JP5441457B2 - バックグラインドフィルム及びその製造方法 - Google Patents
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Description
項1.軟質ポリエステル樹脂5〜95重量%及びポリエステル系エラストマー95〜5重量%を含む樹脂組成物からなるバックグラインド用基体フィルム。
項2.厚みが50〜300μmである上記項1に記載のバックグラインド用基体フィルム。
項3.上記項1又は2に記載のバックグラインド用基体フィルムの表面に粘着剤層及び離型フィルムを有するバックグラインドフィルム。
項4.上記項3に記載のバックグラインドフィルムを半導体ウェハの表面に貼着し、該半導体ウェハの裏面を研削し、半導体ウェハからバックグラインドフィルムを除去することを特徴とする半導体ウェハのバックグラインド方法。
項5.軟質ポリエステル樹脂5〜95重量%及びポリエステル系エラストマー95〜5重量%を含む樹脂組成物を押出し成形する工程を含むバックグラインド用基体フィルムの製造方法。
本発明のバックグラインド用基体フィルムは、軟質ポリエステル樹脂5〜95重量%及びポリエステル系エラストマー95〜5重量%を含む樹脂組成物からなるものである。以下、本発明のバックグラインド用基体フィルムについて詳述する。
本発明で用いる軟質ポリエステル樹脂は、酸成分とジオール成分からなるものである。ここで、軟質とは、ショア硬度D(JIS K 7215)で60以下である。
酸成分としては、テレフタル酸、イソフタル酸、2,6−ナフタレンジカルボン酸、ジフェニルジカルボン酸等の芳香族ジカルボン酸;アジピン酸、シュウ酸、マロン酸、コハク酸、アゼライン酸、セバシン酸、ダイマー酸(オレイン酸、リノール酸、リノレン酸等の不飽和脂肪酸が二量化して生成する化合物)等の脂肪族ジカルボン酸;シクロヘキサンジカルボン酸等の脂環族ジカルボン酸等を挙げることができる。これらは1種単独又は2種以上混合して使用することもできる。
ジオール成分としては、2−メチル−1,3−プロパンジオール又は1,4−シクロヘキサンジメタノールを含むジオール成分が好ましく、2−メチル−1,3−プロパンジオールと1,4−シクロヘキサンジメタノールの両方を含むジオール成分がより好ましい。
本発明で用いるポリエステル系エラストマーは、少なくとも1種のポリエステルハードセグメントと、少なくとも1種のポリエーテルソフトセグメントからなる共重合体である。
ポリエステルハードセグメントを構成するジカルボン酸成分としては、テレフタル酸、イソフタル酸、フタル酸、2,6−ナフタレンジカルボン酸等の芳香族ジカルボン酸;1,4−シクロヘキサンジカルボン酸、シクロペンタンジカルボン酸、4,4−シクロへキサンジカルボン酸等の脂環族ジカルボン酸;アジピン酸、セバシン酸、アゼライン酸、ダイマー酸(オレイン酸、リノール酸、リノレン酸等の不飽和脂肪酸が二量化して生成する化合物)等の脂肪族ジカルボン酸等を挙げることができ、これらを1種単独で又は2種以上を混合して用いることができる。これらの中でも、機械的性質や耐熱性の点から、芳香族ジカルボン酸が好ましく、特にテレフタル酸が好ましい。
ポリエーテルソフトセグメントを構成するポリエーテルとしては、ポリ(アルキレンオキシド)グリコールが好ましい。
本発明のバックグラインド用基体フィルム用を形成する樹脂組成物は、前記軟質ポリエステル樹脂5〜95重量%及び前記ポリエステル系エラストマー95〜5重量%を含むものであり、前記軟質ポリエステル樹脂20〜70重量%及び前記ポリエステル系エラストマー30〜80重量%を含むことが好ましく、前記軟質ポリエステル樹脂40〜60重量%及び前記ポリエステル系エラストマー40〜60重量%を含むことがより好ましい。樹脂組成物の組成が前記範囲内であることにより、薄型半導体ウェハのバックグラインド工程における寸法安定性が優れ、かつ、基体フィルム巻き取り時のブロッキングを抑制できるため好ましい。
本発明のバックグラインド用基体フィルムの製造方法は、軟質ポリエステル樹脂5〜95重量%及びポリエステル系エラストマー95〜5重量%を含む樹脂組成物を押出し成形する工程を含むものであり、押出し成形方法としては、Tダイスまたは環状ダイスを使用した押出法等、従来から用いられている方法を適宜用いることができる。これらの中でも、基材フィルムの厚み精度の点から、Tダイスを使用した押出法が好ましい。
本発明のバックグラインドフィルムは、前述のバックグラインド用基体フィルムの表面に粘着剤層及び離型フィルムを有するものである。より具体的には、前述のバックグラインド用基体フィルムの片方の表面上に公知の粘着剤をコートして粘着剤層が形成され、さらに該粘着剤層上に離型フィルムが設けられて、バックグラインドフィルムが製造される。
本発明のバックグラインド方法は、バックグラインドフィルムを半導体ウェハの表面(回路面)に貼着し、該半導体ウェハの裏面を研削し、半導体ウェハからバックグラインドフィルムを除去する。
表1に示す配合割合で、軟質ポリエステル樹脂(FLX92(商品名)、ショア硬度D(JIS K 7215):37、比重:1.21、MFR(JIS K 7210、190℃、21.2N)):7g/10分、密度:1.21g/cm3、ヘーズ値(JIS K 7105):0.6%、(株)ベルポリエステルプロダクツ製)及びポリエステル系エラストマー(ポリブチレンテレフタレート/ポリエーテル共重合体、比重(ASTM D 792):1.26、表面硬さ(JIS K 7215):72、融点:219℃、ガラス転移温度:12℃、ハイトレル(登録商標)7247(商品名)、東レ・デュポン(株)製)をドライブレンドし、樹脂組成物とした。
表1に記載の配合割合にする以外は、実施例1と同様にしてフィルムを得た。
(反りの評価)
ウェハの代替として、常温(25℃)から50℃の温度域で、半導体ウェハと同程度に寸法安定性の良いポリイミド(PI)テープ(スコッチポリイミドテープ No.5434、厚さ53μm、住友スリーエム(株)製)を使用した。
得られた基体フィルムの任意の場所から、たて100mm×よこ30mm(フィルムの流れ方向をたて方向、幅方向をよこ方向としてサンプルを切り出した)の大きさに測定用サンプルを2枚切り出した。2枚の測定用サンプルを、同一面(冷却ロールと接する面)同士がたて40mm×よこ30mmの面積で重なり合うようにし、この重なり合った測定用サンプルを2枚のガラス板で挟み、その上から、サンプルが重なり合っている部分に600gの重りをのせた。これを40℃の恒温槽の中に入れ、7日間放置した。7日後、恒温槽より取り出したサンプルを、新東科学(株)製剥離試験器(Peeling TESTER HEIDON−17)にセットし、引張り速度200mm/分で、180度せん断剥離強度を測定した。測定値が、4.9N/10mm以下であれば、ブロッキングなしとした。
Claims (5)
- 軟質ポリエステル樹脂5〜95重量%及びポリエステル系エラストマー95〜5重量%を含む樹脂組成物からなるバックグラインド用基体フィルム。
- 厚みが50〜300μmである請求項1に記載のバックグラインド用基体フィルム。
- 請求項1又は2に記載のバックグラインド用基体フィルムの表面に粘着剤層及び離型フィルムを有するバックグラインドフィルム。
- 請求項3に記載のバックグラインドフィルムを半導体ウェハの表面に貼着し、該半導体ウェハの裏面を研削し、半導体ウェハからバックグラインドフィルムを除去することを特徴とする半導体ウェハのバックグラインド方法。
- 軟質ポリエステル樹脂5〜95重量%及びポリエステル系エラストマー95〜5重量%を含む樹脂組成物を押出し成形する工程を含むバックグラインド用基体フィルムの製造方法。
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