JP5450458B2 - 光学的情報記録媒体、記録方法、再生方法および記録再生装置 - Google Patents

光学的情報記録媒体、記録方法、再生方法および記録再生装置 Download PDF

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Description

本発明は、レーザー光などの光ビームにより情報を記録・再生する光学的情報記録媒体、光学的情報記録媒体の記録方法、再生方法および記録再生装置に関する。
近年、レーザー光の照射によって情報を記録することのできる光学的情報記録媒体が広く研究開発・商品化されている。このような光学的情報記録媒体には、情報が記録可能であり、すでに記録された情報を消去あるいは書換えることが可能な書換型と、情報が記録可能であるが、記録された情報を消去したり、新しい情報で書換えたりすることはできない追記型とがある。
追記型の光学的情報記録媒体の1つとして、例えば、酸化物を母材とし、金属元素等が分散した材料、より具体的には、TeとTeO2との混合物であるTeOx(0<x<2)を含む情報記録膜を情報層に備えた光学的情報記録媒体が知られている(例えば、特許文献1参照)。TeOxを含む記録膜は、レーザーアニール等の初期化処理を施すことなく記録膜を形成後、非晶相の状態のまま使用される。つまり、TeOxを含む記録膜を形成後、熱処理することなく非晶相の状態で、情報を記録することができる。このため、光学的情報記録媒体の製造が簡単であり、低コストで製造できるという利点がある。
このような光学的情報記録媒体に所定の強度よりも大きいレーザー光を照射すると、レーザーが照射された領域において、記録膜が非晶相から結晶相に変えられ、記録マークが形成される。例えば、記録すべき情報によって変調された信号に基づく長さで表わされるスペースおよびマークの組み合わせを記録層のトラック上に形成する。TeOxを含む記録膜における非晶相と結晶相とでは反射率が大きく異なるため、記録膜に相変化を生じさせない程度の強度を有するレーザー光で、情報が記録されたトラックを走査すれば、スペースおよびマークに対応した強度変化を有する反射光を得ることができ、光学的情報記録媒体に記録された情報を再生することができる。TeOxを含む記録膜における非晶相から結晶相への変化は不可逆過程であるため、情報の上書きによる修正や消去はできない。
近年、より大記録容量の光学的情報記録媒体が求められている。光学的情報記録媒体の記録容量を大きくする方法としては、レーザー光の波長を短くする、または、これを集光する対物レンズの開口数を大きくすることにより、レーザー光のスポット径を小さくし、記録面密度を向上させるという方法が一般的に用いられている。また、光学的情報記録媒体あたりの記録面積を増大させるために、複数の情報層を積層させた多層構造の光学的情報記録媒体も近年実用化されている。このような高密度記録や多層記録に対応するため、TeOxにPd、Au等を添加した記録材料の組成や、記録膜の厚さを調整した光学的情報記録媒体も提案されている(例えば、特許文献2参照)。また、光学的情報記録媒体の記録密度を高めた場合、反射光の強度が低下したり、マーク間の熱干渉が問題となる。これらの課題を解決するため、反射膜を記録膜に隣接して設けることにより、光学的干渉効果を利用して記録膜の光吸収率を高めて記録感度を向上させるともに、記録膜で生じた熱を反射膜へ放散し、マーク間の熱干渉を抑制することが提案されている(例えば、特許文献3参照)。
特開昭50−46317号公報 国際公開第98/09823号 特開2002−251778号公報
上述のような高密度記録、特に青紫色レーザーを用いた記録を行う場合、レーザー加熱による熱負荷によって、記録膜が損傷を受けやすい。その結果、再生信号にノイズが多く含まれるなど、再生信号の品質が悪化する可能性がある。また、記録時に受けた熱負荷が、直ちに再生信号の品質を悪化させるものでない場合でも、光学的情報記録媒体を長期間保存することによって、熱負荷による影響が顕在化し、再生信号が劣化することも考えられる。
上述したように、近年、光学的情報記録媒体の記録容量をさら増大させることが求められている。また、高倍速で情報を記録することのできる光学的情報記録媒体が求められている。このためには、記録密度を高め、上限記録線速度を大きくし、情報層の層数を増加させることが必要となる。これに伴い、光学的情報記録媒体の記録膜が受ける熱負荷はさらに増大する傾向にある。したがって、この熱負荷を緩和し、保存信頼性を高めることがますます重要となっている。
本発明は、このような課題を解決し、高密度・高線速度記録における再生信号の品質が良好で、保存信頼性の高い光学的情報記録媒体を提供することを目的とするものである。
本発明の光学的情報記録媒体は、基板と、カバー層と、前記基板および前記カバー層に挟まれた第1情報層とを備え、前記カバー層の側から光ビームを照射することによって、前記第1情報層に情報を記録し、前記第1情報層に記録された情報を再生する光学的情報記録媒体であって、前記第1情報層は、記録膜と、前記記録膜と前記カバー層との間に配置された保護膜とを含み、前記カバー層と前記記録膜との間の距離が0.5nm以上12nm以下である。
カバー層と記録膜との間の距離が0.5nm以上12nm以下であることにより、記録膜を熱的損傷から保護し、また、保護膜の剥離を抑制することができ、高密度・高線速度記録における再生信号の品質が良好で、保存信頼性の高い光学的情報記録媒体を実現することができる。
ある好ましい実施形態において、光学的情報記録媒体は、前記基板と前記第1情報層との間に設けられた第2情報層をさらに備える。
これにより、情報層が積層された記録容量の大きな光学的情報記録媒体においても、高密度・高線速度記録における再生信号の品質が良好で、保存信頼性の高い光学的情報記録媒体を実現することができる。
ある好ましい実施形態において、前記記録膜は、追記型の記録材料を含む。
ある好ましい実施形態において、前記追記型の記録材料は、Cr−O、Zn−O、Ga−O、In−O、Sn−O、Sb−O、Bi−OおよびTe−Oからなる群から選ばれる少なくとも1つを含む。
ある好ましい実施形態において、光学的情報記録媒体は、前記第1情報層は前記記録膜と前記基板との間に設けられた反射膜をさらに有する。
ある好ましい実施形態において、前記第1情報層は、前記記録膜と前記反射膜との間に設けられた中間膜を有する。
ある好ましい実施形態において、前記保護膜は、Zn−O、Te−OおよびSn−Oからなる群から選ばれる少なくとも1つを含み、前記保護膜において、酸素以外の全原子に対するZn、TeおよびSnの合計の割合が50at%以上である。
ある好ましい実施形態において、前記保護膜は、Zn−O、Te−OおよびSn−Oからなる群から選ばれる少なくとも1つと、Cr−O、Sb−O、Bi−O、In−OおよびGa−Oからなる群から選ばれる少なくとも1つをそれぞれ含み、前記保護膜において、酸素以外の全原子に対する、Zn、TeおよびSnの合計の割合が33at%以上96at%以下であり、酸素以外の全原子に対する、Cr、Sb、Bi、InおよびGaの合計の割合が4at%以上67at%以下である。
ある好ましい実施形態において、前記第1情報層の溝のピッチが1μm以下である。
本発明の光学的情報記録媒体の記録方法は、上記いずれかに記載の光学的情報記録媒体に、波長450nm以下の光ビームで情報を記録する。
本発明の光学的情報記録媒体の再生方法は、上記いずれかに記載の光学的情報記録媒体に記録された情報を波長450nm以下の光ビームで再生する。
本発明の記録再生装置は、上記いずれかに記載の光学的情報記録媒体に、波長450nm以下の光ビームで情報を記録すること、および、光学的情報記録媒体に録された情報を波長450nm以下の光ビームで再生を行うことの少なくとも一方を行う。
本発明によれば、カバー層と記録膜との間の距離が0.5nm以上12nm以下であることにより、記録膜を熱的損傷から保護し、また、保護膜の剥離を抑制することができ、高密度・高線速度記録における再生信号の品質が良好で、保存信頼性の高い光学的情報記録媒体を実現することができる。
本発明による光学的情報記録媒体の一実施形態を示す模式的な部分断面図である。 本発明による光学的情報記録媒体の他の実施形態を示す模式的な部分断面図である。 本発明による光学的情報記録媒体の他の実施形態を示す模式的な部分断面図である。 本発明による記録再生装置の一実施形態における主要部を示す概略図である。
以下、本発明による光学的情報記録媒体の実施形態を説明する。図1は、本発明による光学的情報記録媒体の実施形態を示す模式的な部分断面図である。図1に示す光学的情報記録媒体は、基板1と、カバー層5と、基板1およびカバー層5にはさまれた第1情報層2とを備える。第1情報層2は、少なくとも記録膜3および保護膜4を含む。保護膜4は、記録膜3とカバー層5との間に配置される。
図1に示すように、レーザー光などの光ビーム6を対物レンズ7で集光し、集光された光ビーム6をカバー層5側から第1情報層2に照射することにより、第1情報層2への情報の記録、または、第1情報層2に記録された情報の再生が行われる。
図2に示すように、第1情報層2は、記録膜3と基板1との間に設けられた反射膜8をさらに有していてもよい。また、記録膜3と反射膜8との間に設けられた中間膜9を有していてもよい。
光学的情報記録媒体は2つ以上の情報層を備えていてもよい。具体的には、図3に示すように、光学的情報記録媒体は基板1と第1情報層2との間に設けられた第2情報層11をさらに備えていてもよい。この場合、第1情報層2と第2情報層11との間には分離層10が設けられていることが好ましい。また、3つ以上の情報記録層を光学的情報記録媒体は備えていてもよい。光学的情報記録媒体が、情報層を複数備える場合、複数の情報層は、基板1に近い側からL0層、L1層・・・と順に呼ばれることがある。
基板1は、第1情報層2や第2情報層11を支持する。基板1の材料としては、ポリカーボネイト樹脂、ポリメチルメタクリレート樹脂、ポリオレフィン樹脂、ノルボルネン系樹脂、紫外線硬化性樹脂、あるいはこれらを適宜組み合わせたもの等を用いることができる。また、基板1の厚さは特に限定されないが、0.01〜3.0mm程度のものを用いることができる。基板1の第1情報層2または第2情報層11に接する表面上には、スパイラル状の溝が形成されている。溝のピッチは、記録密度を高めるために、1μm以下であることが好ましい。この溝は、第1情報層2または第2情報層11に形成される溝に対応する。
カバー層5は、情報層2に傷やスクラッチなどが生じるのを防止するとともに、情報層2が大気に曝され、酸化されるのを防止する。また、光学的情報媒体において、カバー層5の光ビームが入射する表面から第1情報層2までの距離を調整する。カバー層5の材料としては、ポリカーボネイト樹脂、ポリメチルメタクリレート樹脂、ポリオレフィン樹脂、ノルボルネン系樹脂、紫外線硬化性樹脂、ガラス、あるいはこれらを適宜組み合わせたもの等を用いることができる。また、カバー層5の厚さは特に限定されないが、0.01〜1.5mm程度であることが好ましい。例えば対物レンズ7の開口数NAが0.8〜0.9程度である場合には、カバー層5の厚さは、0.03〜0.3mm程度であることが好ましい。カバー層5が薄い場合、例えば、カバー層5の厚さが0.3mm以下である場合には、情報層2の上に、上述の材料によって形成されたシートを貼り付けるか、紫外線硬化性樹脂をスピンコートにより塗布し、紫外線照射により硬化させてカバー層5を形成する。
2つ以上の情報層を光学的情報記録媒体が備える場合、2つの情報層の間に分離層10が設けられる。分離層10は2つの情報層の間隔を調整する。第1情報層3のトラックのために、分離層10の第1情報層2側の表面にスパイラル状の溝が形成されていてもよい。分離層10の材料としては、紫外線硬化性樹脂等を用いることができる。分離層10の厚さは、第1情報層2および第2情報層11のいずれか1層を再生する際、他層からのクロストークが小さくなるように、少なくとも対物レンズ7の開口数NAとレーザー光6の波長λにより決定される焦点深度以上であることが好ましい。また、全ての情報層に対物レンズ7が光ビーム6を集光させることができるように、分離層10によって各情報層の位置が調整されていることが好ましい。例えば、分離層10の厚さは、λ=405nm、NA=0.85の場合は5μm以上50μm以下であること好ましい。ただし、層間のクロストークを低減できる光学系や技術が開発されれば分離層10の厚さは5μmより薄くできる可能性もある。
次に、第1情報層2について詳細に説明する。上述したように第1情報層2は少なくとも記録膜3および保護膜4を含む。記録膜3は、光ビームの照射によって非晶相から結晶相に相変化を起こす追記型の記録材料を含む。具体的には、追記型の記録材料は、Cr−O、Zn−O、Ga−O、In−O、Sn−O、Sb−O、Bi−OおよびTe−Oからなる群から選ばれる少なくとも1つを母材として含む。ここで、Cr−O、Zn−Oなどは、それぞれクロム酸化物(CrOx)亜鉛酸化物(ZnOx)を意味している。これらの材料を含むことにより、高密度・高線速度記録において、所望の形状の記録マークを記録膜3に形成することができ、形成した記録マークに光ビームを照射した場合、良好な品質の再生信号を得ることができる。記録膜3には、これらの母材に加えて、昇温により高速で結晶化して光学変化を生じさせる目的で、添加物として、Te、Sb、Bi、Ge、Sn、Ga、In、Pd、Au、Pt、Ni、AgおよびCuからなる群から選ばれる少なくとも1つを追記型の記録材料に添加してもよい。また、追記型の記録材料の母材としてTe−Oを用いる場合には、添加物としてTe、Al、Si、Ti、V、Cr、Mn、Fe、Co、Ni、Cu、Zn、Ga、Ge、Zr、Nb、Mo、Ru、Rh、Pd、Ag、In、Sn、Sb、Hf、Ta、W、Re、Os、Ir、Pt、AuおよびBiからなる群から選ばれる少なくとも1つの元素を追記型の記録材料に添加することができる。
記録膜3は、上記の母材および添加物を含む主成分を80at%以上、より好ましくは90at%以上含むことが好ましい。さらに、記録膜3は、上記主成分以外に、結晶化速度、熱伝導率または光学定数等の調整、あるいは耐熱性または耐湿性の向上等の目的で、他の酸化物、窒化物、フッ化物、炭化物、硫化物、ホウ化物、O、N、F、C、S、B等の非金属元素からなる群から選ばれる少なくとも1つを必要に応じて記録膜2全体の10at%以内、より好ましくは5at%以内の割合での範囲で含んでいてもよい。
記録膜3の膜厚は、2nm以上70nm以下であることが好ましく、4nm以上40nm以下であることがより好ましい。記録膜3が2nmより薄い場合、十分な反射率および反射率変化が得られないため、再生信号のC/N比(搬送波対雑音比)が小さくなる。また、70nmより厚い場合、記録膜3の薄膜面内の熱拡散が相対的に大きくなるため、記録マークの輪郭が不鮮明となり、高密度記録において再生信号のC/N比が小さくなってしまう。
記録膜3には、基板1に形成された溝に対応するスパイラル状の溝が形成されている。溝と溝との間にはスパイラル状の凸部が形成される。このため、記録膜3に形成される溝のピッチも1μm以下であることが好ましい。溝および凸部はそれぞれグルーブおよびランドと呼ばれる。記録方式に応じて、グルーブまたは/およびランドが情報を記録するためのトラックとして用いられる。
保護膜4は、主として記録膜3を湿気から保護するとともに、記録膜が光ビームによって高熱となった場合に、記録膜3を熱的損傷から保護し、記録膜3の熱により、カバー層5が変形するのを抑制する。このために、保護膜4は耐熱性の高い材料によって構成されていることが好ましい。具体的には、保護膜4は、無機材料によって構成されていることが好ましく、無機誘電体材料によって構成されていることがより好ましい。より具体的には、保護膜4は、Zn−O、Te−OおよびSn−Oからなる群から選ばれる少なくとも1つを含む。保護膜4において、酸素以外の全原子に対するZn、TeおよびSnの合計の割合が50at%以上であることが好ましい。あるいは、前記保護膜4は、Zn−O、Te−OおよびSn−Oからなる群から選ばれる少なくとも1つと、Cr−O、Sb−O、Bi−O、In−OおよびGa−Oからなる群から選ばれる少なくとも1つをそれぞれ含む。この場合、保護膜4において、酸素以外の全原子に対する、Zn、TeおよびSnの合計の割合が33at%以上96at%以下であり、酸素以外の全原子に対する、Cr、Sb、Bi、InおよびGaの合計の割合が4at%以上67at%以下であることが好ましい。これにより、高密度記録において高い保存信頼性が得られる。また、上記以外の材料成分を、本来の機能を損なわない程度の10at%以内の範囲であれば追加することもできる。また、記録膜3の表面を酸化させることによって保護膜4を構成してもよい。
具体的には、保護膜4の厚さは、0.5nm以上12nm以下であることが好ましく、1nm以上5nm以下であることがより好ましい。上述したように、保護膜4は、主として記録膜3の防湿、記録膜3の熱的損傷からの保護、および、カバー層5の変形抑制という機能を果たすことが重要である。このために、従来、光学的情報記録媒体において、保護膜は厚いほうがよいと考えられていた。例えば、従来のDVDでは一般的に保護膜は100nm以上であり、従来のBDにおいても、保護膜の厚さは20nmであった。しかし、本願発明者の詳細な検討によれば、保護膜の厚さが従来よりはるかに薄い0.5nm以上12nm以下であっても、上述した機能を十分に果たすことが分かった。一方、保護膜4の厚さが従来のように数十nm以上である場合、光学的情報記録媒体を長期間保管した場合、あるいは、高温高湿で保管した場合において、保護膜4に膜応力が発生し、記録膜3と保護膜4との間で剥がれが生じ、剥がれた部分でマークの境界が不鮮明となったり、保護膜に凹凸が生じなどにより、再生信号の品質が低下すると考えられることが分かった。
図1から図3に示す光学的情報記録媒体では、カバー層5と記録膜3との間には保護膜4だけしか存在しない。しかし、保護膜4の機能の1つであるカバー層5の変形抑制は、記録膜3とカバー層5との間に他の膜が形成されている場、他の膜の影響を受ける。このため、第1情報層2において、記録膜3とカバー層5との間に保護膜4以外の膜が設けられている場合も考慮すれば、カバー層5と記録膜3との間の距離が0.5nm以上12nm以下であることが好ましく、1nm以上5nm以下であることがより好ましい。
上述した材料で保護膜4が構成され、上述した厚さを備えていることにより、保護膜4は、(1)記録膜3を熱的損傷から保護すること、(2)記録膜3等の隣接する材料との密着性が良く、高温・高湿条件でも剥離、腐食および拡散等を生じないこと、(3)透明性が高く適度な屈折率を有しており、記録膜3の光学変化をエンハンスすること、(4)それ自身熱的に安定で、高温高湿においても粒径や組成分布が変動しないことといった条件を満たすことができる。
その結果、本実施形態の光学的情報記録媒体は、高密度・高線速度記録においても高い保存信頼性を備えている。従来の光学的情報記録媒体では、例えば4m/s程度の線速度で情報を記録した場合には、高温高湿度条件下(例えば温度85℃、相対湿度85%)での保管によって、情報の劣化が生じなくても、その2倍以上の線速度で記録を行った場合は、情報の劣化が見られることがあった。これは、線速度を高める場合、より強いパワーの光ビームを用いて情報の記録を行う必要があり、記録膜への熱負荷がより大きくなるため、情報が劣化すると考えられる。
これに対し、本実施形態の光学的情報記録媒体は、上述したようにカバー層5と記録膜3との間の距離を一定範囲内に保つことによって、より厳しい高線速度の記録においても情報の劣化を抑えることができる。また、図1に示すような、情報層を1つ備える光学的情報記録媒体に比べ、図3に示すような複数の情報層を備える光学的情報記録媒体では、第2情報層に対する記録再生を行うための光ビームは、第1情報層を透過する必要がある。このため、第1情報層2の記録膜3や反射膜8の膜厚は小さくする必要がある。この場合、高温および/または高湿条件下で保管した場合の情報の劣化が進行しやすい。本実施形態の光学的情報記録媒体は、情報層を複数備える場合に特に高い保存信頼性を発揮することができる。
第1情報層2において、反射膜8は、光ビーム6を反射する働きを有する。反射膜8の材料としては、Ag、Au、Al、Cu等の金属またはこれらの金属を含む合金を用いることができる。好ましくは、反射率の高いAg合金を用いて販社膜8が構成されている。これにより、高密度・高線速度記録において、より良好な再生信号品質が得られる。Agへの添加元素としては、特に限定されないが、例えば、少量で凝集防止および粒径微細化の効果が高いPd、Pt、Ni、Ru、Au、Cu、Zn、Al、Ga、In、Si、Ge、Sn、Sb、Bi、Ca、Mg、Y、Nd、Sm、Ti、Cr、O、N、F、C、S、B等を反射膜8の材料に添加することができる。特に、Pd、Cu、Bi、Nd、YおよびGaからなる群から選ばれる1つを用いることによって、高い凝集防止および粒径微細化の効果を得ることができる。このような効果を発揮しつつ、Agの高い熱伝導率や反射率を損なわないために、添加元素の含有量は、反射膜5全体に対して0.01at%以上10at%以下であることが好ましく、0.05at%以上5at%以下であることがより好ましい。
中間膜9は、記録膜3から反射膜8への放熱速度を緩和・調整し、さらには、光学的干渉効果によって情報層全体の光学特性を調整する働きをする。中間膜9の材料としては、例えば、Y、Ce、Ti、Zr、Nb、Ta、Co、Zn、Al、Si、Ge、Sn、Pb、Sb、Bi、Te等の酸化物、Ti、Zr、Nb、Ta、Cr、Mo、W、B、Al、Ga、In、Si、Ge、Sn、Pb等の窒化物、Ti、Zr、Nb、Ta、Cr、Mo、W、Si等の炭化物、Zn、Cd等の硫化物、セレン化物またはテルル化物、Mg、Ca、La等の希土類等のフッ化物、C、Si、Ge等の単体、あるいはこれらの混合物を用いることができる。これにより、高密度・高線速度記録において、さらに良好な再生信号品質が得られる。ただし、反射膜8がAgまたはAg合金を含む場合、中間膜9の材料として硫化物を用いると反射膜8が腐食する可能性がある。このため、反射膜8がAgまたはAg合金を含む場合には、中間膜9は硫化物を含まない材料によって構成されていることが好ましい。また、中間膜9は保護膜4と同じ材料であってもよい。中間膜9の膜厚は2nm以上40nm以下であることが好ましく、さらには5nm以上20nm以下であることがより好ましい。
次に本実施形態の光学的情報記録媒体の製造方法を説明する。本実施形態の光学的情報記録媒体は、第1情報層2、または、第1情報層2、分離層10および第2情報層11をカバー層5上に順次形成し、その後情報層や分離層10が形成されたカバー層5に基板1を形成または貼り合わせることによって製造してもよい。あるいは、逆に基板1上に第1情報層2または第2情報層11、分離層10および第1情報層2を順次形成し、カバー層5を形成または貼り合わせることによって、本実施形態の光学的情報記録媒体を製造してもよい。特に後者は、例えば対物レンズ7の開口数NAが0.8以上と大きく、基板1の厚さ0.3mm以下である場合に適している。その場合、レーザー光6の案内用の溝であるグルーブやアドレス信号等の凹凸パターンは、基板1および分離層10の表面上に形成、すなわちスタンパ等のあらかじめ所望の凹凸パターンが形成されたものから転写される必要がある。その際、特に分離層10のようにその層厚が薄く、通常用いられているインジェクション法が困難な場合は、2P法(photo-polymerization法)を用いることができる。
第1情報層2および第2情報層11の各薄膜は、例えば真空蒸着法、スパッタリング法、イオンプレーティング法、CVD(Chemical Vapor Deposition)法、MBE(Molecular Beam Epitaxy)法等の気相薄膜堆積法によって形成することができる。スパッタ法、真空蒸着法、MBE法などを用いる場合、所望の組成の薄膜を形成するために、形成する薄膜の組成と同じ組成からなるターゲットや蒸着源を用いればよい。
以下の実施例においては各膜のターゲット材料組成と実際に形成された薄膜の組成が略同等であることを確認した。ただし、成膜装置、成膜条件またはターゲットの製造方法等によっては、ターゲットの材料組成と実際に形成された薄膜の組成が異なる場合もある。そのような場合には、あらかじめ組成のずれを補正する補正係数を経験則から求め、所望の組成の薄膜が得られるようにターゲット材料組成を決めることが好ましい。各薄膜の厚さは、膜形成時間や膜成長速度を調整することによって制御することができる。
各薄膜を構成する材料、つまり、構成元素やその組成比は、オージェ電子分光法、X線光電子分光法または2次イオン質量分析法等の方法(例えば応用物理学会/薄膜・表面物理分科学会編「薄膜作製ハンドブック」共立出版株式会社、1991年等)により調べることが可能である。
次に本発明による光学的情報記録媒体の記録方法、再生方法および記録再生装置の実施形態を説明する。
図4は、本発明の光学的情報記録媒体に、情報を記録すること、および、光学的情報記録媒体に録された情報の再生を行うことの少なくとも一方を行う記録再生装置の最小限必要な構成の一例を概略的に示している。
図4に示す記録再生装置は、光源12と、対物レンズ7と、モーター14とハーフミラー6と、光検出器16とを備える。光源12は高記録密度を実現するため、波長の短い光ビーム6を出射することが好ましく、450nm以下の波長の光ビームを出射することが好ましい。光源12であるレーザーダイオードから出射した光ビーム6は、ハーフミラー6を透過し、対物レンズ7に入射する。対物レンズ7は光ビーム6を集光し、所定の大きさのビームスポットを、モーター14のターンテーブルに載置された光学的情報記録媒体15の第1情報層2の記録膜3(図1)上に形成する。光学的情報記録媒体15には上述した本実施系形態の光学的情報記録媒体を用いる。
情報を記録する場合には、記録すべき情報によって変調された信号によって光源を駆動することにより、変調された光ビーム6が光学的情報記録媒体15の記録膜3を照射する。モーター14によって光学的情報記録媒体15を回転させることにより、光学的情報記録媒体15のトラックを光ビーム6が走査し、記録マークを形成する。
光学的情報記録媒体15に記録された情報を再生する場合、記録時よりもパワーの弱い光ビーム6で、光学的情報記録媒体15のトラックを走査し、反射光をハーフミラー13で検出器16へ反射させる。検出器16は反射光を電気信号に変換し、電気信号を処理することにより、光学的情報記録媒体15に記録された情報を再生信号として得ることができる。
本実施形態の記録再生装置は、特に、高線記録速度(高倍速)、高記録密度で、光学的情報記録媒体15に情報を記録する場合に好適に用いられる。
以下、種々の材料および厚さの保護膜を含む光学的情報記録媒体を作製し、光学的情報記録媒体を評価した実施例により、本発明をさらに具体的に説明する。以下の実施例は本発明を限定するものではない。
(実施例1)
情報層を1つ含む光学的情報記録媒体としてディスク1から22を作製した。基板として、ポリカーボネイト樹脂からなり、直径約12cm、厚さ約1.1mmで、溝ピッチ0.32μm、溝深さ約20nmのスパイラル状の溝があらかじめ形成されたものを用いた。この基板の溝が形成された表面上に、第1情報層として、Ag99Bi1からなる膜厚60nmの反射膜、(ZnO)90(Cr2310からなる膜厚20nmの中間膜、Te3654Pd10からなる膜厚25nmの記録膜、種々の材料および種々の厚さの保護膜をそれぞれスパッタリング法により、この順で形成した。この第1情報層の表面上に、紫外線硬化樹脂を用いて厚さ100μmのカバー層を形成した。
保護膜として、表1に示す材料および膜厚のものを用い、ディスク1〜22とした。
Figure 0005450458
上記各ディスクのグルーブ、すなわちスパイラル状の溝のレーザー光入射側から見て手前に凸になっている部分に対し、波長405nm、レンズ開口数0.85の光学系を用い、線速度4.9m/sおよび9.8m/sで回転させながら、レーザー光を照射し、それぞれ周波数16.5MHzおよび33.0MHzの単一信号を記録した。信号を記録する際にはパワーレベルがP1で幅がそれぞれ6nsおよび3nsの単一パルスを用い、信号を記録しない部分および再生時のパワーP2は全て0.7mWとした。
この条件で、未記録のトラックに信号を1回記録し、単一信号のC/N比をスペクトラムアナライザーで測定した。P1を任意に変化させて測定し、振幅が最大値より3dB低くなるパワーの1.25倍の値を設定パワーとした。各ディスクの設定パワーにおけるC/N比(加速前C/N比)を測定した後に、保存信頼性を確認するために、各ディスクを温度85℃、相対湿度85%の条件で200時間保持した後に、再度C/N比(加速後C/N比)を測定した。結果を表1に示す。
表1に示すとおり、保護膜の厚さが0.2nmのディスク1、13では、いずれの線速度においても加速後のC/N比の低下が大きく、保存信頼性が不十分であった。また、保護膜の厚さが15nmおよび20nmである、ディスク8、9、20および21では、高線速度(9.8m/s)での加速後のC/N比の低下が大きく、保存信頼性が不十分であった。これに対し、ディスク2、3、4、5、6、7、10、11、12、14、15、16、17、18、19および22はいずれの線速度で記録した場合でも加速後のC/N比の低下が小さく、良好な保存信頼性を示した。以上より、カバー層と記録膜との距離が0.5nm〜12nmであれば、良好な保存信頼性を確保することができることが分かった。
(実施例2)
情報層を2つ含む光学的情報記録媒体としてディスク23から44を作製した。基板として、ポリカーボネイト樹脂からなり、直径約12cm、厚さ約1.1mmで、溝ピッチ0.32μm、溝深さ約20nmのスパイラル状の溝があらかじめ形成されたものを用いた。この基板の溝が形成された表面上に、第2情報層として、Ag99Bi1からなる膜厚60nmの反射膜、(ZnO)90(Cr2310からなる膜厚20nmの中間膜、Te3654Pd10からなる膜厚25nmの記録膜、(ZnO)90(Cr2310からなる膜厚3nmの保護膜の各膜をスパッタリング法によりこの順に積層した。この第2情報層の表面上に、紫外線硬化性樹脂を用いて2P法により保護基板と同様の溝パターンを転写し、厚さ約25μmの分離層を形成した。この分離層の表面上に、第1情報層として、Ag99Bi1からなる膜厚15nmの反射膜、(ZnO)90(Cr2310からなる膜厚20nmの中間膜、Te3654Pd10からなる膜厚15nmの記録膜、種々の材料および種々の厚さの保護膜の保護膜をそれぞれスパッタリング法により、こので形成した。この第1情報層の表面上に、紫外線硬化樹脂を用いて厚さ75μmのカバー層を形成した。
保護膜として、表2に示す材料および膜厚のものを用い、ディスク23〜44とした。
Figure 0005450458
実施例1と同様、上記各ディスクの第1情報層および第2情報層のグルーブ、すなわちスパイラル状の溝のレーザー光入射側から見て手前に凸になっている部分に対し、波長405nm、レンズ開口数0.85の光学系を用い、線速度4.9m/sおよび9.8m/sで回転させながら、レーザー光を照射してそれぞれ周波数16.5MHzおよび33.0MHzの単一信号を記録した。信号を記録する際にはパワーレベルがP1で幅がそれぞれ6nsおよび3nsの単一パルスを用い、信号を記録しない部分および再生時のパワーP2は全て0.7mWとした。
この条件で、第1情報層および第2情報層の未記録のトラックに信号を1回記録し、単一信号のC/N比をスペクトラムアナライザーで測定した。P1を任意に変化させて測定し、振幅が最大値より3dB低くなるパワーの1.25倍の値を設定パワーとした。各ディスクの設定パワーにおけるC/N比(加速前C/N比)を測定した後に、保存信頼性を確認するために、各ディスクを温度85℃、相対湿度85%の条件で200時間保持した後に、再度C/N比(加速後C/N比)を測定した。第1情報層におけるC/N比の結果を表2に示す。
表2に示すとおり、保護膜の厚さが0.2nmのディスク23、35では、いずれの線速度においても加速後のC/N比の低下が大きく、保存信頼性が不十分であった。また、保護膜の厚さが15nmおよび20nmである、ディスク30、31、42および43では、いずれも、高線速度(9.8m/s)での加速後のC/N比の低下が大きく保存信頼性が不十分であった。これに対し、ディスク24、25、26、27、28、29、32、33、34、36、37、38、39、40、41および44はいずれの線速度で記録した場合でも加速後のC/N比の低下が小さく、良好な保存信頼性を示した。
以上より、カバー層と記録膜との距離が0.5nm〜12nmであれば、良好な保存信頼性を確保することができることが分かった。なお、実施例2の各ディスクは実施例1のディスクに比べて加速前のC/N比がおよそ2dB低い。このため、C/N比のマージンが小さく、加速試験によってC/N比が低下すれば、再生信号の品質十分ではないため、実用上、製品として適さないと判断される光学的情報記録媒体が多くなることが予想される。このような場合において、本発明によれば、保存信頼性が高いため、加速によるC/N比の低下を抑制することができる。したがって、2つあるいはそれ以上の記録層を備えた光学的情報記録媒体に本発明を好適に用いることができる。
以上、実施例1および実施例2から、本発明は情報層を1つ備える光学的情報記録媒体にも2つ以上の情報層を光学的情報記録媒体にも好適に用いることができることが分かった。
本発明の光学的情報記録媒体は、映像、音楽、情報等の電子化できるデータを保存するための、高記録密度、高倍速の光学的情報記録媒体に好適に用いることができる。
1 基板
2 第1情報層
3 記録膜
4 保護膜
5 カバー層
6 レーザー光
7 対物レンズ
8 反射膜
9 中間膜
10 分離層
11 第2情報層
12 レーザーダイオード
13 ハーフミラー
14 モーター
15 光学的情報記録媒体
16 フォトディテクター

Claims (8)

  1. 基板と、
    カバー層と、
    前記基板および前記カバー層に挟まれた第1情報層と
    を備え、前記カバー層の側から光ビームを照射することによって、前記第1情報層に情報を記録し、前記第1情報層に記録された情報を再生する光学的情報記録媒体であって、
    前記第1情報層は、記録膜と、前記記録膜と前記カバー層との間に配置された保護膜とを含み、
    前記カバー層と前記記録膜との間の距離が0.5nm以上12nm以下であり、
    前記追記型の記録材料は、Cr−O、Zn−O、Ga−O、In−O、Sn−O、Sb−O、Bi−OおよびTe−Oからなる群から選ばれる少なくとも1つを含み、
    前記保護膜は、Zn−OおよびSn−Oからなる群から選ばれる少なくとも1つと、Cr−O、Bi−O、In−OおよびTe−Oからなる群から選ばれる少なくとも1つをそれぞれ含み、
    前記保護膜において、酸素以外の全原子に対する、ZnおよびSnの合計の割合が50at%以上82at%以下であり、酸素以外の全原子に対する、Cr、Bi、InおよびTeの合計の割合が18t%以上50at%以下である、光学的情報記録媒体。
  2. 前記基板と前記第1情報層との間に設けられた第2情報層をさらに備える請求項1に記載の光学的情報記録媒体。
  3. 前記第1情報層は前記記録膜と前記基板との間に設けられた反射膜をさらに有する請求項1に記載の光学的情報記録媒体。
  4. 前記第1情報層は、前記記録膜と前記反射膜との間に設けられた中間膜を有する請求項3に記載の光学的情報記録媒体。
  5. 前記第1情報層の溝のピッチが1μm以下である請求項1から4のいずれかに記載の光学的情報記録媒体。
  6. 請求項1から5のいずれかに記載の光学的情報記録媒体に、波長450nm以下の光ビームで情報を記録する光学的情報記録媒体の記録方法。
  7. 請求項1から5のいずれかに記載の光学的情報記録媒体に記録された情報を波長450nm以下の光ビームで再生する光学的情報記録媒体の再生方法。
  8. 請求項1から5のいずれかに記載の光学的情報記録媒体に、波長450nm以下の光ビームで情報を記録すること、および、光学的情報記録媒体に録された情報を波長450nm以下の光ビームで再生を行うことの少なくとも一方を行う記録再生装置。
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