JP5448420B2 - ヘキサヒドロキシジフェノイル化合物 - Google Patents
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Description
本発明は、ヘキサヒドロキシジフェノイル化合物に関する。
ヘキサヒドロキシジフェノイル（ＨＨＤＰ）基は、エラジタンニン類に共通して含まれる化学構造の一部を構成している。エラジタンニン類については、ポリフェノール類に関する最近のブームに乗って、抗酸化性、抗菌性、抗腫瘍性等の種々の薬理作用が報告されている（例えば、非特許文献１、非特許文献２、非特許文献３、非特許文献４等）。
K. S. Feldman, Phytochemistry, 2005, 66, 1984-2000 S. Taniguchi, Yakugaku Zasshi, 2005, 125, 499-507 H. Ito, Natural Medicines, 2005, 59, 57-62 T. Yoshida, T. Hatano, H. Ito, Yuki Gosei Kagaku Kyokaishi, 2004, 62, 500-507
K. S. Feldman, Phytochemistry, 2005, 66, 1984-2000 S. Taniguchi, Yakugaku Zasshi, 2005, 125, 499-507 H. Ito, Natural Medicines, 2005, 59, 57-62 T. Yoshida, T. Hatano, H. Ito, Yuki Gosei Kagaku Kyokaishi, 2004, 62, 500-507
しかしながら、今日まで知られているエラジタンニン類は、いずれも植物由来のものであり、そのため、薬理作用を有するエラジタンニン類の研究は極めて限定されたものである。
本発明の課題は、有機合成により大量製造が可能な新規エラジタンニン類縁体を提供し、それにより広範囲にわたるエラジタンニン類の研究を可能ならしめることである。
本発明者らは、上記課題を解決するために鋭意研究を重ねた結果、大量製造が可能な新規エラジタンニン類縁体を化学的に合成することに成功した。本発明は、このような知見に基づき完成されたものである。
本発明は、一般式（Ｉ）
［式中、Ｒ１は、フェノール性水酸基の保護基を示す。Ｒ２は、Ｒ３Ｏ−基又はＲ４ＯＣＨ２−基を示す。Ｒ３及びＲ４は、各々水酸基の保護基を示す。ｎは１又は０を示す。但し、ｎが１を示す場合、Ｒ２はＲ３Ｏ−基を示し、ｎが０を示す場合、Ｒ２はＲ４ＯＣＨ２−基を示すものとする。］
で表される、光学活性なヘキサヒドロキシジフェノイル化合物を提供するものである。
で表される、光学活性なヘキサヒドロキシジフェノイル化合物を提供するものである。
上記一般式（Ｉ）で表される光学活性なヘキサヒドロキシジフェノイル化合物には、下記一般式（Ｉａ）、一般式（Ｉｂ）、一般式（Ｉｃ）及び一般式（Ｉｄ）で表されるヘキサヒドロキシジフェノイル化合物が包含される。
［式中、Ｒ１、Ｒ３及びＲ４は前記に同じ。］
本明細書において、Ｒ１で示されるフェノール性水酸基の保護基としては、フェノール性水酸基の保護基として公知のものでよく、例えば、ベンジル基、ｐ−メトキシベンジル基、ｐ−ニトロベンジル基等のアリールアルキル基；メチル基、ｔｅｒｔ−ブチル基等のアルキル基；メトキシメチル基、エトキシエチル基等のアルコキシアルキル基；ベンジルオキシメチル基等のアリールアルキルオキシアルキル基；アリル基等のアルケニル基；プロパルギル基等のアルキニル基；ｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリル基等のシリル基；アセチル基等のアルカノイル基；ベンゾイル基等のアリールカルボニル基；テトラヒドロピラニル基等が挙げられる。これらの中でも、ベンジル基、ｐ−メトキシベンジル基、メトキシメチル基、アリル基等が好ましい。
本明細書において、Ｒ１で示されるフェノール性水酸基の保護基としては、フェノール性水酸基の保護基として公知のものでよく、例えば、ベンジル基、ｐ−メトキシベンジル基、ｐ−ニトロベンジル基等のアリールアルキル基；メチル基、ｔｅｒｔ−ブチル基等のアルキル基；メトキシメチル基、エトキシエチル基等のアルコキシアルキル基；ベンジルオキシメチル基等のアリールアルキルオキシアルキル基；アリル基等のアルケニル基；プロパルギル基等のアルキニル基；ｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリル基等のシリル基；アセチル基等のアルカノイル基；ベンゾイル基等のアリールカルボニル基；テトラヒドロピラニル基等が挙げられる。これらの中でも、ベンジル基、ｐ−メトキシベンジル基、メトキシメチル基、アリル基等が好ましい。
本明細書において、Ｒ３及びＲ４で示される水酸基の保護基としては、水酸基の保護基として公知のものでよく、例えば、ベンジル基、ｐ−メトキシベンジル基、ｐ−ニトロベンジル基等のアリールアルキル基；メチル基、ｔｅｒｔ−ブチル基等のアルキル基；メトキシメチル基、エトキシエチル基等のアルコキシアルキル基；ベンジルオキシメチル基等のアリールアルキルオキシアルキル基；アリル基等のアルケニル基；プロパルギル基等のアルキニル基；ｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリル基等のシリル基；アセチル基等のアルカノイル基；ベンゾイル基等のアリールカルボニル基；テトラヒドロピラニル基等が挙げられる。これらの中でも、ベンジル基、ｐ−メトキシベンジル基、メチル基、メトキシメチル基、アリル基等が好ましい。
上記一般式（Ｉ）で表される本発明の化合物の製造方法について、以下に説明する。
一般式（Ｉａ）で表されるヘキサヒドロキシジフェノイル化合物は、例えば、下記反応式−１に示すようにして製造される。
［式中、Ｒ１及びＲ３は前記に同じ。ＭＯＭはメトキシメチル基を示す。］
反応式−１によれば、一般式（Ｉａ）で表される本発明化合物は、一般式（II）で表される化合物と一般式(III)で表される化合物とをエステル化反応させ、次いで得られる一般式(IV)で表される化合物を脱メトキシメチル化し、更に得られる一般式(Ｖ)で表される化合物をカップリング反応させることにより製造される。
反応式−１によれば、一般式（Ｉａ）で表される本発明化合物は、一般式（II）で表される化合物と一般式(III)で表される化合物とをエステル化反応させ、次いで得られる一般式(IV)で表される化合物を脱メトキシメチル化し、更に得られる一般式(Ｖ)で表される化合物をカップリング反応させることにより製造される。
一般式（II）で表される化合物と一般式(III)で表される化合物とのエステル化反応は、例えば、後述する合成例３に示すような反応条件下で行われる。一般式(IV)で表される化合物の脱メトキシメチル化は、例えば、後述する合成例４に示すような反応条件下で行われる。一般式(Ｖ)で表される化合物のカップリング反応は、例えば、後述する合成例５に示すような反応条件下で行われる。
一般式（Ｉｂ）で表されるヘキサヒドロキシジフェノイル化合物は、上記反応式−１において、一般式（II）で表される化合物の代わりに一般式（II’）
［式中、Ｒ３は前記に同じ。］
で表される化合物を使用する以外は上記反応式−１に示す方法と同様にして製造される。
で表される化合物を使用する以外は上記反応式−１に示す方法と同様にして製造される。
上記反応式−１において出発原料として用いられる一般式(II)の化合物及び一般式(II’)の化合物は、公知の化合物であり、これらの化合物は、例えば、下記反応式−２に示すように、式（VI）で表される化合物と一般式(VII)で表される化合物とをエステル化反応及びエーテル化反応させ、次いで得られる一般式(VIII)で表される化合物を還元することにより製造される。
［式中、Ｒ３は前記に同じ。Ｅｔはエチル基を示す。ＤＭＦはジメチルホルムアミドを示す。］ 上記反応式−１において出発原料として用いられる一般式(III)の化合物は、例えば、下記反応式−３に示すようにして製造される。
［式中、Ｒ１及びＭＯＭは前記に同じ。Ｍｅはメチル基を示す。ＴＨＦはテトラヒドロフランを示す。］
反応式−３によれば、一般式（III）で表される化合物は、一般式（IX）で表される化合物をメトキシメチル化し、次いで得られる一般式(Ｘ)で表される化合物を加水分解することにより製造される。
反応式−３によれば、一般式（III）で表される化合物は、一般式（IX）で表される化合物をメトキシメチル化し、次いで得られる一般式(Ｘ)で表される化合物を加水分解することにより製造される。
一般式（IX）で表される化合物のメトキシメチル化反応は、例えば、後述する合成例１に示すような反応条件下で行われる。一般式(Ｘ)で表される化合物の加水分解反応は、例えば、後述する合成例２に示すような反応条件下で行われる。
上記反応式−３において出発原料として用いられる一般式(IX)の化合物は、公知の化合物であり、該化合物は、例えば、下記反応式−４に示すように、一般式（XI）で表される化合物をアセチル化し、次いで得られる一般式（XII）で表される化合物と一般式(XIII)で表される化合物とを反応させ、更に得られる一般式(XIV)で表される化合物を脱アセチル化することにより製造される。
［式中、Ｒ１及びＭｅは前記に同じ。Ａｃはアセチル基を示す。］
一般式（Ｉｃ）で表されるヘキサヒドロキシジフェノイル化合物は、例えば、下記反応式−５に示すようにして製造される。
一般式（Ｉｃ）で表されるヘキサヒドロキシジフェノイル化合物は、例えば、下記反応式−５に示すようにして製造される。
［式中、Ｒ１、Ｒ４及びＭＯＭは前記に同じ。］
反応式−５によれば、一般式（Ｉｃ）で表される本発明化合物は、一般式（XV）で表される化合物と一般式(III)で表される化合物とをエステル化反応させ、次いで得られる一般式(XVI)で表される化合物を脱メトキシメチル化し、更に得られる一般式(XVII)で表される化合物をカップリング反応させることにより製造される。
反応式−５によれば、一般式（Ｉｃ）で表される本発明化合物は、一般式（XV）で表される化合物と一般式(III)で表される化合物とをエステル化反応させ、次いで得られる一般式(XVI)で表される化合物を脱メトキシメチル化し、更に得られる一般式(XVII)で表される化合物をカップリング反応させることにより製造される。
一般式（XV）で表される化合物と一般式(III)で表される化合物とのエステル化反応は、例えば、後述する合成例７に示すような反応条件下で行われる。一般式(XVI)で表される化合物を脱メトキシメチル化は、例えば、後述する合成例７に示すような反応条件下で行われる。一般式(XVII)で表される化合物のカップリング反応は、例えば、後述する合成例８に示すような反応条件下で行われる。
一般式（Ｉｄ）で表されるヘキサヒドロキシジフェノイル化合物は、上記反応式−５において、一般式（XV）で表される化合物の代わりに一般式（XV’）
［式中、Ｒ４は前記に同じ。］
で表される化合物を使用する以外は上記反応式−５に示す方法と同様にして製造される。
で表される化合物を使用する以外は上記反応式−５に示す方法と同様にして製造される。
上記反応式−５において出発原料として用いられる一般式(XV)の化合物及び一般式(XV’)の化合物は、公知の化合物であり、これらの化合物は、例えば、下記反応式−６に示すように、式（XVII）で表される化合物から、一般式(XIX)で表される化合物、一般式(XX)で表される化合物、一般式(XXI)で表される化合物を経由して製造される。これら一連の反応には、この種反応における公知の反応条件を適宜採用することができる。
［式中、Ｒ４は前記に同じ。］
上記各反応式に示される方法により得られる各々の目的化合物は、通常の分離手段により反応混合物より分離され、精製される。このような分離及び精製手段としては、例えば蒸留法、再結晶法、カラムクロマトグラフィー、イオン交換クロマトグラフィー、ゲルクロマトグラフィー、親和クロマトグラフィー、プレパラティブ薄層クロマトグラフィー、溶媒抽出法等を挙げることができる。
上記各反応式に示される方法により得られる各々の目的化合物は、通常の分離手段により反応混合物より分離され、精製される。このような分離及び精製手段としては、例えば蒸留法、再結晶法、カラムクロマトグラフィー、イオン交換クロマトグラフィー、ゲルクロマトグラフィー、親和クロマトグラフィー、プレパラティブ薄層クロマトグラフィー、溶媒抽出法等を挙げることができる。
本発明のヘキサヒドロキシジフェノイル化合物は、分子内にＨＨＤＰ基を有し、単一の軸不斉を持っていることから、各種医薬品、例えば、抗菌剤、抗腫瘍剤等の他、抗酸化剤、金属触媒のリガンド等の各種用途に使用できる。
本発明のヘキサヒドロキシジフェノイル化合物は、有機化学合成により容易に且つ大量に製造され得るので、工業的な利用価値が極めて高い。
例えば、本発明のヘキサヒドロキシジフェノイル化合物は、後記参考例１及び参考例２に示すように、（１Ｒ）−４，５，６，４’，５’，６’−ヘキサベンジルオキシ−［１，１’−ビフェニル］−２，２’−ジメタノールに誘導することができる。この化合物中のベンジル基を部分的にメチル基に置換した化合物、例えば、下記一般式（XXII）
［式中、Ｂｎはベンジル基を示す。Ｍｅは前記に同じ。］
で表される化合物は、感染したＨ９リンパ球におけるＨＩＶ複製を阻害する強い活性を有している（Y. Kashiwada, L. Huang, R. E. Kilkuskie, A. J. Bodner, K.-H. Lee, Bioorg. Med. Chem. Lett. 1992, 2, 235-238）。
で表される化合物は、感染したＨ９リンパ球におけるＨＩＶ複製を阻害する強い活性を有している（Y. Kashiwada, L. Huang, R. E. Kilkuskie, A. J. Bodner, K.-H. Lee, Bioorg. Med. Chem. Lett. 1992, 2, 235-238）。
また、本発明のヘキサヒドロキシジフェノイル化合物は、後記参考例３〜８に示すように、種々の化合物に誘導することができる。
以下に実施例を掲げて、本発明をより一層明らかにする。
合成例１
メチル ４−ベンジルオキシ−３，５−（ジメトキシメトキシ）ベンゾエート（５）の製造
合成例１
メチル ４−ベンジルオキシ−３，５−（ジメトキシメトキシ）ベンゾエート（５）の製造
２リットルのなすフラスコ中で、メチル ４−ベンジルオキシ−３，５−ジヒドロキシベンゾエート（４）（３０．０ｇ，１０９ｍｍｏｌ）をジメチルホルムアミド（７００ｍｌ）に溶解し、氷浴で冷却し、水素化ナトリウム（鉱油に６０％懸濁，１３００ｍｇ；ＮａＨとして７７０ｍｇ，３２８ｍｍｏｌ）を加え、１時間撹拌した。バブラーを使用して、反応系中からの水素の発生が完結したことを確認し、メトキシメチルクロリド（２４．９ｍｌ，３２８ｍｍｏｌ）を加え、室温まで徐々に加温しながら ２．５時間撹拌した。反応の進行をＴＬＣ及びマススペクトルにより確認した後、飽和塩化アンモニウム水溶液を加えてクエンチし、酢酸エチルで３回抽出した。有機層を飽和塩化アンモニウム水溶液、水及び飽和塩化ナトリウム水溶液で順次洗浄し、無水硫酸マグネシウムを加え、乾燥させた。綿栓濾過を行い、濾液を減圧下で濃縮して得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（シリカゲル６００ｇ，ｎ−ヘキサン：酢酸エチル＝８：１→６：１→５：１→３：１→２：１）に付し、標記化合物（５）（無色シロップ，３６．３ｇ，１００ｍｍｏｌ，収率９２％）を得た。
化合物（５）の物性値は以下の通りである。
ＩＲ（ＺｎＳｅ，薄膜）νｍａｘ（ｃｍ−１）：
２９５３，１７２３，１５９１，１４９９，１４３５，１３９３，１３２９，１１２０，１１５５，１１０９，１０４７
１Ｈ−ＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）（δｐｐｍ）：
７．４４（ｓ，２Ｈ，Ａｒ−ＣＨ），７．３９−７．１８（ｍ，５Ｈ，Ａｒ−Ｈ），５．１１（ｓ，４Ｈ，メトキシメチル基におけるＣＨ２），５．０５（ｓ，２Ｈ，ＰｈＣＨ２），３．８０（ｓ，３Ｈ，エステル部位におけるＯＣＨ３），３．４０（ｓ，６Ｈ，メトキシメチル基におけるＯＣＨ３）
１３Ｃ−ＮＭＲ（１００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）（δｐｐｍ）：
１６６．２（ｓ，１Ｃ，Ｃ＝Ｏ），１５０．８（ｓ，２Ｃ，Ａｒ），１４２．９（ｓ，１Ｃ，Ａｒ），１３７．２（ｓ，１Ｃ，Ａｒ），１２８．２（ｄ，２Ｃ，ベンジル基におけるＡｒ），１２８．２（ｄ，２Ｃ，ベンジル基におけるＡｒ），１２８．０（ｄ，１Ｃ，ベンジル基におけるＡｒ），１２５．５（ｓ，２Ｃ，Ａｒ），１１１．９（ｄ，２Ｃ，Ａｒ），９５．３（ｔ，２Ｃ，メトキシメチル基におけるＣＨ２），７５．１（ｔ，１Ｃ，Ｂｎ位），５６．２（ｑ，２Ｃ，メトキシメチル基におけるＯＣＨ３），５２．０（ｑ，１Ｃ，エステル部位におけるＯＣＨ３）
ＨＲＭＳ−ＥＳＩ（ｍ／ｚ）：［Ｍ＋Ｎａ］＋
計算値（Ｃ１９Ｈ２２Ｏ７として）３８５．１２６３，測定値３８５．１２５９
なお、上記において、Ａｒはアリール基を意味する。以下の合成例においても同じである。
ＩＲ（ＺｎＳｅ，薄膜）νｍａｘ（ｃｍ−１）：
２９５３，１７２３，１５９１，１４９９，１４３５，１３９３，１３２９，１１２０，１１５５，１１０９，１０４７
１Ｈ−ＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）（δｐｐｍ）：
７．４４（ｓ，２Ｈ，Ａｒ−ＣＨ），７．３９−７．１８（ｍ，５Ｈ，Ａｒ−Ｈ），５．１１（ｓ，４Ｈ，メトキシメチル基におけるＣＨ２），５．０５（ｓ，２Ｈ，ＰｈＣＨ２），３．８０（ｓ，３Ｈ，エステル部位におけるＯＣＨ３），３．４０（ｓ，６Ｈ，メトキシメチル基におけるＯＣＨ３）
１３Ｃ−ＮＭＲ（１００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）（δｐｐｍ）：
１６６．２（ｓ，１Ｃ，Ｃ＝Ｏ），１５０．８（ｓ，２Ｃ，Ａｒ），１４２．９（ｓ，１Ｃ，Ａｒ），１３７．２（ｓ，１Ｃ，Ａｒ），１２８．２（ｄ，２Ｃ，ベンジル基におけるＡｒ），１２８．２（ｄ，２Ｃ，ベンジル基におけるＡｒ），１２８．０（ｄ，１Ｃ，ベンジル基におけるＡｒ），１２５．５（ｓ，２Ｃ，Ａｒ），１１１．９（ｄ，２Ｃ，Ａｒ），９５．３（ｔ，２Ｃ，メトキシメチル基におけるＣＨ２），７５．１（ｔ，１Ｃ，Ｂｎ位），５６．２（ｑ，２Ｃ，メトキシメチル基におけるＯＣＨ３），５２．０（ｑ，１Ｃ，エステル部位におけるＯＣＨ３）
ＨＲＭＳ−ＥＳＩ（ｍ／ｚ）：［Ｍ＋Ｎａ］＋
計算値（Ｃ１９Ｈ２２Ｏ７として）３８５．１２６３，測定値３８５．１２５９
なお、上記において、Ａｒはアリール基を意味する。以下の合成例においても同じである。
合成例２
４−ベンジルオキシ−３，５−（ジメトキシメトキシ）安息香酸（６）の製造
４−ベンジルオキシ−３，５−（ジメトキシメトキシ）安息香酸（６）の製造
２リットルのなすフラスコ中で、合成例１で製造したメチル ４−ベンジルオキシ−３，５−（ジメトキシメトキシ）ベンゾエート（５）（３６．３ｇ，１００ｍｍｏｌ）をメタノール（２００ ｍｌ）及びテトラヒドロフラン（３００ｍｌ）の混合溶媒に溶解し、水酸化リチウム水溶液（２１．０ｇ，５００ｍｍｏｌ、水１００ｍｌ中）を加え、撹拌しながら、３時間還流した。反応の進行をＴＬＣにより確認した後、室温まで冷却し、１Ｎ塩酸を加えてクエンチし（ｐＨ＝５．０）、反応溶液を減圧下で濃縮して、メタノール及びＴＨＦを除去した。フラスコに残った水を含む混合物を、酢酸エチルで３回抽出した後、集めた有機層を飽和塩化アンモニウム水溶液、水及び飽和塩化ナトリウム水溶液で順次洗浄し、無水硫酸マグネシウムを加え乾燥させた。綿栓濾過を行い、濾液を減圧下で濃縮して得られた粗結晶を酢酸エチル／ｎ−ヘキサンから再結晶させ、標記化合物（６）（白色粉末，２８．８ｇ，８２．７ｍｍｏｌ，収率８２％）を得た。
化合物（６）の物性値は以下の通りである。
ｍｐ １１３−１１６℃
ＩＲ（ＺｎＳｅ，薄膜）νｍａｘ（ｃｍ−１）：
２９５７，２６３１，１６８６，１５９１，１４３３，１３２５，１２２７，１１５７，１１１１，１０４７，９２２
１Ｈ−ＮＭＲ（４００ＭＨｚ，（ＣＤ３）２ＣＯ）（δｐｐｍ）：
７．５８−７．５３（ｍ，４Ｈ，Ａｒ−Ｈ），７．３７−７．３０（ｍ，３Ｈ，Ａｒ−Ｈ），５．２７（ｓ，４Ｈ，メトキシメチル基におけるＣＨ２），５．１５（ｓ，２Ｈ，ＰｈＣＨ２），３．４８（ｓ，６Ｈ，エステル部位におけるＯＣＨ３）
１３Ｃ−ＮＭＲ（１００ＭＨｚ，（ＣＤ３）２ＣＯ）（δｐｐｍ）：
１６７．２（ｓ，１Ｃ，Ｃ＝Ｏ），１５２．０（ｓ，２Ｃ，Ａｒ），１５１．９（ｓ，１Ｃ，Ａｒ），１４４．０（ｓ，１Ｃ，Ａｒ），１３８．８（ｓ，１Ｃ，Ａｒ），１２９．１（ｄ，２Ｃ，ベンジル基におけるＡｒ），１２９．０（ｄ，１Ｃ，ベンジル基におけるＡｒ），１２８．７（ｄ，１Ｃ，Ａｒ），１２８．７（ｄ，１Ｃ，Ａｒ），１２６．６（ｓ，１Ｃ，Ａｒ），１１２．９（ｄ，１Ｃ，Ａｒ−ＣＨ），１１２．８（ｄ，１Ｃ，Ａｒ−ＣＨ），９６．２（ｔ，１Ｃ，ベンジル位），７５．６（ｔ，１Ｃ，メトキシメチル基におけるＣＨ２），７５．５（ｔ，１Ｃ，メトキシメチル基におけるＣＨ２），５６．５（ｑ，１Ｃ，メトキシメチル基におけるＯＣＨ３），５６．４（ｑ，１Ｃ，メトキシメチル基におけるＯＣＨ３）
ＨＲＭＳ−ＥＳＩ（ｍ／ｚ）：［Ｍ＋Ｎａ］＋
計算値（Ｃ１８Ｈ２０Ｏ７として）３７１．１１０７，測定値３７１．１１００
なお、上記において、Ｐｈはフェニル基を意味する。以下の合成例においても同じである。
ｍｐ １１３−１１６℃
ＩＲ（ＺｎＳｅ，薄膜）νｍａｘ（ｃｍ−１）：
２９５７，２６３１，１６８６，１５９１，１４３３，１３２５，１２２７，１１５７，１１１１，１０４７，９２２
１Ｈ−ＮＭＲ（４００ＭＨｚ，（ＣＤ３）２ＣＯ）（δｐｐｍ）：
７．５８−７．５３（ｍ，４Ｈ，Ａｒ−Ｈ），７．３７−７．３０（ｍ，３Ｈ，Ａｒ−Ｈ），５．２７（ｓ，４Ｈ，メトキシメチル基におけるＣＨ２），５．１５（ｓ，２Ｈ，ＰｈＣＨ２），３．４８（ｓ，６Ｈ，エステル部位におけるＯＣＨ３）
１３Ｃ−ＮＭＲ（１００ＭＨｚ，（ＣＤ３）２ＣＯ）（δｐｐｍ）：
１６７．２（ｓ，１Ｃ，Ｃ＝Ｏ），１５２．０（ｓ，２Ｃ，Ａｒ），１５１．９（ｓ，１Ｃ，Ａｒ），１４４．０（ｓ，１Ｃ，Ａｒ），１３８．８（ｓ，１Ｃ，Ａｒ），１２９．１（ｄ，２Ｃ，ベンジル基におけるＡｒ），１２９．０（ｄ，１Ｃ，ベンジル基におけるＡｒ），１２８．７（ｄ，１Ｃ，Ａｒ），１２８．７（ｄ，１Ｃ，Ａｒ），１２６．６（ｓ，１Ｃ，Ａｒ），１１２．９（ｄ，１Ｃ，Ａｒ−ＣＨ），１１２．８（ｄ，１Ｃ，Ａｒ−ＣＨ），９６．２（ｔ，１Ｃ，ベンジル位），７５．６（ｔ，１Ｃ，メトキシメチル基におけるＣＨ２），７５．５（ｔ，１Ｃ，メトキシメチル基におけるＣＨ２），５６．５（ｑ，１Ｃ，メトキシメチル基におけるＯＣＨ３），５６．４（ｑ，１Ｃ，メトキシメチル基におけるＯＣＨ３）
ＨＲＭＳ−ＥＳＩ（ｍ／ｚ）：［Ｍ＋Ｎａ］＋
計算値（Ｃ１８Ｈ２０Ｏ７として）３７１．１１０７，測定値３７１．１１００
なお、上記において、Ｐｈはフェニル基を意味する。以下の合成例においても同じである。
合成例３
（２Ｓ，３Ｓ）−２，３−ジメトキシ−１，４−ブタンジオール ジ［４−ベンジルオキシ−３，５−（ジメトキシメトキシ）ベンゾエート］（１０）の製造
（２Ｓ，３Ｓ）−２，３−ジメトキシ−１，４−ブタンジオール ジ［４−ベンジルオキシ−３，５−（ジメトキシメトキシ）ベンゾエート］（１０）の製造
５００ｍｌのなすフラスコ中で、（２Ｓ，３Ｓ）−２，３−ジメトキシ−１，４−ブタンジオール（９）（２．８１ｇ，１８．７ｍｍｏｌ）をベンゼンに溶解させ、エバポレーションによる共沸操作を三度繰り返した後、ジクロロメタン（１８７ｍｌ）に溶解し、合成例２で製造した４−ベンジルオキシ−３，５−（ジメトキシメトキシ）安息香酸（６）（１５．０ｇ，４３．１ｍｍｏｌ）、１−エチル−３−（３−ジメチルアミノプロピル）カルボジイミド塩酸塩（２１．５ｇ，１１２ｍｍｏｌ）及び４−ジメチルアミノピリジン（２０．６ｇ，１６９ｍｍｏｌ）を加え、室温で１．５時間攪拌した。反応の進行をＴＬＣ及びマススペクトルにより確認した後、反応混合物を１Ｍ塩酸、飽和炭酸水素ナトリウム、水及び飽和食塩水で順次洗浄し、無水硫酸マグネシウムを加え乾燥させた。綿栓濾過を行い、濾液を減圧下で濃縮して得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（シリカゲル５３０ｇ，ｎ−ヘキサン：酢酸エチル＝６：１→４：１→３：１→２：１→１：１→１：２）に付し、標記化合物（１０）（白色結晶，１３，１ｍｇ，１６．２ｍｍｏｌ，収率８９％）を得た。
化合物（１０）の物性値は以下の通りである。
ｍｐ ７８．５−８０．５℃
［α］２４ Ｄ＝＋１．７°（ｃ＝１．００，ＣＨＣｌ３）
１Ｈ−ＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）（δｐｐｍ）：
７．５４（ｓ，４Ｈ，Ａｒ−Ｈ），７．４７−７．４５（ｂｒ−ｄ，４Ｈ，Ａｒ−Ｈ），７．３７−７．３０（ｍ，６Ｈ，Ａｒ−Ｈ），５．１８（ｓ，８Ｈ，メトキシメチル基におけるＣＨ２），５．１３（ｓ，４Ｈ，ＰｈＣＨ２），４．６０−４．５６（ｂｒ−ｄ，２Ｈ，酒石酸エステル），４．４８−４．４４（ｂｒ−ｄ，２Ｈ，酒石酸エステル），３．７３（ｄｄｄ，２Ｈ，酒石酸エステル），３．５６（ｓ，６Ｈ，酒石酸エステルにおけるＯＣＨ３），３．４６（ｓ，１２Ｈ，メトキシメチル基におけるＯＣＨ３）
１３Ｃ−ＮＭＲ（１００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）（δｐｐｍ）：
１６５．８（ｓ，２Ｃ，Ｃ＝Ｏ），１５１．１（ｓ，２Ｃ），１４３．４（ｓ，２Ｃ），１３７．４（ｓ，２Ｃ），１２８．５（ｄ，４Ｃ，ベンジル基におけるＡｒ），１２８．５（ｄ，４Ｃ，ベンジル基におけるＡｒ），１２８．３（ｄ，２Ｃ，ベンジル基におけるＡｒ），１２５．５（ｓ，２Ｃ），１１２．４（ｄ，２Ｃ，ガロイル基におけるＡｒ），９５．７（ｔ，２Ｃ），７９．０（ｄ，２Ｃ，酒石酸エステル），７５．４（ｔ，２Ｃ），６４．０（ｔ，２Ｃ），５９．６（ｑ，２Ｃ），５６．５（ｑ，２Ｃ）
ＨＲＭＳ−ＥＳＩ（ｍ／ｚ）：［Ｍ＋Ｎａ］＋
計算値（Ｃ４２Ｈ５０Ｏ１６として）８３３．２９９７，測定値８３３．３００２
なお、上記において、Ｂｎはベンジル基を意味する。以下の合成例においても同じである。
ｍｐ ７８．５−８０．５℃
［α］２４ Ｄ＝＋１．７°（ｃ＝１．００，ＣＨＣｌ３）
１Ｈ−ＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）（δｐｐｍ）：
７．５４（ｓ，４Ｈ，Ａｒ−Ｈ），７．４７−７．４５（ｂｒ−ｄ，４Ｈ，Ａｒ−Ｈ），７．３７−７．３０（ｍ，６Ｈ，Ａｒ−Ｈ），５．１８（ｓ，８Ｈ，メトキシメチル基におけるＣＨ２），５．１３（ｓ，４Ｈ，ＰｈＣＨ２），４．６０−４．５６（ｂｒ−ｄ，２Ｈ，酒石酸エステル），４．４８−４．４４（ｂｒ−ｄ，２Ｈ，酒石酸エステル），３．７３（ｄｄｄ，２Ｈ，酒石酸エステル），３．５６（ｓ，６Ｈ，酒石酸エステルにおけるＯＣＨ３），３．４６（ｓ，１２Ｈ，メトキシメチル基におけるＯＣＨ３）
１３Ｃ−ＮＭＲ（１００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）（δｐｐｍ）：
１６５．８（ｓ，２Ｃ，Ｃ＝Ｏ），１５１．１（ｓ，２Ｃ），１４３．４（ｓ，２Ｃ），１３７．４（ｓ，２Ｃ），１２８．５（ｄ，４Ｃ，ベンジル基におけるＡｒ），１２８．５（ｄ，４Ｃ，ベンジル基におけるＡｒ），１２８．３（ｄ，２Ｃ，ベンジル基におけるＡｒ），１２５．５（ｓ，２Ｃ），１１２．４（ｄ，２Ｃ，ガロイル基におけるＡｒ），９５．７（ｔ，２Ｃ），７９．０（ｄ，２Ｃ，酒石酸エステル），７５．４（ｔ，２Ｃ），６４．０（ｔ，２Ｃ），５９．６（ｑ，２Ｃ），５６．５（ｑ，２Ｃ）
ＨＲＭＳ−ＥＳＩ（ｍ／ｚ）：［Ｍ＋Ｎａ］＋
計算値（Ｃ４２Ｈ５０Ｏ１６として）８３３．２９９７，測定値８３３．３００２
なお、上記において、Ｂｎはベンジル基を意味する。以下の合成例においても同じである。
合成例４
（２Ｓ，３Ｓ）−２，３−ジメトキシ−１，４−ブタンジオール ジ［４−ベンジルオキシベンゾエート］（１１）の製造
（２Ｓ，３Ｓ）−２，３−ジメトキシ−１，４−ブタンジオール ジ［４−ベンジルオキシベンゾエート］（１１）の製造
１リットルのなすフラスコ中で、合成例３で製造した（２Ｓ，３Ｓ）−２，３−ジメトキシ−１，４−ブタンジオール ジ［４−ベンジルオキシ−３，５−（ジメトキシメトキシ）ベンゾエート］（１０）（５．００ｇ，６．１７ｍｍｏｌ）をジメチルクロロメタン（６２０ｍｌ）に溶解し、トリフルオロ酢酸（６２ｍｌ，８０５ｍｍｏｌ）を加え、室温で１時間撹拌した。反応の進行をＴＬＣ及びマススペクトルにより確認した後、氷浴で冷却し、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液でクエンチした。この混合物をジクロロメタンで３回抽出した後、有機層を水及び飽和塩化ナトリウム水溶液で順次洗浄し、無水硫酸マグネシウムを加え、乾燥させた。綿栓濾過を行い、濾液を減圧下で濃縮して得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（シリカゲル４５０ｇ，クロロホルム：メタノール＝１：０→３００：１→１００：１）に付し、標記化合物（１１）（白色アモルファス，２．７４ｇ，４．３２ｍｍｏｌ，収率７１％）を得た。
化合物（１１）の物性値は以下の通りである。
ｍｐ ６９．１−７０．８℃
［α］２４ Ｄ＝−２５．５°（ｃ＝１．００，ＣＨＣｌ３）
１Ｈ−ＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）（δｐｐｍ）：
７．５３−７．５１（ｂｒ−ｄ，４Ｈ，Ａｒ−Ｈ），７．３７−７．３０（ｍ，６Ｈ，Ａｒ−Ｈ），７．１５（ｓ，４Ｈ，ガロイル基におけるＡｒ−Ｈ），５．１９（ｓ，４Ｈ，ＰｈＣＨ２），４．５７−４．５４（ｂｒ−ｄ，２Ｈ，酒石酸エステル），４．３９−４．３５（ｂｒ−ｄ，２Ｈ，酒石酸エステル），３．８２（ｄｄｄ，２Ｈ，酒石酸エステル），３．５２（ｓ，６Ｈ，酒石酸エステルにおけるＯＣＨ３）
１３Ｃ−ＮＭＲ（１００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）（δｐｐｍ）：
１６６．４（ｓ，２Ｃ，Ｃ＝Ｏ），１５１．５（ｓ，２Ｃ），１３９．１（ｓ，２Ｃ），１３８．６（ｓ，２Ｃ），１２９．４（ｄ，４Ｃ，ベンジル基におけるＡｒ），１２９．１（ｄ，４Ｃ，ベンジル基におけるＡｒ），１２８．９（ｄ，２Ｃ，ベンジル基におけるＡｒ），１２６．４（ｓ，２Ｃ），１１０．０（ｄ，２Ｃ，ガロイル基におけるＡｒ），７９．８（ｄ，２Ｃ，酒石酸エステル），７４．６（ｔ，２Ｃ），６４．４（ｔ，２Ｃ），５９．４（ｑ，２Ｃ，酒石酸エステルにおけるＯＣＨ３）
ＨＲＭＳ−ＥＳＩ（ｍ／ｚ）：［Ｍ＋Ｎａ］＋
計算値（Ｃ３４Ｈ３４Ｏ１２として）６５７．１９４８，測定値６５７．１９４６。
ｍｐ ６９．１−７０．８℃
［α］２４ Ｄ＝−２５．５°（ｃ＝１．００，ＣＨＣｌ３）
１Ｈ−ＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）（δｐｐｍ）：
７．５３−７．５１（ｂｒ−ｄ，４Ｈ，Ａｒ−Ｈ），７．３７−７．３０（ｍ，６Ｈ，Ａｒ−Ｈ），７．１５（ｓ，４Ｈ，ガロイル基におけるＡｒ−Ｈ），５．１９（ｓ，４Ｈ，ＰｈＣＨ２），４．５７−４．５４（ｂｒ−ｄ，２Ｈ，酒石酸エステル），４．３９−４．３５（ｂｒ−ｄ，２Ｈ，酒石酸エステル），３．８２（ｄｄｄ，２Ｈ，酒石酸エステル），３．５２（ｓ，６Ｈ，酒石酸エステルにおけるＯＣＨ３）
１３Ｃ−ＮＭＲ（１００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）（δｐｐｍ）：
１６６．４（ｓ，２Ｃ，Ｃ＝Ｏ），１５１．５（ｓ，２Ｃ），１３９．１（ｓ，２Ｃ），１３８．６（ｓ，２Ｃ），１２９．４（ｄ，４Ｃ，ベンジル基におけるＡｒ），１２９．１（ｄ，４Ｃ，ベンジル基におけるＡｒ），１２８．９（ｄ，２Ｃ，ベンジル基におけるＡｒ），１２６．４（ｓ，２Ｃ），１１０．０（ｄ，２Ｃ，ガロイル基におけるＡｒ），７９．８（ｄ，２Ｃ，酒石酸エステル），７４．６（ｔ，２Ｃ），６４．４（ｔ，２Ｃ），５９．４（ｑ，２Ｃ，酒石酸エステルにおけるＯＣＨ３）
ＨＲＭＳ−ＥＳＩ（ｍ／ｚ）：［Ｍ＋Ｎａ］＋
計算値（Ｃ３４Ｈ３４Ｏ１２として）６５７．１９４８，測定値６５７．１９４６。
合成例５
（８Ｓ，９Ｓ，１６ａＲ）−２，１５−ジベンジルオキシ−１，３，１４，１６−テトラヒドロキシ−８，９−ジメトキシ−７，８，９，１０−テトラヒドロ−ジベンゾ［ｈ，ｊ］［１，６］ジオキサシクロドデシン−５，１２−ジオン（１２）の製造
（８Ｓ，９Ｓ，１６ａＲ）−２，１５−ジベンジルオキシ−１，３，１４，１６−テトラヒドロキシ−８，９−ジメトキシ−７，８，９，１０−テトラヒドロ−ジベンゾ［ｈ，ｊ］［１，６］ジオキサシクロドデシン−５，１２−ジオン（１２）の製造
５０ｍｌのなすフラスコ中で、塩化第二銅（２１２ｍｇ，１．５８ｍｍｏｌ）及びｎ−ブチルアミン（０．６９７ｍｌ，６．３０ｍｍｏｌ）をメタノール（２２ｍｌ）に溶解し、３０分間室温で攪拌した。また、１０ｍｌの試験管中で、合成例４で製造した（２Ｓ，３Ｓ）−２，３−ジメトキシ−１，４−ブタンジオール ジ［４−ベンジルオキシベンゾエート］（１１）（２００ｍｇ，０．３１５ｍｍｏｌ）をアセトニトリルに溶解させ、エバポレーションによる共沸操作を三度繰り返したものをメタノール（１０ｍｌ）に溶解し、カニューレを用いて前述の５０ｍｌなすフラスコに加え、室温で４０分間撹拌した。反応の進行をＴＬＣ及びマススペクトルにより確認した後、飽和塩化アンモニウム水溶液でクエンチした。この混合物をジエチルエーテルで４回抽出した後、有機層を１Ｍ塩酸、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液、水及び飽和塩化ナトリウム水溶液で順次洗浄し、無水硫酸マグネシウムを加え乾燥させた。綿栓濾過を行い、濾液を減圧下で濃縮し、標記化合物（１２）（黄色シロップ）を得た。
化合物（１２）の物性値は以下の通りである。
［α］２５ Ｄ＝＋１４．２°（ｃ＝１．００，ＣＨＣｌ３）
１Ｈ−ＮＭＲ（４００ＭＨｚ，（ＣＤ３）２ＣＯ）（δｐｐｍ）：
７．５５−７．５３（ｂｒ−ｄ，４Ｈ，Ａｒ−Ｈ），７．３８−７．３１（ｍ，６Ｈ，Ａｒ−Ｈ），６．６３（ｓ，２Ｈ，ガロイル基におけるＡｒ−Ｈ），５．１８（ｄ，２Ｈ，ＰｈＣＨ２），５．１３（ｄ，２Ｈ，ＰｈＣＨ２），４．３９（ｄ，２Ｈ，酒石酸エステル），４．１３−４．１０（ｂｒ−ｄ，２Ｈ，酒石酸エステル），３．５８（ｂｒ−ｄ，２Ｈ，酒石酸エステル），３．４５（ｓ，３Ｈ，エステル部位におけるＯＣＨ３）
１３Ｃ−ＮＭＲ（１００ＭＨｚ，（ＣＤ３）２ＣＯ）（δｐｐｍ）：
１６８．３（ｓ，２Ｃ，Ｃ＝Ｏ），１５０．４（ｓ，２Ｃ），１５０．２（ｓ，２Ｃ），１３８．９（ｓ，２Ｃ），１３６．８（ｓ，２Ｃ），１３１．４（ｓ，２Ｃ），１２９．３（ｄ，４Ｃ，ベンジル基におけるＡｒ），１２９．１（ｄ，４Ｃ，ベンジル基におけるＡｒ），１２８．７（ｄ，２Ｃ，ベンジル基におけるＡｒ），１１５．０（ｓ，２Ｃ），１０８．４（ｄ，２Ｃ，ヘキサヒドロキシジフェノイル基におけるＡｒ），７８．９（ｄ，２Ｃ，酒石酸エステル），７４．８（ｔ，２Ｃ），６１．２（ｔ，２Ｃ），５７．８（ｑ，２Ｃ，酒石酸エステルにおけるＣＨ３）
ｍｐ １０４．８−１０５．９℃
ＨＲＭＳ−ＥＳＩ（ｍ／ｚ）：［Ｍ＋Ｎａ］＋
計算値（Ｃ３４Ｈ３２Ｏ１２として）６５５．１７９１，測定値６５７．１７８６
上記の１Ｈ−ＮＭＲデータから、得られる化合物（１２）は、単一の軸不斉を持っていることを確認した。
［α］２５ Ｄ＝＋１４．２°（ｃ＝１．００，ＣＨＣｌ３）
１Ｈ−ＮＭＲ（４００ＭＨｚ，（ＣＤ３）２ＣＯ）（δｐｐｍ）：
７．５５−７．５３（ｂｒ−ｄ，４Ｈ，Ａｒ−Ｈ），７．３８−７．３１（ｍ，６Ｈ，Ａｒ−Ｈ），６．６３（ｓ，２Ｈ，ガロイル基におけるＡｒ−Ｈ），５．１８（ｄ，２Ｈ，ＰｈＣＨ２），５．１３（ｄ，２Ｈ，ＰｈＣＨ２），４．３９（ｄ，２Ｈ，酒石酸エステル），４．１３−４．１０（ｂｒ−ｄ，２Ｈ，酒石酸エステル），３．５８（ｂｒ−ｄ，２Ｈ，酒石酸エステル），３．４５（ｓ，３Ｈ，エステル部位におけるＯＣＨ３）
１３Ｃ−ＮＭＲ（１００ＭＨｚ，（ＣＤ３）２ＣＯ）（δｐｐｍ）：
１６８．３（ｓ，２Ｃ，Ｃ＝Ｏ），１５０．４（ｓ，２Ｃ），１５０．２（ｓ，２Ｃ），１３８．９（ｓ，２Ｃ），１３６．８（ｓ，２Ｃ），１３１．４（ｓ，２Ｃ），１２９．３（ｄ，４Ｃ，ベンジル基におけるＡｒ），１２９．１（ｄ，４Ｃ，ベンジル基におけるＡｒ），１２８．７（ｄ，２Ｃ，ベンジル基におけるＡｒ），１１５．０（ｓ，２Ｃ），１０８．４（ｄ，２Ｃ，ヘキサヒドロキシジフェノイル基におけるＡｒ），７８．９（ｄ，２Ｃ，酒石酸エステル），７４．８（ｔ，２Ｃ），６１．２（ｔ，２Ｃ），５７．８（ｑ，２Ｃ，酒石酸エステルにおけるＣＨ３）
ｍｐ １０４．８−１０５．９℃
ＨＲＭＳ−ＥＳＩ（ｍ／ｚ）：［Ｍ＋Ｎａ］＋
計算値（Ｃ３４Ｈ３２Ｏ１２として）６５５．１７９１，測定値６５７．１７８６
上記の１Ｈ−ＮＭＲデータから、得られる化合物（１２）は、単一の軸不斉を持っていることを確認した。
合成例６
（８Ｓ，９Ｓ，１６ａＲ）−２，１５−ジベンジルオキシ−１，３，８，９，１４，１６−ヘキサメトキシ−７，８，９，１０−テトラヒドロ−ジベンゾ［ｈ，ｊ］［１，６］ジオキサシクロドデシン−５，１２−ジオン（１３）の製造
（８Ｓ，９Ｓ，１６ａＲ）−２，１５−ジベンジルオキシ−１，３，８，９，１４，１６−ヘキサメトキシ−７，８，９，１０−テトラヒドロ−ジベンゾ［ｈ，ｊ］［１，６］ジオキサシクロドデシン−５，１２−ジオン（１３）の製造
３０ｍｌのなすフラスコ中で、合成例５で製造した（８Ｓ，９Ｓ，１６ａＲ）−２，１５−ジベンジルオキシ−１，３，１４，１６−テトラヒドロキシ−８，９−ジメトキシ−７，８，９，１０−テトラヒドロ−ジベンゾ［ｈ，ｊ］［１，６］ジオキサシクロドデシン−５，１２−ジオン（１２）の全量をアセトン（９．５ｍｌ）に溶解し、ヨードメタン（０．１９６ｍｌ，３．１５ｍｍｏｌ）及び炭酸カリウム（６５３ｍｇ，４．７３ｍｍｏｌ）を加え、終夜加熱還流した。反応の進行をＴＬＣ及びマススペクトルにより確認した後、綿栓濾過を行い、炭酸カリウムを除去した。濾液をジクロロメタンで希釈し、有機層を水及び飽和塩化ナトリウム水溶液で順次洗浄し、無水硫酸マグネシウムを加え乾燥させた。綿栓濾過を行い、濾液を減圧下で濃縮して得られた粗結晶をジクロロメタン／ｎ−ヘキサンから再結晶させ、標記化合物（１３）（黄色結晶，１０６ｍｇ，０．１５４ｍｍｏｌ，合成例５及び合成例６の総収率４９％）を得た。
化合物（１３）の物性値は以下の通りである。
ｍｐ ２０２．２−２０２．７℃
［α］２５ Ｄ＝＋１０１°（ｃ＝１．００，ＣＨＣｌ３）
１Ｈ−ＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）（δｐｐｍ）：
７．４４−７．４２（ｂｒ−ｄ，４Ｈ，Ａｒ−Ｈ），７．３０−７．２２（ｍ，６Ｈ，Ａｒ−Ｈ），６．７９（ｓ，２Ｈ，ガロイル基におけるＡｒ−Ｈ），５．１１（ｄ，２Ｈ，ＰｈＣＨ２），５．０３（ｄ，２Ｈ，ＰｈＣＨ２），４．４１（ｄ，２Ｈ，酒石酸エステル），４．１０−４．０６（ｂｒ−ｄ，２Ｈ，酒石酸エステル），３．７８（ｓ，６Ｈ，ヘキサヒドロキシジフェノイル基におけるＯＣＨ３），３．５８（ｓ，６Ｈ，ヘキサヒドロキシジフェノイル基におけるＯＣＨ３），３．５２（ｄｄ，２Ｈ，酒石酸エステル），３．４４（ｓ，６Ｈ，酒石酸エステルにおけるＯＣＨ３）
１３Ｃ−ＮＭＲ（１００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）（δｐｐｍ）：
１６７．９（ｓ），１５３．２（ｓ），１５２．８（ ｓ），１４３．３（ｓ），１３７．７（ｓ），１２８．６（ｄ，４Ｃ，ベンジル基におけるＡｒ），１２８．４（ｄ，４Ｃ，ベンジル基におけるＡｒ），１２８．１（ｄ，２Ｃ，ベンジル基におけるＡｒ），１２２．８（ｓ），１６７．９−１２２．８（ｓ，隠れたｓピーク），１０７．０（ｄ，２Ｃ，ヘキサヒドロキシジフェノイル基におけるＡｒ），７８．４（ｄ，２Ｃ，酒石酸エステル），７５．１（ｔ，２Ｃ），６１．８（ｔ，２Ｃ），６１．１（ｑ，２Ｃ），５８．７（ｑ，２ｃ），５６．３（ｑ，２ｃ）
ＨＲＭＳ−ＥＳＩ（ｍ／ｚ）：［Ｍ＋Ｎａ］＋
計算値（Ｃ３８Ｈ４０Ｏ１２として）７１１．２４１７，測定値７１１．２３９８
得られる化合物（１３）につきＸ線構造解析を行ったところ、軸不斉はＲであることを確認した。
ｍｐ ２０２．２−２０２．７℃
［α］２５ Ｄ＝＋１０１°（ｃ＝１．００，ＣＨＣｌ３）
１Ｈ−ＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）（δｐｐｍ）：
７．４４−７．４２（ｂｒ−ｄ，４Ｈ，Ａｒ−Ｈ），７．３０−７．２２（ｍ，６Ｈ，Ａｒ−Ｈ），６．７９（ｓ，２Ｈ，ガロイル基におけるＡｒ−Ｈ），５．１１（ｄ，２Ｈ，ＰｈＣＨ２），５．０３（ｄ，２Ｈ，ＰｈＣＨ２），４．４１（ｄ，２Ｈ，酒石酸エステル），４．１０−４．０６（ｂｒ−ｄ，２Ｈ，酒石酸エステル），３．７８（ｓ，６Ｈ，ヘキサヒドロキシジフェノイル基におけるＯＣＨ３），３．５８（ｓ，６Ｈ，ヘキサヒドロキシジフェノイル基におけるＯＣＨ３），３．５２（ｄｄ，２Ｈ，酒石酸エステル），３．４４（ｓ，６Ｈ，酒石酸エステルにおけるＯＣＨ３）
１３Ｃ−ＮＭＲ（１００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）（δｐｐｍ）：
１６７．９（ｓ），１５３．２（ｓ），１５２．８（ ｓ），１４３．３（ｓ），１３７．７（ｓ），１２８．６（ｄ，４Ｃ，ベンジル基におけるＡｒ），１２８．４（ｄ，４Ｃ，ベンジル基におけるＡｒ），１２８．１（ｄ，２Ｃ，ベンジル基におけるＡｒ），１２２．８（ｓ），１６７．９−１２２．８（ｓ，隠れたｓピーク），１０７．０（ｄ，２Ｃ，ヘキサヒドロキシジフェノイル基におけるＡｒ），７８．４（ｄ，２Ｃ，酒石酸エステル），７５．１（ｔ，２Ｃ），６１．８（ｔ，２Ｃ），６１．１（ｑ，２Ｃ），５８．７（ｑ，２ｃ），５６．３（ｑ，２ｃ）
ＨＲＭＳ−ＥＳＩ（ｍ／ｚ）：［Ｍ＋Ｎａ］＋
計算値（Ｃ３８Ｈ４０Ｏ１２として）７１１．２４１７，測定値７１１．２３９８
得られる化合物（１３）につきＸ線構造解析を行ったところ、軸不斉はＲであることを確認した。
合成例７
（２Ｓ，３Ｓ）−１，４−ジベンジルオキシ−２，３−ブタンジオール ジ［４−ベンジルオキシベンゾエート］（１６）の製造
（２Ｓ，３Ｓ）−１，４−ジベンジルオキシ−２，３−ブタンジオール ジ［４−ベンジルオキシベンゾエート］（１６）の製造
使用に先立って、ベンゼンを用いて（２Ｓ，３Ｓ）−１，４−ジベンジルオキシ−２，３−ブタンジオール（１４）を乾燥した。この乾燥物をジクロロメタン（１０ｍｌ）に溶解し、４−ベンジルオキシ−３，５−（ジメトキシメトキシ）安息香酸（６）（２．５９ｇ，７．４４ｍｍｏｌ）、樟脳スルホン酸（３８４ｍｇ，１．６５ ｍｍｏｌ）、１−エチル−３−（３−ジメチルアミノプロピル）カルボジイミド・塩酸塩（２．５４ｇ，１３．２ｍｍｏｌ）及びジメチルアミノピリジン（４０４ｍｇ，３．３１ ｍｍｏｌ）を加えた。混合物をアルゴン気流下、室温で１２時間撹拌した。１Ｍリン酸水溶液を加え、水性混合物を酢酸エチル２０ｍｌで３回抽出した。一般的な乾燥操作の後、濾液をエバポレートして粗製の（２Ｓ，３Ｓ）−２，３−ジベンジルオキシ−１，４−ブタンジオール ジ［４−ベンジルオキシ−３，５−ジヒドロキシベンゾエート］（１５）を無色油状物として得た。
粗製の化合物（１５）のテトラヒドロフラン（８ｍｌ）溶液に、イソプロピルアルコール（２５ｍｌ）及び濃塩酸（０．５ｍｌ）を加えた。混合物を５０℃で９時間撹拌した。混合物を０℃に冷却し、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液を加えた。エバポレーターによりイソプロピルアルコールを回収し、水性混合物を酢酸エチル２０ｍｌで３回抽出した。有機層を合わせ、水３０ｍｌで１回、次いで飽和食塩水３０ｍｌで１回洗浄した。混合物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（シリカゲル１００ｇ、ｎ−ヘキサン／酢酸エチル＝６／１→０／１）で精製し、無色アモルファス固体として、標記化合物（１６）（２．４１ｇ，収率９２％）を得た。
化合物（１５）の物性：
［α］２４ Ｄ＝＋１２．１°（ｃ＝１．１２，ＣＨＣｌ３）
ＩＲ（ＺｎＳｅ，薄膜）νｍａｘ（ｃｍ−１）：
３０３３，２９０５，１７２１，１５９０，１３２９，１２１７，１１９４，１０４８，７５８，６９８
１Ｈ−ＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）（δｐｐｍ）：
３．４３（ｓ，１２Ｈ），３．７２−３．８０（ｍ，４Ｈ），４．４７（ｄ，２ＪＨＨ＝１１．９Ｈｚ，２Ｈ），４．５６（ｄ，２ＪＨＨ＝１１．９Ｈｚ，２Ｈ），５．１０（ｓ，４Ｈ），５．１３（ｄ，２ＪＨＨ＝８．４Ｈｚ，４Ｈ），５．１５（ｄ，２ＪＨＨ＝８．４ Ｈｚ，４Ｈ）５．６５−５．７０（ｍ，２Ｈ），７．２０−７．３６（ｍ，１６Ｈ），７．４４−７．４６（ｍ，４Ｈ），７．４９（ｓ，４Ｈ）
１３Ｃ−ＮＭＲ（１００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）（δｐｐｍ）：
５６．５（ｑ，４Ｃ，ＯＣＨ３ ｉｎ ｔｈｅ ＭＯＭ），６８．４（ｔ，２Ｃ），７２．２（ｄ，２Ｃ），７３．５（ｔ，２Ｃ），７５．４（ｔ，２Ｃ），９５．７（ｔ，４Ｃ），１１２．６（ｄ，４Ｃ，Ａｒ−ｇａｌｌｏｙｌ），１２５．５（ｓ，２Ｃ），１２７．８（ｄ，２Ｃ，Ａｒ−Ｂｎ），１２７．９（ｄ，４Ｃ，Ａｒ−Ｂｎ），１２８．２（ｄ，２Ｃ，Ａｒ−Ｂｎ），１２８．４（ｄ，８Ｃ，Ａｒ−Ｂｎ），１２８．５（ｄ，４Ｃ，Ａｒ−Ｂｎ），１３７．５（ｓ，２Ｃ），１３７．９（ｓ，２Ｃ），１４３．５（ｓ，２Ｃ），１５１．０（ｓ，４Ｃ，Ａｒ−ｇａｌｌｏｙｌ ａｔ ＭＯＭ），１６５．３（ｓ，２Ｃ，Ｃ＝Ｏ）
ＨＲＭＳ−ＥＳＩ（ｍ／ｚ）：［Ｍ＋Ｎａ］＋
計算値（Ｃ５４Ｈ５８ ２３Ｎａ１Ｏ１６として）９８５．３６２３，測定値９８５．３６４２。
［α］２４ Ｄ＝＋１２．１°（ｃ＝１．１２，ＣＨＣｌ３）
ＩＲ（ＺｎＳｅ，薄膜）νｍａｘ（ｃｍ−１）：
３０３３，２９０５，１７２１，１５９０，１３２９，１２１７，１１９４，１０４８，７５８，６９８
１Ｈ−ＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）（δｐｐｍ）：
３．４３（ｓ，１２Ｈ），３．７２−３．８０（ｍ，４Ｈ），４．４７（ｄ，２ＪＨＨ＝１１．９Ｈｚ，２Ｈ），４．５６（ｄ，２ＪＨＨ＝１１．９Ｈｚ，２Ｈ），５．１０（ｓ，４Ｈ），５．１３（ｄ，２ＪＨＨ＝８．４Ｈｚ，４Ｈ），５．１５（ｄ，２ＪＨＨ＝８．４ Ｈｚ，４Ｈ）５．６５−５．７０（ｍ，２Ｈ），７．２０−７．３６（ｍ，１６Ｈ），７．４４−７．４６（ｍ，４Ｈ），７．４９（ｓ，４Ｈ）
１３Ｃ−ＮＭＲ（１００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）（δｐｐｍ）：
５６．５（ｑ，４Ｃ，ＯＣＨ３ ｉｎ ｔｈｅ ＭＯＭ），６８．４（ｔ，２Ｃ），７２．２（ｄ，２Ｃ），７３．５（ｔ，２Ｃ），７５．４（ｔ，２Ｃ），９５．７（ｔ，４Ｃ），１１２．６（ｄ，４Ｃ，Ａｒ−ｇａｌｌｏｙｌ），１２５．５（ｓ，２Ｃ），１２７．８（ｄ，２Ｃ，Ａｒ−Ｂｎ），１２７．９（ｄ，４Ｃ，Ａｒ−Ｂｎ），１２８．２（ｄ，２Ｃ，Ａｒ−Ｂｎ），１２８．４（ｄ，８Ｃ，Ａｒ−Ｂｎ），１２８．５（ｄ，４Ｃ，Ａｒ−Ｂｎ），１３７．５（ｓ，２Ｃ），１３７．９（ｓ，２Ｃ），１４３．５（ｓ，２Ｃ），１５１．０（ｓ，４Ｃ，Ａｒ−ｇａｌｌｏｙｌ ａｔ ＭＯＭ），１６５．３（ｓ，２Ｃ，Ｃ＝Ｏ）
ＨＲＭＳ−ＥＳＩ（ｍ／ｚ）：［Ｍ＋Ｎａ］＋
計算値（Ｃ５４Ｈ５８ ２３Ｎａ１Ｏ１６として）９８５．３６２３，測定値９８５．３６４２。
化合物（１６）の物性：
ｍｐ １３９−１４１℃
［α］２５ Ｄ＝＋１３．４°（ｃ＝１．５２，ＣＨＣｌ３）
ＩＲ（ＺｎＳｅ，薄膜）νｍａｘ（ｃｍ−１）：
３４２４，１７０７，１５９７，１４５５，１３６４，１２１５，１０５５，７５４，６９８
１Ｈ−ＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）（δｐｐｍ）：
３．７０（ｂｒｄ，３ＪＨＨ＝３．９Ｈｚ，４Ｈ），４．４４（ｄ，２ＪＨＨ＝１２．１Ｈｚ，２Ｈ），４．５３（ｄ，２ＪＨＨ＝１２．１Ｈｚ，２Ｈ），５．１１（ｓ，４Ｈ），５．６２−５．６５（ｍ，２Ｈ），７．１７（ｓ，４Ｈ，Ａｒ−ｇａｌｌｏｙｌ−Ｈ），７．２２−７．２８（ｍ，１０Ｈ，Ａｒ−Ｂｎ−Ｈ），７．３４−７．３８（ｍ，１０Ｈ，Ａｒ−Ｂｎ−Ｈ）
１３Ｃ−ＮＭＲ（１００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）（δｐｐｍ）：
６８．３（ｔ，２Ｃ），７１．９（ｄ，２Ｃ），７３．５（ｔ，２Ｃ），７５．６（ｔ，２Ｃ），１１０．１（ｄ，４Ｃ，Ａｒ−ｇａｌｌｏｙｌ），１２５．４（ｓ，２Ｃ），１２８．０（ｄ，２Ｃ，Ａｒ−Ｂｎ），１２８．１（ｄ，４Ｃ，Ａｒ−Ｂｎ），１２８．６（ｄ，４Ｃ，Ａｒ−Ｂｎ），１２８．８（ｄ，４Ｃ，Ａｒ−Ｂｎ），１２９．０（ｄ，６Ｃ，Ａｒ−Ｂｎ），１３６．７（ｓ，２Ｃ），１３７．５（ｓ，２Ｃ），１３７．９（ｓ，２Ｃ），１４９．２（ｓ，４Ｃ，Ａｒ−ｇａｌｌｏｙｌ ａｔ ｈｙｄｒｏｘｙ ｇｒｏｕｐ），１６５．９（ｓ，２Ｃ，Ｃ＝Ｏ）
ＨＲＭＳ−ＥＳＩ（ｍ／ｚ）：［Ｍ＋Ｎａ］＋
計算値（Ｃ４６Ｈ４２ ２３Ｎａ１Ｏ１２として）８０９．２５７４，測定値８０９．２５６０。
ｍｐ １３９−１４１℃
［α］２５ Ｄ＝＋１３．４°（ｃ＝１．５２，ＣＨＣｌ３）
ＩＲ（ＺｎＳｅ，薄膜）νｍａｘ（ｃｍ−１）：
３４２４，１７０７，１５９７，１４５５，１３６４，１２１５，１０５５，７５４，６９８
１Ｈ−ＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）（δｐｐｍ）：
３．７０（ｂｒｄ，３ＪＨＨ＝３．９Ｈｚ，４Ｈ），４．４４（ｄ，２ＪＨＨ＝１２．１Ｈｚ，２Ｈ），４．５３（ｄ，２ＪＨＨ＝１２．１Ｈｚ，２Ｈ），５．１１（ｓ，４Ｈ），５．６２−５．６５（ｍ，２Ｈ），７．１７（ｓ，４Ｈ，Ａｒ−ｇａｌｌｏｙｌ−Ｈ），７．２２−７．２８（ｍ，１０Ｈ，Ａｒ−Ｂｎ−Ｈ），７．３４−７．３８（ｍ，１０Ｈ，Ａｒ−Ｂｎ−Ｈ）
１３Ｃ−ＮＭＲ（１００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）（δｐｐｍ）：
６８．３（ｔ，２Ｃ），７１．９（ｄ，２Ｃ），７３．５（ｔ，２Ｃ），７５．６（ｔ，２Ｃ），１１０．１（ｄ，４Ｃ，Ａｒ−ｇａｌｌｏｙｌ），１２５．４（ｓ，２Ｃ），１２８．０（ｄ，２Ｃ，Ａｒ−Ｂｎ），１２８．１（ｄ，４Ｃ，Ａｒ−Ｂｎ），１２８．６（ｄ，４Ｃ，Ａｒ−Ｂｎ），１２８．８（ｄ，４Ｃ，Ａｒ−Ｂｎ），１２９．０（ｄ，６Ｃ，Ａｒ−Ｂｎ），１３６．７（ｓ，２Ｃ），１３７．５（ｓ，２Ｃ），１３７．９（ｓ，２Ｃ），１４９．２（ｓ，４Ｃ，Ａｒ−ｇａｌｌｏｙｌ ａｔ ｈｙｄｒｏｘｙ ｇｒｏｕｐ），１６５．９（ｓ，２Ｃ，Ｃ＝Ｏ）
ＨＲＭＳ−ＥＳＩ（ｍ／ｚ）：［Ｍ＋Ｎａ］＋
計算値（Ｃ４６Ｈ４２ ２３Ｎａ１Ｏ１２として）８０９．２５７４，測定値８０９．２５６０。
合成例８
（７Ｓ，８Ｓ，１４ａＳ）−２，１３−ジベンジルオキシ−１，３，１２，１４−テトラヒドロキシ−７，８−ジベンジルオキシメチル−７，８−ジヒドロ−ジベンゾ［ｆ，ｈ］［１，４］ジオキサデシン−５，１０−ジオン（１７）の製造
（７Ｓ，８Ｓ，１４ａＳ）−２，１３−ジベンジルオキシ−１，３，１２，１４−テトラヒドロキシ−７，８−ジベンジルオキシメチル−７，８−ジヒドロ−ジベンゾ［ｆ，ｈ］［１，４］ジオキサデシン−５，１０−ジオン（１７）の製造
使用に先立って、アセトニトリルを用いて化合物（１６）（７６．１ｍｇ，０．１００ｍｍｏｌ）を乾燥した。乾燥物をメタノール（３．０ｍｌ）に溶解した。他のフラスコに、塩化第二銅（６８．３ ｍｇ，０．５００ｍｍｏｌ）及びｎ−ブチルアミン（１４６ｍｇ，２．００ｍｍｏｌ）を加えた。塩化第二銅及びｎ−ブチルアミンの混合物にメタノール（７．０ｍｌ）を加え、室温で２０分間撹拌して、ブルーの塩化第二銅−ｎ−ブチルアミン錯体の溶液を調製した。塩化第二銅−ｎ−ブチルアミン錯体溶液に、化合物（１６）のメタノール溶液を加え、窒素気流下、室温で１．５時間撹拌した。反応混合物を１Ｍ塩酸水溶液及び飽和塩化アンモニウム溶液でクエンチした。メタノールをエバポレーターにより除去した後、水性混合物を酢酸エチル１０ｍｌで３回洗浄した。有機層を合わせ、１Ｍ塩酸水溶液６０ｍｌで１回、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液２０ｍｌで１回、水２０ｍｌで２回及び飽和食塩水２０ｍｌで１回順次洗浄した。一般的な乾燥操作の後、濾液をエバポレートして標記化合物（１７）を黄色アモルファス固体として得た。
ＨＲＭＳ−ＥＳＩ（ｍ／ｚ）：［Ｍ＋Ｎａ］＋
計算値（Ｃ４６Ｈ４０ ２３Ｎａ１Ｏ１２として）８０７．２４１７，測定値８０７．２４０１。
ＨＲＭＳ−ＥＳＩ（ｍ／ｚ）：［Ｍ＋Ｎａ］＋
計算値（Ｃ４６Ｈ４０ ２３Ｎａ１Ｏ１２として）８０７．２４１７，測定値８０７．２４０１。
参考例１
（８Ｓ，９Ｓ，１６ａＲ）−１，２，３，１４，１５，１６−ヘキサベンジルオキシ−８，９−ジメトキシ−７，８，９，１０−テトラヒドロ−ジベンゾ［ｈ，ｊ］［１，６］ジオキサシクロドデシン−５，１２−ジオン（１８）の製造
（８Ｓ，９Ｓ，１６ａＲ）−１，２，３，１４，１５，１６−ヘキサベンジルオキシ−８，９−ジメトキシ−７，８，９，１０−テトラヒドロ−ジベンゾ［ｈ，ｊ］［１，６］ジオキサシクロドデシン−５，１２−ジオン（１８）の製造
１．２ｇの（２Ｓ，３Ｓ）−２，３−ジメトキシ−１，４−ブタンジオール ジ［４−ベンジルオキシベンゾエート］（１１）を用いて、合成例５と同じ方法で製造した（８Ｓ，９Ｓ，１６ａＲ）−２，１５−ジベンジルオキシ−１，３，１４，１６−テトラヒドロキシ−８，９−ジメトキシ−７，８，９，１０−テトラヒドロ−ジベンゾ［ｈ，ｊ］［１，６］ジオキサシクロドデシン−５，１２−ジオン（１２）の全量をアセトン（２２ｍｌ）に溶解し、ヨードメタン（１７６ｍｇ，１．０６ｍｍｏｌ）、炭酸カリウム（１．４６ｇ，１０．６ｍｍｏｌ）及びベンジルクロライド（１．２２ｍｌ，１０．６ｍｍｏｌ）を加え、撹拌しながら、終夜加熱還流した。反応の進行をＴＬＣ及びマススペクトルにより確認した後、綿栓濾過を行い、炭酸カリウムを除去した。濾液を酢酸エチルで希釈し、有機層を飽和塩化アンモニウム水溶液、水及び飽和塩化ナトリウム水溶液で順次洗浄し、無水硫酸マグネシウムを加え乾燥させた。綿栓濾過を行い、濾液を減圧下で濃縮して得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（シリカゲル３６ｇ，酢酸エチル：ｎ−ヘキサン＝４：１→３：１→２：１→１：１）に付し、標記化合物（１８）（無色シロップ，８６６ｍｇ，０．８７２ｍｍｏｌ，合成例５及び参考例１の総収率４２％）を得た。
［α］２４ Ｄ＝＋３５．７°（ｃ＝１．１３，ＣＨＣｌ３）
１Ｈ−ＮＭＲ（４００ＭＨｚ，（ＣＤ３）２ＣＯ）（δｐｐｍ）：
７．６０−７．５８（ｂｒ−ｄ，４Ｈ，Ａｒ−Ｈ），７．４６−７．３８（ｍ，１０Ｈ，Ａｒ−Ｈ），７．２８−７．２７（ｂｒ−ｔ，６Ｈ，Ａｒ−Ｈ），７．２２（ｓ，２Ｈ，Ａｒ−Ｈ），７．１８−７．１６（ｂｒ−ｔ，６Ｈ，Ａｒ−Ｈ），７．０１−６．９９（ｍ，４Ｈ），５．２８（ｄ，２Ｈ，ＰｈＣＨ２），５．２４（ｄ，２Ｈ，ＰｈＣＨ２），５．０２（ｄ，３Ｈ，ＰｈＣＨ２），４．９７（ｄ，３Ｈ，ＰｈＣＨ２），４．８０（ｄ，２Ｈ，ＰｈＣＨ２），４．４８（ｄ，２Ｈ，酒石酸エステル），４．２３−４．２０（ｂｒ−ｄ，２Ｈ，酒石酸エステル），３．６５（ｂｒ−ｄｄ，２Ｈ，酒石酸エステル），３．４９（ｓ，６Ｈ，酒石酸エステルにおけるＯＣＨ３）
１３Ｃ−ＮＭＲ（１００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）（δｐｐｍ）：
１６８．４（ｓ，２Ｃ，Ｃ＝Ｏ），１５３．５（ｓ，２Ｃ），１５３．０（ｓ，２Ｃ），１４５．２（ｓ，２Ｃ），１３８．９（ｓ，２Ｃ），１３８．８（ｓ，２Ｃ），１３８．０（ｓ，２ｃ），１３０．５（ｓ，２ｃ），１２９．４（ｄ，ベンジル基におけるＡｒ），１２９．１（ｄ，ベンジル基におけるＡｒ），１２９．０（ｄ，ベンジル基におけるＡｒ），１２８．９（ｄ，ベンジル基におけるＡｒ），１２８．８（ｄ，Ａｒ−Ｂｎ），１２８．７（ｄ，ベンジル基におけるＡｒ），１２８．５（ｄ，ベンジル基におけるＡｒ），１２９．４−１２８．５（２つの隠れたｄピーク），１２４．２（ｓ，２Ｃ），１０９．７（ｄ，２Ｃ，ヘキサヒドロキシジフェノイル基におけるＡｒ），７８．７（ｄ，２Ｃ，酒石酸エステル），７６．１（ｔ，２Ｃ），７５．６（ｔ，２Ｃ），７１．９（ｔ，２ｃ），６１．７（ｔ，２ｃ），５８．０（ｑ，２Ｃ，酒石酸エステルにおけるＯＣＨ３）
ＨＲＭＳ−ＥＳＩ（ｍ／ｚ）：［Ｍ＋Ｎａ］＋
計算値（Ｃ６２Ｈ５６Ｏ１２として）１０１５．３６６９，測定値１０１５．３６２６。
［α］２４ Ｄ＝＋３５．７°（ｃ＝１．１３，ＣＨＣｌ３）
１Ｈ−ＮＭＲ（４００ＭＨｚ，（ＣＤ３）２ＣＯ）（δｐｐｍ）：
７．６０−７．５８（ｂｒ−ｄ，４Ｈ，Ａｒ−Ｈ），７．４６−７．３８（ｍ，１０Ｈ，Ａｒ−Ｈ），７．２８−７．２７（ｂｒ−ｔ，６Ｈ，Ａｒ−Ｈ），７．２２（ｓ，２Ｈ，Ａｒ−Ｈ），７．１８−７．１６（ｂｒ−ｔ，６Ｈ，Ａｒ−Ｈ），７．０１−６．９９（ｍ，４Ｈ），５．２８（ｄ，２Ｈ，ＰｈＣＨ２），５．２４（ｄ，２Ｈ，ＰｈＣＨ２），５．０２（ｄ，３Ｈ，ＰｈＣＨ２），４．９７（ｄ，３Ｈ，ＰｈＣＨ２），４．８０（ｄ，２Ｈ，ＰｈＣＨ２），４．４８（ｄ，２Ｈ，酒石酸エステル），４．２３−４．２０（ｂｒ−ｄ，２Ｈ，酒石酸エステル），３．６５（ｂｒ−ｄｄ，２Ｈ，酒石酸エステル），３．４９（ｓ，６Ｈ，酒石酸エステルにおけるＯＣＨ３）
１３Ｃ−ＮＭＲ（１００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）（δｐｐｍ）：
１６８．４（ｓ，２Ｃ，Ｃ＝Ｏ），１５３．５（ｓ，２Ｃ），１５３．０（ｓ，２Ｃ），１４５．２（ｓ，２Ｃ），１３８．９（ｓ，２Ｃ），１３８．８（ｓ，２Ｃ），１３８．０（ｓ，２ｃ），１３０．５（ｓ，２ｃ），１２９．４（ｄ，ベンジル基におけるＡｒ），１２９．１（ｄ，ベンジル基におけるＡｒ），１２９．０（ｄ，ベンジル基におけるＡｒ），１２８．９（ｄ，ベンジル基におけるＡｒ），１２８．８（ｄ，Ａｒ−Ｂｎ），１２８．７（ｄ，ベンジル基におけるＡｒ），１２８．５（ｄ，ベンジル基におけるＡｒ），１２９．４−１２８．５（２つの隠れたｄピーク），１２４．２（ｓ，２Ｃ），１０９．７（ｄ，２Ｃ，ヘキサヒドロキシジフェノイル基におけるＡｒ），７８．７（ｄ，２Ｃ，酒石酸エステル），７６．１（ｔ，２Ｃ），７５．６（ｔ，２Ｃ），７１．９（ｔ，２ｃ），６１．７（ｔ，２ｃ），５８．０（ｑ，２Ｃ，酒石酸エステルにおけるＯＣＨ３）
ＨＲＭＳ−ＥＳＩ（ｍ／ｚ）：［Ｍ＋Ｎａ］＋
計算値（Ｃ６２Ｈ５６Ｏ１２として）１０１５．３６６９，測定値１０１５．３６２６。
参考例２
（１Ｒ）−４，５，６，４’，５’，６’−ヘキサベンジルオキシ−［１，１’−ビフェニル］−２，２’−ジメタノール（１９）の製造
（１Ｒ）−４，５，６，４’，５’，６’−ヘキサベンジルオキシ−［１，１’−ビフェニル］−２，２’−ジメタノール（１９）の製造
３０ｍｌのなすフラスコ中で、上記参考例１で製造した（８Ｓ，９Ｓ，１６ａＲ）−１，２，３，１４，１５，１６−ヘキサベンジルオキシ−８，９−ジメトキシ−７，８，９，１０−テトラヒドロ−ジベンゾ［ｈ，ｊ］［１，６］ジオキサシクロドデシン−５，１２−ジオン（１８）（６００ｍｇ，０．６０４ｍｍｏｌ）をジエチルエーテル（６ｍｌ）に溶解し、水素化リチウムアルミニウム（５７．６ｍｇ，１．５１ｍｍｏｌ）を加え、室温で３時間撹拌した。反応の進行をＴＬＣ及びマススペクトルにより確認した後、ジエチルエーテル、水及び飽和酒石酸ナトリウムカリウム水溶液を加えてクエンチし、アルミニウム塩を捕捉し、無水硫酸マグネシウムを加え、乾燥させた。綿栓濾過を行い、濾液を減圧下で濃縮して得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（シリカゲル３６ｇ，ｎ−ヘキサン：酢酸エチル＝４：１→３：１→２：１→１：１）に付し、標記化合物（１９）（無色シロップ，４２９ｍｇ，０．５０４ｍｍｏｌ，８１％）を得た。
［α］２４ Ｄ＝−７５°（ｃ＝１．１２，ＣＨＣｌ３）
１Ｈ−ＮＭＲ（４００ＭＨｚ，（ＣＤ３）２ＣＯ）（δｐｐｍ）：
７．６５（ｄ，４Ｈ，Ａｒ−Ｈ），７．４９−７．３９（ｍ，１０Ｈ，Ａｒ−Ｈ），７．３７（ｓ，２Ｈ，Ａｒ−Ｈ），７．２２（２，２Ｈ，Ａｒ−Ｈ），７．１８−７．１６（ｂｒ−ｔ，６Ｈ，Ａｒ−Ｈ），７．０１−６．９９（ｍ，４Ｈ），５．３０（ｓ，４Ｈ），５．１６（ｄ，２Ｈ），５．０７（ｄ，２Ｈ），４．９９（ｓ，４Ｈ），４．５７（ｓ，２Ｈ），４．４３（ｄｄｄｄ，４Ｈ）
１３Ｃ−ＮＭＲ（１００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）（δｐｐｍ）：
１５３．７（ｓ，２Ｃ），１５１．７（ｓ，２Ｃ），１４２．１（ｓ，２Ｃ），１３９．１（ｓ，２Ｃ），１３９．０（ｓ，２Ｃ），１３８．４（ｓ，２Ｃ），１３８．０（ｓ，２ｃ），１２９．４（ｄ，ベンジル基におけるＡｒ），１２９．３（ｄ，ベンジル基におけるＡｒ），１２９．１（ｄ，ベンジル基におけるＡｒ），１２９．０（ｄ，ベンジル基におけるＡｒ），１２８．９（ｄ，ベンジル基におけるＡｒ），１２８．７（ｄ，ベンジル基におけるＡｒ），１２８．７（ｄ，ベンジル基におけるＡｒ），１２８．３（ｄ，ベンジル基におけるＡｒ）１２８．３（ｄ，ベンジル基におけるＡｒ），１２３．１（ｓ，２Ｃ），１１０．３（ｄ，２Ｃ，ヘキサヒドロキシジフェノイル基におけるＡｒ），７６．０（ｔ，２Ｃ，−ＯＣＨ２Ａｒ），７５．４（ｔ，２Ｃ，−ＯＣＨ２Ａｒ），７１．７（ｔ，２Ｃ，−ＯＣＨ２Ａｒ），６３．０（ｔ，２ｃ，−ＣＨ２ＯＨ）
ＨＲＭＳ−ＥＳＩ（ｍ／ｚ）：［Ｍ＋Ｎａ］＋
計算値（Ｃ５６Ｈ５０Ｏ８として）８７３．３４０３，測定値８７３．３３７０
参考例３
（７Ｓ，８Ｓ，１４ａＳ）−１，２，３，１２，１３，１４−ヘキサベンジルオキシ−７，８−ジベンジルオキシメチル−７，８−ジヒドロ−ジベンゾ［ｆ，ｈ］［１，４］ジオキサデシン−５，１０−ジオン（２０）の製造
［α］２４ Ｄ＝−７５°（ｃ＝１．１２，ＣＨＣｌ３）
１Ｈ−ＮＭＲ（４００ＭＨｚ，（ＣＤ３）２ＣＯ）（δｐｐｍ）：
７．６５（ｄ，４Ｈ，Ａｒ−Ｈ），７．４９−７．３９（ｍ，１０Ｈ，Ａｒ−Ｈ），７．３７（ｓ，２Ｈ，Ａｒ−Ｈ），７．２２（２，２Ｈ，Ａｒ−Ｈ），７．１８−７．１６（ｂｒ−ｔ，６Ｈ，Ａｒ−Ｈ），７．０１−６．９９（ｍ，４Ｈ），５．３０（ｓ，４Ｈ），５．１６（ｄ，２Ｈ），５．０７（ｄ，２Ｈ），４．９９（ｓ，４Ｈ），４．５７（ｓ，２Ｈ），４．４３（ｄｄｄｄ，４Ｈ）
１３Ｃ−ＮＭＲ（１００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）（δｐｐｍ）：
１５３．７（ｓ，２Ｃ），１５１．７（ｓ，２Ｃ），１４２．１（ｓ，２Ｃ），１３９．１（ｓ，２Ｃ），１３９．０（ｓ，２Ｃ），１３８．４（ｓ，２Ｃ），１３８．０（ｓ，２ｃ），１２９．４（ｄ，ベンジル基におけるＡｒ），１２９．３（ｄ，ベンジル基におけるＡｒ），１２９．１（ｄ，ベンジル基におけるＡｒ），１２９．０（ｄ，ベンジル基におけるＡｒ），１２８．９（ｄ，ベンジル基におけるＡｒ），１２８．７（ｄ，ベンジル基におけるＡｒ），１２８．７（ｄ，ベンジル基におけるＡｒ），１２８．３（ｄ，ベンジル基におけるＡｒ）１２８．３（ｄ，ベンジル基におけるＡｒ），１２３．１（ｓ，２Ｃ），１１０．３（ｄ，２Ｃ，ヘキサヒドロキシジフェノイル基におけるＡｒ），７６．０（ｔ，２Ｃ，−ＯＣＨ２Ａｒ），７５．４（ｔ，２Ｃ，−ＯＣＨ２Ａｒ），７１．７（ｔ，２Ｃ，−ＯＣＨ２Ａｒ），６３．０（ｔ，２ｃ，−ＣＨ２ＯＨ）
ＨＲＭＳ−ＥＳＩ（ｍ／ｚ）：［Ｍ＋Ｎａ］＋
計算値（Ｃ５６Ｈ５０Ｏ８として）８７３．３４０３，測定値８７３．３３７０
参考例３
（７Ｓ，８Ｓ，１４ａＳ）−１，２，３，１２，１３，１４−ヘキサベンジルオキシ−７，８−ジベンジルオキシメチル−７，８−ジヒドロ−ジベンゾ［ｆ，ｈ］［１，４］ジオキサデシン−５，１０−ジオン（２０）の製造
化合物（１７）のアセトン（２ｍｌ）溶液に、炭酸カリウム（８２．９ｍｇ，０．６００ｍｍｏｌ）及び臭化ベンジル（１０３ｍｇ，０．６００ｍｍｏｌ）を加えた。この混合物をアルゴン気流下、１４時間還流した。反応混合物をコットン−セライトパッドを通して濾過した。濾液をエバポレートし、残渣を酢酸エチル１０ｍｌで希釈し、飽和塩化アンモニウム水溶液１０ｍｌで３回、水１０ｍｌで１回及び飽和食塩水１０ｍｌで１回順次洗浄した。混合物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（シリカゲル３．０ｇ、ｎ−ヘキサン／酢酸エチル＝４／１→１／１）で精製し、黄色アモルファス固体として、標記化合物（２０）（３７．６ｍｇ）を得た。
ｍｐ ７８−８０℃
［α］２５ Ｄ＝−１６．９°（ｃ＝０．９５５，ＣＨＣｌ３）
ＩＲ（ＺｎＳｅ，薄層）νｍａｘ（ｃｍ−１）：
３０６３，２９２６，１７４６，１５９３，１３７２，１１９２，１０９７，７３７，６９６
１Ｈ−ＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）（δｐｐｍ）：
３．７０−３．７９（ｍ，４Ｈ），４．４８（ｄ，２ＪＨＨ＝１２．２Ｈｚ，２Ｈ），４．６２（ｄ，２ＪＨＨ＝１２．２Ｈｚ，２Ｈ），４．６４（ｄ，２ＪＨＨ＝１１．０Ｈｚ，２Ｈ），４．８０（ｄ，２ＪＨＨ＝１０．９Ｈｚ，２Ｈ），４．９５（ｄ，２ＪＨＨ＝１１．０Ｈｚ，２Ｈ），４．９８（ｄ，２ＪＨＨ＝１０．９Ｈｚ，２Ｈ），５．０８（ｄ，２ＪＨＨ＝１１．３Ｈｚ，２Ｈ），５．１８（ｄ，２ＪＨＨ＝１１．３Ｈｚ，２Ｈ），５．４９（ｓ，２Ｈ），６．９０（ｓ，２Ｈ），６．９６−７．０１（ｍ，４Ｈ），７．０７−７．１３（ｍ，６Ｈ），７．２１−７．４２（ｍ，２６Ｈ），７．４３−７．４７（ｍ，４Ｈ）
１３Ｃ−ＮＭＲ（１００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）（δｐｐｍ）：
６７．７（ｔ，２Ｃ），７１．２（ｔ，２Ｃ），７３．３（ｔ，２Ｃ），７５．３（ｄ，２Ｃ），７５．４（ｔ，２Ｃ），７５．５（ｔ，２Ｃ），１０７．０（ｄ，２Ｃ），１２１．５（ｓ，２Ｃ），１２７．４（ｄ，２Ｃ），１２７．６（ｄ，４Ｃ），１２７．８（ｄ，２Ｃ），１２７．９（ｄ，４Ｃ），１２７．９（ｄ，６Ｃ），１２８．０（ｄ，４Ｃ），１２８．１（ｄ，２Ｃ），１２８．２（ｄ，４Ｃ），１２８．４（ｄ，４Ｃ），１２８．５（ｄ，４Ｃ），１２８．６（ｄ，４Ｃ），１２９．７（ｓ，２Ｃ），１３６．５（ｓ，２Ｃ），１３７．５（ｓ，２Ｃ），１３７．６（ｓ，２Ｃ），１３７．７（ｓ，２Ｃ），１４４．１（ｓ，２Ｃ），１５２．５（ｓ，２Ｃ），１５２．７（ｓ，２Ｃ），１６８．０（ｓ，２Ｃ）
ＨＲＭＳ−ＥＳＩ（ｍ／ｚ）：［Ｍ＋Ｎａ］＋
計算値（Ｃ７４Ｈ６４ ２３Ｎａ１Ｏ１２として）１１６７．４２９５，測定値１１６７．４２８１。
ｍｐ ７８−８０℃
［α］２５ Ｄ＝−１６．９°（ｃ＝０．９５５，ＣＨＣｌ３）
ＩＲ（ＺｎＳｅ，薄層）νｍａｘ（ｃｍ−１）：
３０６３，２９２６，１７４６，１５９３，１３７２，１１９２，１０９７，７３７，６９６
１Ｈ−ＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）（δｐｐｍ）：
３．７０−３．７９（ｍ，４Ｈ），４．４８（ｄ，２ＪＨＨ＝１２．２Ｈｚ，２Ｈ），４．６２（ｄ，２ＪＨＨ＝１２．２Ｈｚ，２Ｈ），４．６４（ｄ，２ＪＨＨ＝１１．０Ｈｚ，２Ｈ），４．８０（ｄ，２ＪＨＨ＝１０．９Ｈｚ，２Ｈ），４．９５（ｄ，２ＪＨＨ＝１１．０Ｈｚ，２Ｈ），４．９８（ｄ，２ＪＨＨ＝１０．９Ｈｚ，２Ｈ），５．０８（ｄ，２ＪＨＨ＝１１．３Ｈｚ，２Ｈ），５．１８（ｄ，２ＪＨＨ＝１１．３Ｈｚ，２Ｈ），５．４９（ｓ，２Ｈ），６．９０（ｓ，２Ｈ），６．９６−７．０１（ｍ，４Ｈ），７．０７−７．１３（ｍ，６Ｈ），７．２１−７．４２（ｍ，２６Ｈ），７．４３−７．４７（ｍ，４Ｈ）
１３Ｃ−ＮＭＲ（１００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）（δｐｐｍ）：
６７．７（ｔ，２Ｃ），７１．２（ｔ，２Ｃ），７３．３（ｔ，２Ｃ），７５．３（ｄ，２Ｃ），７５．４（ｔ，２Ｃ），７５．５（ｔ，２Ｃ），１０７．０（ｄ，２Ｃ），１２１．５（ｓ，２Ｃ），１２７．４（ｄ，２Ｃ），１２７．６（ｄ，４Ｃ），１２７．８（ｄ，２Ｃ），１２７．９（ｄ，４Ｃ），１２７．９（ｄ，６Ｃ），１２８．０（ｄ，４Ｃ），１２８．１（ｄ，２Ｃ），１２８．２（ｄ，４Ｃ），１２８．４（ｄ，４Ｃ），１２８．５（ｄ，４Ｃ），１２８．６（ｄ，４Ｃ），１２９．７（ｓ，２Ｃ），１３６．５（ｓ，２Ｃ），１３７．５（ｓ，２Ｃ），１３７．６（ｓ，２Ｃ），１３７．７（ｓ，２Ｃ），１４４．１（ｓ，２Ｃ），１５２．５（ｓ，２Ｃ），１５２．７（ｓ，２Ｃ），１６８．０（ｓ，２Ｃ）
ＨＲＭＳ−ＥＳＩ（ｍ／ｚ）：［Ｍ＋Ｎａ］＋
計算値（Ｃ７４Ｈ６４ ２３Ｎａ１Ｏ１２として）１１６７．４２９５，測定値１１６７．４２８１。
参考例４
（１Ｒ）−４，４’，５，５’，６，６’−ヘキサベンジルオキシ−１，１’−ビフェニル−２，２’−ジメタノール（２１）の製造
（１Ｒ）−４，４’，５，５’，６，６’−ヘキサベンジルオキシ−１，１’−ビフェニル−２，２’−ジメタノール（２１）の製造
リチウムアルミニウムハイドライド（１３．８ｍｇ，０．３２０ｍｍｏｌ）のジエチルエーテル（４ｍｌ）の撹拌された混合物に、アルゴン気流下、０℃で、（７Ｓ，８Ｓ，１４ａＳ）−１，２，３，１２，１３，１４−ヘキサベンジルオキシ−７，８−ジベンジルオキシメチル−７，８−ジヒドロ−ジベンゾ［ｆ，ｈ］［１，４］ジオキサデシン−５，１０−ジオン（２０）（１４６ｍｇ，０．１３０ｍｍｏｌ）のジエチルエーテル（１６ｍｌ）溶液を滴下した。混合物をアルゴン気流下、０℃から室温で１．５時間撹拌した。反応混合物をジエチルエーテル（６ｍｌ）で希釈し、水（０．０５ｍｌ）でクエンチした。湿った混合物に硫酸マグネシウム及びセライトを加え、コットン−セライトパッドを通して濾過した。濾液をエバポレートした後、シリカゲルカラムクロマトグラフィー（シリカゲル３．０ｇ、ｎ−ヘキサン／酢酸エチル＝４／１→１／１）で精製し、無色オイルとして、標記化合物（２１）（６８．７ｍｇ，収率６２％）を得た。
この化合物のＮＭＲデータは、Kashiwada, Y.; Huang, L.; Ballas, L. M.; Jiang, J. B.; Janzen, W. P.; Lee, K-H. J. Med. Chem. 1994, 37, 195-200 に記載のものと一致した。
［α］２５ Ｄ＝＋７７．２°（ｃ＝０．９４０，ＣＨＣｌ３）
ＩＲ（ＺｎＳｅ，薄膜）νｍａｘ（ｃｍ−１）：
３３９１，３０６３，２８７６，１５９５，１４５５，１１２３，１０９８，６９６
１Ｈ−ＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）（δｐｐｍ）：
２．６８（ｂｒ ｓ，２Ｈ），４．１９（ｂｒ ｓ，４Ｈ），４．６０（ｄ，２ＪＨＨ ＝１１．０Ｈｚ，２Ｈ），４．９８（ｄ，２ＪＨＨ＝１１．０Ｈｚ，２Ｈ），５．０２（ｄ，２ＪＨＨ ＝１０．８Ｈｚ，２Ｈ），５．０７（ｄ，２ＪＨＨ＝１０．８Ｈｚ，２Ｈ），５．２１（ｄ，２ＪＨＨ＝１１．７Ｈｚ，２Ｈ），５．２５（ｄ，２ＪＨＨ＝１１．７Ｈｚ，２Ｈ），６．８３（ｂｒｄ，３ＪＨＨ＝６．６Ｈｚ，４Ｈ），７．０６（ｓ，２Ｈ），７．１２−７．２１（ｍ，６Ｈ），７．２４−７．３１（ｍ，６Ｈ），７．３４−７．４６（ｍ，１０Ｈ），７．５３（ｂｒｄ，３ＪＨＨ＝６．９Ｈｚ，４Ｈ）
１３Ｃ−ＮＭＲ（１００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）（δｐｐｍ）：
６３．５（ｔ，２Ｃ），７１．０（ｔ，２Ｃ），７５．２（ｔ，２Ｃ），７５．５（ｔ，２Ｃ），１１０．６（ｄ，２Ｃ），１２２．４（ｓ，２Ｃ），１２７．５（ｄ，４Ｃ），１２７．６（ｄ，４Ｃ），１２７．８（ｄ，２Ｃ），１２８．１（ｄ，４Ｃ），１２８．２（ｄ，４Ｃ），１２８．３（ｄ，４Ｃ），１２８．６（ｄ，４Ｃ），１２８．８（ｄ，４Ｃ），１３６．４（ｓ，２Ｃ），１３６．７（ｓ，２Ｃ），１３７．１（ｓ，４Ｃ），１４１．２（ｓ，２Ｃ），１５０．６（ｓ，２Ｃ），１５２．８（ｓ，２Ｃ）
ＨＲＭＳ−ＥＳＩ（ｍ／ｚ）：［Ｍ＋Ｎａ］＋
計算値（Ｃ５６Ｈ５０ ２３Ｎａ１Ｏ８として）８７３．３４０３，測定値８７３．３３８２。
［α］２５ Ｄ＝＋７７．２°（ｃ＝０．９４０，ＣＨＣｌ３）
ＩＲ（ＺｎＳｅ，薄膜）νｍａｘ（ｃｍ−１）：
３３９１，３０６３，２８７６，１５９５，１４５５，１１２３，１０９８，６９６
１Ｈ−ＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）（δｐｐｍ）：
２．６８（ｂｒ ｓ，２Ｈ），４．１９（ｂｒ ｓ，４Ｈ），４．６０（ｄ，２ＪＨＨ ＝１１．０Ｈｚ，２Ｈ），４．９８（ｄ，２ＪＨＨ＝１１．０Ｈｚ，２Ｈ），５．０２（ｄ，２ＪＨＨ ＝１０．８Ｈｚ，２Ｈ），５．０７（ｄ，２ＪＨＨ＝１０．８Ｈｚ，２Ｈ），５．２１（ｄ，２ＪＨＨ＝１１．７Ｈｚ，２Ｈ），５．２５（ｄ，２ＪＨＨ＝１１．７Ｈｚ，２Ｈ），６．８３（ｂｒｄ，３ＪＨＨ＝６．６Ｈｚ，４Ｈ），７．０６（ｓ，２Ｈ），７．１２−７．２１（ｍ，６Ｈ），７．２４−７．３１（ｍ，６Ｈ），７．３４−７．４６（ｍ，１０Ｈ），７．５３（ｂｒｄ，３ＪＨＨ＝６．９Ｈｚ，４Ｈ）
１３Ｃ−ＮＭＲ（１００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）（δｐｐｍ）：
６３．５（ｔ，２Ｃ），７１．０（ｔ，２Ｃ），７５．２（ｔ，２Ｃ），７５．５（ｔ，２Ｃ），１１０．６（ｄ，２Ｃ），１２２．４（ｓ，２Ｃ），１２７．５（ｄ，４Ｃ），１２７．６（ｄ，４Ｃ），１２７．８（ｄ，２Ｃ），１２８．１（ｄ，４Ｃ），１２８．２（ｄ，４Ｃ），１２８．３（ｄ，４Ｃ），１２８．６（ｄ，４Ｃ），１２８．８（ｄ，４Ｃ），１３６．４（ｓ，２Ｃ），１３６．７（ｓ，２Ｃ），１３７．１（ｓ，４Ｃ），１４１．２（ｓ，２Ｃ），１５０．６（ｓ，２Ｃ），１５２．８（ｓ，２Ｃ）
ＨＲＭＳ−ＥＳＩ（ｍ／ｚ）：［Ｍ＋Ｎａ］＋
計算値（Ｃ５６Ｈ５０ ２３Ｎａ１Ｏ８として）８７３．３４０３，測定値８７３．３３８２。
参考例５
（８Ｓ，９Ｓ，１６ａＲ）−２，１５−ジベンジルオキシ−１，３，１４，１６−テトラアリルオキシ−８，９−ジメトキシ−７，８，９，１０−テトラヒドロ−ジベンゾ［ｈ，ｊ］［１，６］ジオキサシクロドデシン−５，１２−ジオン（２２）の製造
（８Ｓ，９Ｓ，１６ａＲ）−２，１５−ジベンジルオキシ−１，３，１４，１６−テトラアリルオキシ−８，９−ジメトキシ−７，８，９，１０−テトラヒドロ−ジベンゾ［ｈ，ｊ］［１，６］ジオキサシクロドデシン−５，１２−ジオン（２２）の製造
合成例５と同様にして化合物（１１）（１００ｍｇ，０．１５８ｍｍｏｌ）から化合物（１２）を製造し、精製することなく次の工程に使用した。粗製の化合物（１２）のアセトン（５ｍｌ）溶液に、炭酸カリウム(873 mg, 6.32 mmol)を加え、次いでアリルブロマイド(84.2 mg, 0.696 mmol)を加えた。混合物をアルゴン気流下に１６時間還流した。反応混合物をコットン−セライトパッドを通して濾過した。濾液をエバポレートし、残渣を酢酸エチル（１０ｍｌ）で希釈し、飽和塩化アンモニウム水溶液１０ｍｌで３回、水で１回及び飽和食塩水で１回順次洗浄した。混合物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（シリカゲル３．０ｇ、ｎ−ヘキサン／酢酸エチル＝２／１→１／１）で精製し、無色オイルとして、標記化合物（２２）（８１．４ｍｇ）を得た。
［α］２６ Ｄ＝＋６０．９°（ｃ＝０．６８５，ＣＨＣｌ３）
ＩＲ（ＺｎＳｅ，薄膜）νｍａｘ（ｃｍ−１）：
２９３２，２８８０，２８３０，２３６１，１７３６，１５９３，１４９７，１４８２，１４５５，１４０８，１３３１，１２４６，１１９６，１１５７，１０９６，１０１３，９９４，９２６，８５１，７４３，６９８
１Ｈ−ＮＭＲ（４００ＭＨｚ，アセトン−ｄ６）（δｐｐｍ）：
７．５７−７．５４（ｍ，４Ｈ，Ａｒ−Ｂｎ−Ｈ），７．４０−７．３０（ｍ，６Ｈ，Ａｒ−Ｂｎ−Ｈ），７．００（ｓ，２Ｈ，Ａｒ−ＨＨＤＰ−Ｈ），６．１３（ｄｄｄｄ，３ＪＨＨ＝１７．２Ｈｚ，１０．５Ｈｚ，５．５Ｈｚ，２Ｈ，ＣＨ２ＣＨＣＨ２Ｏ），５．７６（ｄｄｄｄ，３ＪＨＨ＝１７．２Ｈｚ，１０．５Ｈｚ，５．５ Ｈｚ，２Ｈ，ＣＨ２ＣＨＣＨ２Ｏ），５．４９（ｄｑ，２ＪＨＨ＝４ＪＨＨ＝１．６Ｈｚ，３ＪＨＨ＝１７．２Ｈｚ，２Ｈ，ＣＨ２ＣＨＣＨ２Ｏ），５．２９（ｄｑ，２ＪＨＨ＝４ＪＨＨ＝１．６Ｈｚ，３ＪＨＨ＝１０．５Ｈｚ，２Ｈ，ＣＨ２ＣＨＣＨ２Ｏ），５．１８（ｄ，２ＪＨＨ＝１１．１Ｈｚ，２Ｈ，ＰｈＣＨ２），５．０９（ｄ，２ＪＨＨ＝１１．１Ｈｚ，２Ｈ，ＰｈＣＨ２），５．０９（ｄｑ，２ＪＨＨ＝４ＪＨＨ＝１．６Ｈｚ，３ＪＨＨ＝１７．２Ｈｚ，２Ｈ，ＣＨ２ＣＨＣＨ２Ｏ），４．９６（ｄｑ，２ＪＨＨ＝４ＪＨＨ＝１．６Ｈｚ，３ＪＨＨ＝１０．５Ｈｚ，２Ｈ，ＣＨ２ＣＨＣＨ２Ｏ），４．６９−４．６０（ｍ，４Ｈ，ＣＨ２ＣＨＣＨ２Ｏ），４．４８（ｄｄｔ，４ＪＨＨ＝１．６Ｈｚ，３ＪＨＨ＝５．５Ｈｚ，２ＪＨＨ＝１２．６Ｈｚ，２Ｈ，ＣＨ２ＣＨＣＨ２Ｏ），４．４２（ｄ，２Ｈ，ｔａｒｔｒａｔｅ），４．３５（ｄｄｔ，４ＪＨＨ＝１．６Ｈｚ，３ＪＨＨ ＝５．５Ｈｚ，２ＪＨＨ＝１２．６Ｈｚ，２Ｈ，ＣＨ２ＣＨＣＨ２Ｏ），４．１９−４．１５（ｍ，２Ｈ，ｔａｒｔｒａｔｅ），３．６１−３．６０（ｍ，２Ｈ，ｔａｒｔｒａｔｅ），３．４６（ｓ，６Ｈ，ＯＣＨ３−ｔａｒｔｒａｔｅ）
１３Ｃ−ＮＭＲ（１００ＭＨｚ，アセトン−ｄ６）（δｐｐｍ）：
１６８．３（ｓ，２Ｃ，Ｃ＝Ｏ），１５３．１（ｓ，２Ｃ，Ａｒ−ＨＨＤＰ ａｔ Ｏ−Ａｌｌｙｌ），１５２．８（ｓ，２Ｃ，Ａｒ−ＨＨＤＰ ａｔ Ｏ−Ａｌｌｙｌ），１４４．５（ｓ，２Ｃ），１３８．９（ｓ，２Ｃ），１３５．７（ｄ，２Ｃ，ＣＨ２ＣＨＣＨ２Ｏ），１３４．４（ｄ，２Ｃ，ＣＨ２ＣＨＣＨ２Ｏ），１３０．３（ｓ，２Ｃ），１２９．２（ｄ，８Ｃ，Ａｒ−Ｂｎ），１２８．８（ｄ，２Ｃ，Ａｒ−Ｂｎ），１２３．９（ｓ，２Ｃ），１１８．０（ｔ，２Ｃ，ＣＨ２ＣＨＣＨ２Ｏ），１１６．７（ｔ，２Ｃ，ＣＨ２ＣＨＣＨ２Ｏ），１０９．３（ｄ，２Ｃ，Ａｒ−ＨＨＤＰ），７８．７（ｄ，２Ｃ，ｔａｒｔｒａｔｅ），７５．８（ｔ，２Ｃ，ＰｈＣＨ２），７４．７（ｔ，２Ｃ，ＣＨ２ＣＨＣＨ２Ｏ），７０．５（ｔ，２Ｃ，ＣＨ２ＣＨＣＨ２Ｏ），６１．５（ｔ，２Ｃ，ｔａｒｔｒａｔｅ），５７．９（ｑ，２Ｃ，ＯＣＨ３ ｔａｒｔｒａｔｅ）；
ＨＲＭＳ−ＥＳＩ（ｍ／ｚ）：［Ｍ＋Ｎａ］＋
計算値（Ｃ４６Ｈ４８Ｏ１２として）８１５．３０４３，測定値８１５．３０１７。
［α］２６ Ｄ＝＋６０．９°（ｃ＝０．６８５，ＣＨＣｌ３）
ＩＲ（ＺｎＳｅ，薄膜）νｍａｘ（ｃｍ−１）：
２９３２，２８８０，２８３０，２３６１，１７３６，１５９３，１４９７，１４８２，１４５５，１４０８，１３３１，１２４６，１１９６，１１５７，１０９６，１０１３，９９４，９２６，８５１，７４３，６９８
１Ｈ−ＮＭＲ（４００ＭＨｚ，アセトン−ｄ６）（δｐｐｍ）：
７．５７−７．５４（ｍ，４Ｈ，Ａｒ−Ｂｎ−Ｈ），７．４０−７．３０（ｍ，６Ｈ，Ａｒ−Ｂｎ−Ｈ），７．００（ｓ，２Ｈ，Ａｒ−ＨＨＤＰ−Ｈ），６．１３（ｄｄｄｄ，３ＪＨＨ＝１７．２Ｈｚ，１０．５Ｈｚ，５．５Ｈｚ，２Ｈ，ＣＨ２ＣＨＣＨ２Ｏ），５．７６（ｄｄｄｄ，３ＪＨＨ＝１７．２Ｈｚ，１０．５Ｈｚ，５．５ Ｈｚ，２Ｈ，ＣＨ２ＣＨＣＨ２Ｏ），５．４９（ｄｑ，２ＪＨＨ＝４ＪＨＨ＝１．６Ｈｚ，３ＪＨＨ＝１７．２Ｈｚ，２Ｈ，ＣＨ２ＣＨＣＨ２Ｏ），５．２９（ｄｑ，２ＪＨＨ＝４ＪＨＨ＝１．６Ｈｚ，３ＪＨＨ＝１０．５Ｈｚ，２Ｈ，ＣＨ２ＣＨＣＨ２Ｏ），５．１８（ｄ，２ＪＨＨ＝１１．１Ｈｚ，２Ｈ，ＰｈＣＨ２），５．０９（ｄ，２ＪＨＨ＝１１．１Ｈｚ，２Ｈ，ＰｈＣＨ２），５．０９（ｄｑ，２ＪＨＨ＝４ＪＨＨ＝１．６Ｈｚ，３ＪＨＨ＝１７．２Ｈｚ，２Ｈ，ＣＨ２ＣＨＣＨ２Ｏ），４．９６（ｄｑ，２ＪＨＨ＝４ＪＨＨ＝１．６Ｈｚ，３ＪＨＨ＝１０．５Ｈｚ，２Ｈ，ＣＨ２ＣＨＣＨ２Ｏ），４．６９−４．６０（ｍ，４Ｈ，ＣＨ２ＣＨＣＨ２Ｏ），４．４８（ｄｄｔ，４ＪＨＨ＝１．６Ｈｚ，３ＪＨＨ＝５．５Ｈｚ，２ＪＨＨ＝１２．６Ｈｚ，２Ｈ，ＣＨ２ＣＨＣＨ２Ｏ），４．４２（ｄ，２Ｈ，ｔａｒｔｒａｔｅ），４．３５（ｄｄｔ，４ＪＨＨ＝１．６Ｈｚ，３ＪＨＨ ＝５．５Ｈｚ，２ＪＨＨ＝１２．６Ｈｚ，２Ｈ，ＣＨ２ＣＨＣＨ２Ｏ），４．１９−４．１５（ｍ，２Ｈ，ｔａｒｔｒａｔｅ），３．６１−３．６０（ｍ，２Ｈ，ｔａｒｔｒａｔｅ），３．４６（ｓ，６Ｈ，ＯＣＨ３−ｔａｒｔｒａｔｅ）
１３Ｃ−ＮＭＲ（１００ＭＨｚ，アセトン−ｄ６）（δｐｐｍ）：
１６８．３（ｓ，２Ｃ，Ｃ＝Ｏ），１５３．１（ｓ，２Ｃ，Ａｒ−ＨＨＤＰ ａｔ Ｏ−Ａｌｌｙｌ），１５２．８（ｓ，２Ｃ，Ａｒ−ＨＨＤＰ ａｔ Ｏ−Ａｌｌｙｌ），１４４．５（ｓ，２Ｃ），１３８．９（ｓ，２Ｃ），１３５．７（ｄ，２Ｃ，ＣＨ２ＣＨＣＨ２Ｏ），１３４．４（ｄ，２Ｃ，ＣＨ２ＣＨＣＨ２Ｏ），１３０．３（ｓ，２Ｃ），１２９．２（ｄ，８Ｃ，Ａｒ−Ｂｎ），１２８．８（ｄ，２Ｃ，Ａｒ−Ｂｎ），１２３．９（ｓ，２Ｃ），１１８．０（ｔ，２Ｃ，ＣＨ２ＣＨＣＨ２Ｏ），１１６．７（ｔ，２Ｃ，ＣＨ２ＣＨＣＨ２Ｏ），１０９．３（ｄ，２Ｃ，Ａｒ−ＨＨＤＰ），７８．７（ｄ，２Ｃ，ｔａｒｔｒａｔｅ），７５．８（ｔ，２Ｃ，ＰｈＣＨ２），７４．７（ｔ，２Ｃ，ＣＨ２ＣＨＣＨ２Ｏ），７０．５（ｔ，２Ｃ，ＣＨ２ＣＨＣＨ２Ｏ），６１．５（ｔ，２Ｃ，ｔａｒｔｒａｔｅ），５７．９（ｑ，２Ｃ，ＯＣＨ３ ｔａｒｔｒａｔｅ）；
ＨＲＭＳ−ＥＳＩ（ｍ／ｚ）：［Ｍ＋Ｎａ］＋
計算値（Ｃ４６Ｈ４８Ｏ１２として）８１５．３０４３，測定値８１５．３０１７。
参考例６
（１Ｒ）−４，４’，５，５’，６，６’−ヘキサベンジルオキシ−１，１’−ビフェニル−２，２’−ジカルボアルデヒド（２３）の製造
（１Ｒ）−４，４’，５，５’，６，６’−ヘキサベンジルオキシ−１，１’−ビフェニル−２，２’−ジカルボアルデヒド（２３）の製造
窒素置換し、塩化メチレン２ｍｌが入った丸底フラスコに、−８０〜−７０℃でオキサリルクロライド（６２ｍｇ，０．４９ｍｍｏｌ）を加えた。この混合物にジメチルスルホキシド（５３ ｍｇ，０．６８ｍｍｏｌ）を滴下した。この混合物に化合物（１９）（１５３ｍｇ，０．１８０ｍｍｏｌ）及びジメチルスルホキシド（２１ｍｇ，０．２７ｍｍｏｌ）の塩化メチレン３ｍｌ溶液を滴下し、１時間撹拌した。反応混合物をトリエチルアミン（１８２ｍｇ，１．８０ｍｍｏｌ）でクエンチし、室温まで温めた。混合物を１Ｍ−塩酸、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液及び飽和食塩水で洗浄した。これを硫酸マグネシウム上で乾燥し、濾過した。溶媒を除去し、標記化合物（２３）を黄色固体として（１５０ｍｇ，０．１７７ｍｍｏｌ，収率９８％）得た。
ｍｐ １３２−１３４℃
［α］２５ Ｄ＝−２４．４°（ｃ＝１．０２，ＣＨＣｌ３）
ＩＲ（ＺｎＳｅ，薄膜）νｍａｘ（ｃｍ−１）：
３０３３，２８７２，１６８６，１５８４，１４５５，１３２０，１０９８，９７０，７３９，６９８
１Ｈ−ＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）（δｐｐｍ）：
４．６２（ｄ，２ＪＨＨ＝１１．２Ｈｚ，２Ｈ），４．８２（ｄ，２ＪＨＨ＝１１．２ Ｈｚ，２Ｈ），５．０８（ｄ，２ＪＨＨ＝１１．０Ｈｚ，２Ｈ），５．１４（ｄ，２ＪＨＨ＝１１．０Ｈｚ，２Ｈ），５．２４（ｓ，４Ｈ），６．８３（ｂｒ ｄ，３ＪＨＨ＝ ７．６Ｈｚ，４Ｈ），７．０８−７．２０（ｍ，６Ｈ），７．２２−７．３４（ｍ，９Ｈ），７．３７−７．４８（ｍ，９Ｈ），７．５０−７．５４（ｍ，４Ｈ），９．４１（ｓ，２Ｈ）
１３Ｃ−ＮＭＲ（１００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）（δｐｐｍ）：
７１．０（ｔ，２Ｃ），７４．７（ｔ，２Ｃ），７５．４（ｔ，２Ｃ），１０７．１（ｄ，２Ｃ），１２４．８（ｓ，２Ｃ），１２７．５（ｄ，４Ｃ），１２７．７（ｄ，４Ｃ），１２７．８（ｄ，２Ｃ），１２８．１（ｄ，４Ｃ），１２８．３（ｄ，８Ｃ），１２８．７（ｄ，８Ｃ），１３１．０（ｓ，２Ｃ），１３６．１（ｓ，２Ｃ），１３６．５（ｓ，２Ｃ），１３６．９（ｓ，２Ｃ），１４６．５（ｓ，２Ｃ），１５１．１（ｓ，２Ｃ），１５３．３（ｓ，２Ｃ），１９０．０（ｄ，２Ｃ）
ＨＲＭＳ−ＥＳＩ（ｍ／ｚ）：［Ｍ＋Ｎａ］＋
計算値（Ｃ５６Ｈ４６ ２３Ｎａ１Ｏ８として）８６９．３０９０，測定値８６９．３０５７。
ｍｐ １３２−１３４℃
［α］２５ Ｄ＝−２４．４°（ｃ＝１．０２，ＣＨＣｌ３）
ＩＲ（ＺｎＳｅ，薄膜）νｍａｘ（ｃｍ−１）：
３０３３，２８７２，１６８６，１５８４，１４５５，１３２０，１０９８，９７０，７３９，６９８
１Ｈ−ＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）（δｐｐｍ）：
４．６２（ｄ，２ＪＨＨ＝１１．２Ｈｚ，２Ｈ），４．８２（ｄ，２ＪＨＨ＝１１．２ Ｈｚ，２Ｈ），５．０８（ｄ，２ＪＨＨ＝１１．０Ｈｚ，２Ｈ），５．１４（ｄ，２ＪＨＨ＝１１．０Ｈｚ，２Ｈ），５．２４（ｓ，４Ｈ），６．８３（ｂｒ ｄ，３ＪＨＨ＝ ７．６Ｈｚ，４Ｈ），７．０８−７．２０（ｍ，６Ｈ），７．２２−７．３４（ｍ，９Ｈ），７．３７−７．４８（ｍ，９Ｈ），７．５０−７．５４（ｍ，４Ｈ），９．４１（ｓ，２Ｈ）
１３Ｃ−ＮＭＲ（１００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）（δｐｐｍ）：
７１．０（ｔ，２Ｃ），７４．７（ｔ，２Ｃ），７５．４（ｔ，２Ｃ），１０７．１（ｄ，２Ｃ），１２４．８（ｓ，２Ｃ），１２７．５（ｄ，４Ｃ），１２７．７（ｄ，４Ｃ），１２７．８（ｄ，２Ｃ），１２８．１（ｄ，４Ｃ），１２８．３（ｄ，８Ｃ），１２８．７（ｄ，８Ｃ），１３１．０（ｓ，２Ｃ），１３６．１（ｓ，２Ｃ），１３６．５（ｓ，２Ｃ），１３６．９（ｓ，２Ｃ），１４６．５（ｓ，２Ｃ），１５１．１（ｓ，２Ｃ），１５３．３（ｓ，２Ｃ），１９０．０（ｄ，２Ｃ）
ＨＲＭＳ−ＥＳＩ（ｍ／ｚ）：［Ｍ＋Ｎａ］＋
計算値（Ｃ５６Ｈ４６ ２３Ｎａ１Ｏ８として）８６９．３０９０，測定値８６９．３０５７。
参考例７
（１Ｒ）−４，４’，５，５’，６，６’−ヘキサベンジルオキシ−１，１’−ビフェニル−２，２’−ジカルボン酸（２４）の製造
（１Ｒ）−４，４’，５，５’，６，６’−ヘキサベンジルオキシ−１，１’−ビフェニル−２，２’−ジカルボン酸（２４）の製造
化合物（１８）（８６．０ｍｇ，０．０８６６ｍｍｏｌ）のテトラヒドロフラン４ｍｌ溶液に、水素化リチウム（３６．３ｍｇ，０．８６６ｍｍｏｌ）−水（１ｍｌ）を加えた。混合物を２２時間還流した。反応混合物を１Ｍ−塩酸でクエンチした。エバポレーションによりテトラヒドロフランを反応混合物から除去し、残った水性の混合物をジエチルエーテル１０ｍｌで３回抽出した。有機層を合わせ、１Ｍ−塩酸１０ｍｌで１回、水１０ｍｌで１回及び飽和食塩水１０ｍｌで１回順次洗浄した。混合物を再結晶（酢酸エチル／ｎ−ヘキサン）により精製し、標記化合物（２４）（６３．２ｍｇ，収率８３％）を白色粉末として得た。
この化合物のＮＭＲデータは、Khanbabaee, K.;Basceken, S.; Flork, U. Tetrahedron Asymmetry 2006, 17, 2804-2812 に記載のものと一致した。
ｍｐ １４７−１４８℃
［α］２５ Ｄ＝−６１．２°（ｃ＝１．０８，ＣＨＣｌ３）
ＩＲ（ＺｎＳｅ，薄膜）νｍａｘ（ｃｍ−１）：
３０３１，２８７６，１６９８，１５９１，１５６４，１４９７，１４５５，１４１４，１３６６，１３２５，１２７９，１２１７，１１６１，１０９６，９７０，９１０． ７３９，６９６
１Ｈ−ＮＭＲ（４００ＭＨｚ，アセトン−ｄ６）（δｐｐｍ）：
７．６５（ｓ，２Ｈ，Ａｒ−Ｈ），７．６２（ｓ，２Ｈ，Ａｒ−Ｈ），７．６０（ｓ，２Ｈ，Ａｒ−Ｈ），７．４７−７．４３（ｍ，４Ｈ，Ａｒ−Ｈ），７．４０−７．３７（ｍ，６Ｈ，Ａｒ−Ｈ），７．２８−７．２５（ｍ，６Ｈ，Ａｒ−Ｈ），７．１８−７．１６（ｍ，６Ｈ，Ａｒ−Ｈ），６．９４−６．９１（ｍ，４Ｈ，Ａｒ−Ｈ），５．３０（ｓ，４Ｈ，ＰｈＣＨ２），５．０６（ｄ，２ＪＨＨ＝１１．０Ｈｚ，２Ｈ，ＰｈＣＨ２），４．９９（ｄ，２ＪＨＨ＝１１．０Ｈｚ，２Ｈ，ＰｈＣＨ２），４．９５（ｄ，２ＪＨＨ＝１１．０Ｈｚ，２Ｈ，ＰｈＣＨ２），４．８８（ｄ，２ＪＨＨ＝１１．０Ｈｚ，２Ｈ，ＰｈＣＨ２）
１３Ｃ−ＮＭＲ（１００ＭＨｚ，アセトン−ｄ６）（δｐｐｍ）：
１６８．０（ｓ，２Ｃ，Ｃ＝Ｏ），１５２．６（ｓ，２Ｃ），１５１．９（ｓ，２Ｃ），１４６．４（ｓ，２Ｃ），１３９．０（ｓ，２Ｃ），１３８．７（ｓ，２Ｃ），１３８．２（ｓ，２Ｃ），１２９．４（ｄ，４Ｃ，Ａｒ−Ｂｎ），１２９．２（ｄ，５Ｃ，Ａｒ−Ｂｎ），１２９．１（ｄ，４Ｃ，Ａｒ−Ｂｎ），１２９．０（ｓ，２Ｃ），１２８．９（ｄ，５Ｃ，Ａｒ−Ｂｎ），１２８．７（ｄ，６Ｃ，Ａｒ−Ｂｎ），１２８．３（ｄ，６Ｃ，Ａｒ−Ｂｎ），１２７．２（ｓ，２Ｃ），１１２．３（ｄ，２Ｃ，Ａｒ−ＨＨＤＰ），７５．９（ｔ，２Ｃ，ＰｈＣＨ２），７５．１（ｔ，２Ｃ，ＰｈＣＨ２），７１．８（ｔ，２Ｃ，ＰｈＣＨ２）
ＨＲＭＳ−ＥＳＩ（ｍ／ｚ）：［Ｍ−Ｈ］＋
計算値（Ｃ５６Ｈ４６Ｏ１０として）８７７．３０１３，測定値８７７．２９８２。
ｍｐ １４７−１４８℃
［α］２５ Ｄ＝−６１．２°（ｃ＝１．０８，ＣＨＣｌ３）
ＩＲ（ＺｎＳｅ，薄膜）νｍａｘ（ｃｍ−１）：
３０３１，２８７６，１６９８，１５９１，１５６４，１４９７，１４５５，１４１４，１３６６，１３２５，１２７９，１２１７，１１６１，１０９６，９７０，９１０． ７３９，６９６
１Ｈ−ＮＭＲ（４００ＭＨｚ，アセトン−ｄ６）（δｐｐｍ）：
７．６５（ｓ，２Ｈ，Ａｒ−Ｈ），７．６２（ｓ，２Ｈ，Ａｒ−Ｈ），７．６０（ｓ，２Ｈ，Ａｒ−Ｈ），７．４７−７．４３（ｍ，４Ｈ，Ａｒ−Ｈ），７．４０−７．３７（ｍ，６Ｈ，Ａｒ−Ｈ），７．２８−７．２５（ｍ，６Ｈ，Ａｒ−Ｈ），７．１８−７．１６（ｍ，６Ｈ，Ａｒ−Ｈ），６．９４−６．９１（ｍ，４Ｈ，Ａｒ−Ｈ），５．３０（ｓ，４Ｈ，ＰｈＣＨ２），５．０６（ｄ，２ＪＨＨ＝１１．０Ｈｚ，２Ｈ，ＰｈＣＨ２），４．９９（ｄ，２ＪＨＨ＝１１．０Ｈｚ，２Ｈ，ＰｈＣＨ２），４．９５（ｄ，２ＪＨＨ＝１１．０Ｈｚ，２Ｈ，ＰｈＣＨ２），４．８８（ｄ，２ＪＨＨ＝１１．０Ｈｚ，２Ｈ，ＰｈＣＨ２）
１３Ｃ−ＮＭＲ（１００ＭＨｚ，アセトン−ｄ６）（δｐｐｍ）：
１６８．０（ｓ，２Ｃ，Ｃ＝Ｏ），１５２．６（ｓ，２Ｃ），１５１．９（ｓ，２Ｃ），１４６．４（ｓ，２Ｃ），１３９．０（ｓ，２Ｃ），１３８．７（ｓ，２Ｃ），１３８．２（ｓ，２Ｃ），１２９．４（ｄ，４Ｃ，Ａｒ−Ｂｎ），１２９．２（ｄ，５Ｃ，Ａｒ−Ｂｎ），１２９．１（ｄ，４Ｃ，Ａｒ−Ｂｎ），１２９．０（ｓ，２Ｃ），１２８．９（ｄ，５Ｃ，Ａｒ−Ｂｎ），１２８．７（ｄ，６Ｃ，Ａｒ−Ｂｎ），１２８．３（ｄ，６Ｃ，Ａｒ−Ｂｎ），１２７．２（ｓ，２Ｃ），１１２．３（ｄ，２Ｃ，Ａｒ−ＨＨＤＰ），７５．９（ｔ，２Ｃ，ＰｈＣＨ２），７５．１（ｔ，２Ｃ，ＰｈＣＨ２），７１．８（ｔ，２Ｃ，ＰｈＣＨ２）
ＨＲＭＳ−ＥＳＩ（ｍ／ｚ）：［Ｍ−Ｈ］＋
計算値（Ｃ５６Ｈ４６Ｏ１０として）８７７．３０１３，測定値８７７．２９８２。
参考例８
（１Ｒ）−４，５，６，４’，５’，６’−ヘキサベンジルオキシ−１，１’−ビフェニル−２，２’−ジカルボン酸 ジメチルエステル（２５）の製造
（１Ｒ）−４，５，６，４’，５’，６’−ヘキサベンジルオキシ−１，１’−ビフェニル−２，２’−ジカルボン酸 ジメチルエステル（２５）の製造
メタノール３ｍｌ及びテトラヒドロフラン１．５ｍｌに化合物（１８）（380 mg, 0.383 mmol)を溶解した液に、ナトリウムメトキシド(207 mg, 3.83 mmol)を加えた。この混合物をアルゴン気流下、５５℃で一夜撹拌した。反応混合物を室温まで冷却し、コットン−セライトパッドを通して濾過した。濾液に、IR-120 PLUS (H)を加え、撹拌した。次いで濾液をエバポレートした。得られる残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（シリカゲル１１．０ｇ、ｎ−ヘキサン／酢酸エチル＝４／１→２／１）で精製し、無色オイルとして、標記化合物（２５）（３４０ｍｇ，収率９８％）を得た。
この化合物のＮＭＲデータは、Kashiwada, Y.; Huang, L.; Ballas, L. M.; Jiang, J. B.; Janzen, W. P.; Lee, K-H. J. Med. Chem. 1994, 37, 195-200 に記載のものと一致した。
Claims (3)
- 一般式（Ｉ）
で表される、光学活性なヘキサヒドロキシジフェノイル化合物。 - 前記Ｒ １ 、Ｒ ３ 及びＲ ４ は、アリールアルキル基、アルキル基、アルコキシアルキル基、アリールアルキルオキシアルキル基、アルケニル基、アルキニル基、シリル基、アルカノイル基、アリールカルボニル基、又はテトラヒドロピラニル基である、請求項１に記載のヘキサヒドロキシジフェノイル化合物。
- 前記Ｒ １ 、Ｒ ３ 及びＲ ４ は、ベンジル基、ｐ−メトキシベンジル基、ｐ−ニトロベンジル基、メチル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、メトキシメチル基、エトキシエチル基、ベンジルオキシメチル基、アリル基、プロパルギル基、ｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリル基、アセチル基、ベンゾイル基、又はテトラヒドロピラニル基である、請求項１又は２に記載のヘキサヒドロキシジフェノイル化合物。
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