタ領域とドリフト領域とを分離するボディ領域を貫通して伸びるトレンチゲート電極とを含んでおり、
ダイオード素子領域は、カソード領域と、ドリフト領域と、ボディ領域と、アノード領域とが積層されており、アノード領域とドリフト領域とを分離するボディ領域を貫通して伸びるトレンチゲート電極とを含んでおり、
トレンチゲート電極の下方周辺のドリフト領域にはキャリアを減衰させるキャリア減衰領域が形成されている半導体装置を複数備えている半導体モジュールの駆動方法であって、
複数の半導体装置のうちのいずれかの半導体装置のIGBT素子領域をターンオフし、その他の半導体装置のダイオード素子領域に還流電流が流れる、IGBTターンオフ時には、
ターンオフするIGBT素子領域を含む半導体装置のトレンチゲート電極に印加する第1極性の電圧をオン状態からオフ状態に切り換え、
還流電流が流れるダイオード素子領域を含む半導体装置のトレンチゲート電極に印加する第2極性の電圧をオフ状態からオン状態に切り換え、キャリア減衰領域を空乏化することを特徴とする半導体モジュールの駆動方法。 - 前記IGBTターンオフ時には、還流電流が流れるダイオード素子領域を含む半導体装置のトレンチ電極に第2極性の電圧を印加し、キャリア減衰領域全体を空乏化することを特徴とする請求項1の半導体モジュールの駆動方法。
- 同一半導体基板に、IGBT素子領域とダイオード素子領域が形成されており、
IGBT素子領域は、コレクタ領域と、ドリフト領域と、ボディ領域と、エミッタ領域とが積層されており、エミッタ領域とドリフト領域とを分離するボディ領域を貫通して伸びるトレンチゲート電極とを含んでおり、
ダイオード素子領域は、カソード領域と、ドリフト領域と、ボディ領域と、アノード領域とが積層されており、アノード領域とドリフト領域とを分離するボディ領域を貫通して伸びるトレンチゲート電極とを含んでおり、
トレンチゲート電極の下方周辺のドリフト領域にはキャリアを減衰させるキャリア減衰領域が形成されている複数の半導体装置と、
複数の半導体装置を制御する制御手段とを備えている半導体モジュールであって、
制御手段は、複数の半導体装置のうちのいずれかの半導体装置のIGBT素子領域をターンオフし、その他の半導体装置のダイオード素子領域に還流電流が流れる、IGBTターンオフ時には、
ターンオフするIGBT素子領域を含む半導体装置のトレンチゲート電極に印加する第1極性の電圧をオン状態からオフ状態に切り換え、
還流電流が流れるダイオード素子領域を含む半導体装置のトレンチゲート電極に印加する第2極性の電圧をオフ状態からオン状態に切り換え、
キャリア減衰領域は、制御手段が前記第2極性の電圧を印加することによって空乏化する領域内に形成されていることを特徴とする半導体モジュール。 - キャリア減衰領域は、前記IGBTターンオフ時に、制御手段が前記第2極性の電圧を印加することによって空乏化する領域内にのみ形成されていることを特徴とする請求項3の半導体モジュール。
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