JP5401610B2 - グラフの特定期間の切り出し方法 - Google Patents

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Description

本発明は、真空処理装置の技術分野に係り、特に、真空処理装置を用いた量産工程の測定値を有効にグラフ化して分析できる技術に関する。
真空処理技術は、スパッタリング方法、CVD方法、蒸着方法等の成膜技術や、エッチング技術、表面改質技術、不純物注入技術、真空乾燥技術等があり、半導体装置、液晶表示装置等の他、食品分野や自動車工業にも用いられている。
真空処理技術によって同一品種の製品を量産する場合、同一規格の処理対象物に同じ真空処理を行うことが普通であるが、その工程が終了した仕掛品や製品には、品質のバラツキが発生することがある。
品質のバラツキが発生した原因を調査する場合や、バラツキが不良品を発生させないように製造工程を管理する場合は、動作中の真空処理装置から得られる物理量をセンサ装置によって測定し、測定結果をロット間で比較、検証することが行われる。
特に、真空処理装置内の処理機器の動作電流量、処理中の雰囲気の温度、雰囲気の圧力等の物理量の差違をロット間や真空処理装置間で定量的に確認しようとする場合は、製造工程中にセンサ装置によって種々の物理量を測定して測定値を記憶しておき、後で、コンピュータによって測定値をグラフ化し、その形の比較を行っていた。
しかしながら、真空処理装置内に配置され、測定対象となる処理機器の数が増加し、また、測定したい物理量の種類も増え、大量の測定値をグラフ化して一緒に画面上に表示して比較することは困難になっている。
ところで、品質管理に於いて、真空処理の開始から終了までの工程のうち特性に影響を与えた処理装置の動作を見たところ、日常の品質管理のために見ていた範囲には、その処理装置の動作内容を示す異常な測定値は含まれておらず、通常の品質管理の手法では、異常値は発見できず、大きな不良の原因を特定することができないことが分かった。
むしろ、通常観察している時刻範囲ではなく、意外な時刻範囲に属する時刻の測定値に異常が認められることがあり、その測定値を見れば、特性のバラツキなどの原因ばかりでなく、不良発生の原因も分かるようになる。
従って、日常管理が必要な範囲の測定値をグラフ化して比較することは重要ではあるが、多量の測定値から、異常がある測定値を見つけ易くすることも重要であり、そのような異常で有効な測定値を簡単に発見できる技術が求められている。
特開2009−80844号公報
本発明の課題は、上記従来技術の問題点を解決するために、多種多量の測定値から、不良発生の原因を示す測定値を含む範囲を簡単、正確にグラフ化する技術を提供することにある。
また、真空処理を行った後、その真空処理に関する測定値の表示範囲を有効に変え、不良の原因を示す測定値を発見できる技術を提供することにある。
本発明の発明者等は、不良品が発生する場合等には、真空処理開始前の測定値に異常が認められることが多いことを発見した。
この場合、通常の観察範囲の測定値のグラフ化では、品質のバラツキ原因は分かっても、不良品の発生等、大きな変化があったときの原因を見つけられないため、真空処理を開始する前であっても、不良の原因を示す測定値を簡単に発見できる技術を開発した。
即ち、本発明は、真空槽と、前記真空槽内に配置された処理対象物を真空処理するために動作し、動作したときの動作状態を示す動作状態信号を出力する複数の処理機器と、前記真空処理に伴う測定を行い、測定した測定値を出力する複数のセンサ装置と、前記処理機器と前記センサ装置とを動作させ、前記動作状態信号を前記動作状態信号が変化した時刻である動作変化時刻と対応させ、前記測定値を、前記測定値が測定された測定時刻と対応させて記憶する制御装置と、を有する真空処理装置の、前記制御装置内記憶を表示する表示方法であり、前記表示方法は、前記処理機器のうち、予め設定された前記処理機器の前記動作変化時刻を仮表示開始時刻として、前記仮表示開始時刻と、前記仮表示開始時刻よりも後の時刻である表示終了時刻の間の前記測定時刻に対応する前記測定値を表示装置上にグラフ化して表示できる表示方法であって、前記表示方法は、表示変更の指示が示されると、前記仮表示開始時刻よりも前の前記動作変化時刻を本表示開始時刻とし、前記本表示開始時刻と前記表示終了時刻の間の前記測定時刻に対応する前記測定値を前記表示装置上にグラフ化して表示する表示方法である。
また、本発明は、表示変更の前記指示は、演算装置に接続された入力装置から入力される表示方法である。
また、本発明は、前記仮表示開始時刻に設定された前記動作変化時刻を出力した前記処理機器以外の前記処理機器が出力した動作変化時刻であって、前記仮表示開始時刻よりも前の、前記仮表示開始時刻に最も近い時刻の前記動作変化時刻を前記本表示開始時刻にする表示方法である。
また、本発明は、前記仮表示開始時刻に設定された前記動作変化時刻を出力した前記処理機器以外の前記処理機器が出力した動作変化時刻であって、前記仮表示開始時刻よりも前の、動作開始を示す前記動作状態信号の前記動作変化時刻のうち、前記仮表示開始時刻に最も近い時刻の前記動作変化時刻を前記本表示開始時刻にする表示方法である。
また、本発明は、前記仮表示開始時刻に設定された前記動作変化時刻を出力した前記処理機器以外の前記処理機器が出力した動作変化時刻であって、前記仮表示開始時刻よりも前の、動作停止を示す前記動作状態信号の前記動作変化時刻のうち、前記仮表示開始時刻に最も近い時刻の前記動作変化時刻を前記本表示開始時刻にする表示方法である。
また、本発明は、前記仮表示開始時刻よりも後の前記動作変化時刻であって、所望の前記処理機器が出力した動作変化時刻を前記表示終了時刻にする表示方法である。
真空処理を行った測定値の所望の部分を抽出してグラフ化でき、一旦表示したグラフを表示する時刻の範囲を有効に異ならせて再表示できるので、真空処理間の分析や比較を容易に行うことができる。
制御信号に基づいて抽出することができるので、比較するグラフデータの作業の時刻を一致させやすい。
画面上で見ながら抽出できるので制御信号中のノイズを見ることができ、ノイズによる誤った抽出を防止することができる。
また、抽出した測定値によるグラフの所望のものを移動できるので、ピーク位置などを同じX座標に位置させて正確にグラフを重ね合わせて分析することができる。
本発明の真空処理装置を説明するためのブロック図 本発明のデータ分析プログラムによる表示を説明するための表示装置の画面(1) 本発明のデータ分析プログラムによる表示を説明するための表示装置の画面(2)
図1の符号1は、本発明の真空処理装置の一例であり、成膜対象物に対して真空処理を行う一乃至複数の真空処理部20を有している。
ここでは一台の真空処理部20を有しているものとして説明すると、真空処理部20は、真空槽11を有しており、真空槽11の内部と外部には、処理対象物の真空処理を行う処理機器群24が配置されている。
また、真空処理部20には、処理機器群24の全部又は一部を制御する制御装置21と、真空槽11内の圧力や温度等を測定するセンサ群23とが配置されている。
この例では、真空処理部20は、蒸着装置であり、処理機器群24は複数種類を含んでおり、ここでは、処理機器群24には、真空槽11の底面に配置された蒸着源である処理機器34と、蒸着源である処理機器34に電子線を照射するEB(エレクトロンビーム)ガンである処理機器33と、蒸着源である処理機器34の上方に配置された保持装置である処理機器31と、保持装置である処理機器31の内部に配置されたヒータである処理機器32とが含まれている。
また、処理機器群24には、真空槽11の外部に配置された真空排気系である処理機器36と、ガス導入系である処理機器37と、ヒータ用電源である処理機器38と、蒸着用電源である処理機器35とも含まれている。
図1の符号15は、半導体基板やガラス基板から成る処理対象物であり、成膜面を蒸着源である処理機器34に向けて真空槽11内の保持装置である処理機器31に保持されている。
真空排気系である処理機器36とガス導入系である処理機器37は真空槽11に接続されており、真空排気系である処理機器36を動作させて真空槽11の内部を真空排気することができる。また、ガス導入系である処理機器37を動作させて真空槽11の内部にガス導入系である処理機器37から反応性ガス等のガスを導入することができる。
ヒータ用電源である処理機器38と蒸着用電源である処理機器35は、ヒータである処理機器32とEBガンである処理機器33にそれぞれ接続されており、ヒータ用電源である処理機器38と蒸着用電源である処理機器35は、制御装置21に制御された状態で、ヒータである処理機器32とEBガンである処理機器33にそれぞれ電力を供給する。
ヒータである処理機器32は供給された電力で発熱し、保持装置である処理機器31を昇温させて真空雰囲気中で処理対象物15を加熱する。
EBガンである処理機器33は供給された電力で蒸着源である処理機器34に電子ビームを照射し、蒸着源である処理機器34内に配置された蒸着材料を加熱し、真空槽11内の真空雰囲気中に蒸着材料の蒸気を放出させる。
この蒸気は真空雰囲気や反応ガス雰囲気中で処理対象物15に到達し、処理対象物15の成膜面に薄膜を形成する。反応ガス雰囲気中で薄膜を形成すれば、反応性蒸着が行われることになる。
センサ群23には、処理対象物15の温度を測定する温度センサであるセンサ装置28や、真空槽11内部の圧力を測定する真空計であるセンサ装置29や、蒸着材料の蒸気放出速度を測定する膜厚センサであるセンサ装置30とが含まれる。
また、センサ群23には、処理機器群24内の各処理機器31〜38に設けられた電流計であるセンサ装置、電圧計であるセンサ装置、温度計であるセンサ装置等も含まれており、それらセンサ群23によって、処理対象物15の真空処理に伴う温度、真空槽11内の圧力、EBガンである処理機器33が出力するEBの電流、導入ガス量等の物理量の測定が行われる。それら測定の結果である測定値は、ここでは測定を行った時刻に関連づけて、制御装置21に出力される。
処理機器群24に含まれる各処理機器31〜38の動作状態は、例えば動作中と動作停止中、通電中と通電停止中、導通中と遮断中など、二種類の状態に分けることができる。即ち、動作状態は、二値の動作状態信号によって表すことができる。
処理機器群24に含まれる各処理機器31〜38は、二種類の状態を区別する二値の動作状態信号を、動作状態信号の値が変化したときの時刻である動作変化時刻と対応付けて出力している。
例えば、動作停止の状態から、動作を開始するときには、動作状態信号は、動作停止中又は動作終了中を示す値から、動作中を示す値に変更されるから、動作状態信号の値の、停止中又は終了中から動作中への変化は、動作開始を示す信号になる。
ここでは、動作中はハイ信号、動作停止中はロー信号が出力され、ローからハイへの動作状態信号の変化が動作開始を示す信号になっている。逆に、ハイからローへの動作状態信号の変化は、動作終了を示す動作状態信号になる。
動作状態信号が変化した時刻を「動作変化時刻」とすると、動作変化時刻は計測され、動作状態信号は、動作変化時刻と共に制御装置21に出力される。
制御装置21には、シーケンサ41とコンピュータ40とが配置されており、真空処理部20から入力された測定値と、測定時刻と、動作状態信号と、動作変化時刻とは、シーケンサ41を介してコンピュータ40に入力される。
コンピュータ40は、演算装置42と、記憶装置43と、表示装置44と、入力装置46とを有している。記憶装置43には、コンピュータ40に入力された測定値は、その測定値が測定によって得られた測定時刻と対応付けて記憶され、動作状態信号は、動作状態信号が変化を示した時刻が動作変化時刻と対応付けて記憶される。
他方、シーケンサ41には、処理機器群24やセンサ群23を動作させて真空処理を行う手順が記憶されており、その手順に従って、シーケンサ41からは、真空処理部20の処理機器群24やセンサ群23を制御しながら真空処理を行わせる制御信号が出力され、真空槽11内に搬入された処理対象物15の真空処理が行われる。
この制御信号には、処理機器群24に含まれる装置を指定して動作を開始させる動作指示信号と、動作を開始させた装置の動作を停止させる停止指示信号とが少なくとも含まれており、真空処理の際に、処理機器31〜38が動作指示信号に従って動作を開始すると、動作開始を示す動作状態信号の変化が発生し、動作変化時刻と対応付けて処理機器31〜38から出力されることになる。
他方、処理機器31〜38が停止指示信号に従って動作を停止すると、動作停止を示す動作状態信号が動作変化時刻と対応付けて処理機器31〜38から出力される。
また、制御信号はセンサ群23に含まれるセンサ装置(符号28〜30で示されたセンサ装置の他、符号を付されていないセンサ装置を含む)にも出力されており、センサ装置を特定して測定を行うことを求めることを示す制御信号が、各センサ装置に入力されると、測定を求めて特定されたセンサ装置が動作し、そのセンサ装置に対応する物理量が測定されて測定値が求められ、測定値と測定時刻とが対応付けられてセンサ群23内のセンサ装置から出力される。
出力された動作状態信号及び動作変化時刻と、測定値及び測定時刻は、シーケンサ41を介してコンピュータ40に入力される。
記憶装置43と、入力装置46とは演算装置42に接続されており、複数枚数の処理対象物15を連続して真空処理を行う製造工程は、遠隔地からシーケンサ41に入力される処理開始信号や、入力装置46からシーケンサ41に入力される処理開始信号によって開始される。
真空槽11での一枚の処理対象物15の真空処理が行われると、その処理対象物15は真空槽11の外部に搬出され、未処理の処理対象物が真空槽11の内部に搬入され、処理対象物の真空処理が行われ、また、次の処理対象物が搬入されて真空処理が行われる。このように、複数枚数の処理対象物15の真空処理が連続して行われるようになっている。
但し、真空槽11内で処理対象物15を真空処理していないときも、各処理機器31〜38の動作状態は動作変化時刻と共に各処理機器31〜38から出力され、センサ装置の測定値も測定時刻と共に出力され、記憶装置43に記憶される。
連続して処理される多数の処理対象物15は、所定枚数ごとに一群にされ、各群には、それぞれ一群毎にロット番号が付与されており、測定値は、測定値が得られたときの真空処理を行ったロット番号と対応付けて記憶される。
このように、測定値は、ロット番号やロット名称等、ロットを区別できる表示を含むファイル名称が付されて記憶装置43内に記憶されており、また、一つのロット内に含まれる処理対象物であっても、異なる真空槽で真空処理が行われた処理対象物がある場合は、真空処理を行った真空槽を記憶内容から区別できるようになっており、真空処理に付される番号等の真空処理が区別できる表示や測定値の種類を区別できる表示も記憶内容に含まれている。
この真空処理部20では、複数ロットの処理対象物の真空処理が行われ、記憶装置43に複数ロットの真空処理の測定値と、測定値に対応した測定時刻と、その真空処理を制御した制御信号とが記憶され、制御信号に含まれる動作指示信号や停止指示信号の出力時刻も記憶されており、ロット番号、真空処理の種類、データの種類を指定して記憶装置43から測定値と測定時刻、測定時刻に関連したタイミングチャートを抽出することができる。
次に、測定値を分析するための、コンピュータ40のデータ分析プログラムについて説明する。
記憶装置43には、真空処理の分析を行うデータ分析プログラムが記憶されており、このデータ分析プログラムを起動し、所望のロット、真空処理、種類の測定値を分析する。
分析する測定値は、ここでは、同じ種類の処理機器31〜38によって処理された処理対象物であるが、異なるロットの処理対象物の真空処理の測定結果であり、分析は、種類が同じ物理量の比較になる。ここでは、一台のセンサによる測定は一定時間間隔で行われているものとする。データ分析プログラムでは、処理機器31〜38が動作を開始した時刻と動作を停止した時刻を、記憶された動作変化時刻から求めても良いし、制御信号に関する記憶のうち、制御装置21が処理機器31〜38を特定して動作を指示した動作指示信号の出力時刻と停止指示信号の出力時刻から求めても良い。
図2の符号50は、コンピュータ40に接続された表示装置44の画面を示している。コンピュータ40は、シーケンサ41との接続が遮断された状態でも、表示装置44の画面50上に所定内容の画像を表示することができ、また、記憶装置43とは遠隔した位置に配置されたコンピュータであっても、記憶装置43の記憶内容を読みとれればよい。
データ分析プログラムは、演算装置42を動作させて、測定値を画面50上にグラフ化して表示させる機能を有しており、データ分析プログラムは、処理機器群24内の処理機器31〜38のうち、予め決められた処理機器の動作変化時刻を記憶装置43で検索し、動作開始を示す動作変化時刻を仮表示開始時刻として設定する。
そして、仮表示開始時刻よりも後の時刻、例えば動作終了を示す動作変化時刻を仮表示終了時刻として設定する。次いで、演算装置42の演算により、測定時刻が、仮表示開始時刻以後、仮表示終了時刻までの範囲に含まれる測定値を、画面50上にグラフにして表示する。
本データ分析プログラム中では、例えば、EBガンである処理機器33のEB放出開始を示す動作状態信号の動作変化時刻を仮表示開始時刻に設定することができるし、また、その処理機器33の動作の開始を指示する開始指示信号の出力時刻を、仮表示開始時刻に設定することもできる。
また、ここでは、電子放出終了を示す動作変化時刻を仮表示終了時刻に設定している。
記憶装置43には、上述したように、温度、圧力、電流値などの複数種類の測定値が記憶されており、データ分析プログラムは、入力装置46によって特定の種類の測定値を指定して、データ分析プログラムが指定された種類の測定値を画面50上にグラフ化して表示することができる。
グラフ表示を説明すると、画面50に表示される画像には、グラフ表示領域58とタイミングチャート表示領域59が設けられている。
データ分析プログラムは、グラフ表示領域58に、画面50上で、水平方向に伸びるX軸と、X軸とは垂直な鉛直方向に伸びるY軸とを表示すると共に、仮表示開始時刻をX軸上の“0”(ゼロ)となる位置とし、X軸とY軸とが交差する位置とは異なる位置を、X軸上のゼロである仮表示開始時刻の位置とする。
ここでは、仮表示開始時刻は、画面50上のX軸とY軸とが交差する位置よりも右方の位置に設定した。
仮表示終了時刻のX軸上の位置は、仮表示開始時刻の位置よりも右方であり、画面50上に表示される位置によって、画面50上のX軸上の距離と時間との関係が決まる。
そして、仮表示開始時刻と仮表示終了時刻との間に測定時刻が位置する測定値のうち、指定された種類の測定値(ここでは圧力)を記憶内容から抽出する。
抽出した測定値は、各測定値に対応した測定時刻によってX軸上の位置が決まる。
測定値の値から測定値のY軸上の位置が決定される計算が成され、測定時刻と測定値の値(圧力)によって、X軸上の位置とY軸上の位置とが決められることで各測定値の画面50上の位置が決められる。
置決めされた測定値の位置間を曲線(直線も含む)で結んで曲線が表示されることで、グラフ表示が行われる。
タイミングチャート表示領域59のX軸は、グラフ表示領域58のX軸と、画面50の高さ方向の位置は異なるが、横方向上では同じ位置にあり、測定値と共に記憶装置43に記憶され、指定された処理機器31〜38の動作状態信号のうち、仮表示開始時刻と仮表示終了時刻の間の動作指示信号の値は、動作変化時刻に基づいて、タイミングチャート表示領域59のX軸上に位置を決めて表示する。
ここでは動作状態信号の内容はハイとローであり、ハイとローは横線分で示されており、ハイがローよりも画面50の上方に位置する横線分とされ、また、動作変化時刻のハイとローの横線分端部は、縦線分で結ばれてタイミングチャートが構成されて表示されている。
図2では、グラフ表示領域58には、二個のロットの測定値がロット毎にそれぞれ結ばれた二本の曲線L11、L21と、X軸と、Y軸とから成るグラフ48が表示されている。タイミングチャート表示領域59には、仮表示開始時刻を決定する装置の動作状態を示すタイミングチャート511と、他の装置の動作状態を示すタイミングチャート521と、X軸とが表示されている。
これらのグラフ上では、仮表示開始時刻を決定する処理機器の動作状態信号は、その立上り部分61の時刻である動作変化時刻が仮表示開始時刻に設定されており、立下り部分62の時刻である動作変化時刻が仮表示終了時刻に設定されている。X軸上では、仮表示開始時刻の位置の下に“0”が表示され、仮表示終了時刻の位置の下に60(60分)が表示されている。
データ分析プログラムは、更に他の装置のタイミングチャートをタイミングチャート領域59に表示することも可能であり、ここでは、仮表示開始時刻と仮表示終了時刻の間に、ハイ信号63が出力されたことを示すタイミングチャート521が表示されている。
図2の曲線L11、L21は、ほぼ同様の曲線形状を示しているが、それでも、この真空処理部20の真空処理工程を終了した結果、処理対象物15同士の特性値の差が大きい場合がある。その場合、本発明を用いると、特性値の大きな差の原因を判明させるために、キーボード等の入力装置46によって例えば所定の文字列を入力する等の指示を入力することで、データ分析プログラムにグラフの再表示を指示することができる。
データ分析プログラムは、その指示がされると、先ず、処理機器群24に含まれる各処理機器31〜38の動作状態信号を検索し、仮表示開始時刻よりも前の時刻の動作変化時刻を検出する。
ここでは、仮表示開始時刻よりも前の時刻に、動作開始を示す動作状態信号が複数出力されたことを検出しており、それらの動作状態信号のうち、所望の動作変化時刻を抽出し、その動作変化時刻を本表示開始時刻として設定する。
ここでは、仮表示開始時刻に一番近い動作変化時刻を有する動作状態信号を抽出し、その動作変化時刻を本表示開始時刻として設定した。二番目に近い動作変化時刻や、三番目に近い動作変化時刻など所望番目に近い動作変化時刻でも採用することができる。
そして、本表示開始時刻と仮表示終了時刻とが、画面50上のX軸で示す時刻に含まれるように、X軸の画面50上の距離と時間との関係を設定し直し、グラフ表示領域58のX軸とタイミングチャート表示領域59のX軸と、X軸の位置と時間とを対応させる数値を表示し直す。両方のX軸の本表示開始時刻の位置と仮表示終了時刻の位置は画面50の横方向上で同じ位置にする。
図3の画面50上には、選択した種類の測定値のうち、本表示開始時刻と仮終了時刻の間に測定時刻を有する測定値を抽出し、仮表示開始時刻を表示開始時刻として表示した曲線L11、L21は消去し、測定値から作成された曲線L 12 、L 22 を再表示した。
本表示開始時刻を決定する装置の動作状態を示すタイミングチャート511と、他の装置の動作状態を示すタイミングチャート521として再表示した
図3の符号49は、再表示を行った曲線L 12 、L 22 のグラフを示している。
ここでは、X軸の画面50上での長さは同じであるが、X軸上に対応付けられた時間は長時間になっており、本表示開始時刻から仮表示終了時刻までの時間が図2と同じ長さのX軸に割り振られている。X軸上の“0”の位置の時刻は、仮表示開始時刻である。
そして、タイミングチャート表示領域59には、本表示開始時刻から仮表示終了時刻の間の動作状態信号の値が表示されており、再表示前にも表示されていた処理装置の動作状態信号のタイミングチャート511、521に加え、動作変化時刻が本表示開始時刻とされた処理装置の動作状態信号もタイミングチャート53として表示しており、本表示開始時刻として、このタイミングチャート53に含まれるパルス状の信号64のローからハイに転じた動作変化時刻が検出されたことが分かる。
X軸のゼロの位置は仮表示時刻であり、本表示開始時刻にされた動作変化時刻は、それよりも前の時刻の位置(ここでは、ゼロの15分前の時刻の位置)であり、本表示開始時刻から仮表示開始時刻までの間に、表示された測定値の曲線L12、L22間に離間が認められる。仮表示開始時刻よりも前の状態が、工程が終了した処理対象物15の特性の差の原因になっていることが分かる。
本例では、仮表示終了時刻を表示終了時刻にしていたが、仮表示終了時刻についても、仮表示終了時刻よりも後であって、仮表示終了時刻を含む動作状態信号を出力した処理機器以外の処理機器の動作状態信号の動作変化時刻を本表示終了時刻にして、本表示開始時刻と、本表示終了時刻の間の測定時刻に測定された測定値をグラフ化して画面50上に表示することができる。
本例では、動作開始を示す動作状態信号の動作変化時刻を本表示時刻にしたが、動作停止を示す動作状態信号の動作変化時刻から選択して本表示時刻にしてもよい。動作開始と動作停止を示す両方の動作状態信号の動作時刻から選択しても良い。
1……真空処理装置
11……真空槽
15……処理対象物
20……真空処理部
21……制御装置
23……センサ群
24……処理機器群
31〜38……処理機器
40……コンピュータ
42……演算装置
43……記憶装置
44……表示装置

Claims (6)

  1. 真空槽と、前記真空槽内に配置された処理対象物を真空処理するために動作し、動作したときの動作状態を示す動作状態信号を出力する複数の処理機器と、
    前記真空処理に伴う測定を行い、測定した測定値を出力する複数のセンサ装置と、
    前記処理機器と前記センサ装置とを動作させ、前記動作状態信号を前記動作状態信号が変化した時刻である動作変化時刻と対応させ、前記測定値を、前記測定値が測定された測定時刻と対応させて記憶する制御装置と、
    を有する真空処理装置の、前記制御装置内記憶を表示する表示方法であり、
    前記表示方法は、前記処理機器のうち、予め設定された前記処理機器の前記動作変化時刻を仮表示開始時刻として、
    前記仮表示開始時刻と、前記仮表示開始時刻よりも後の時刻である表示終了時刻の間の前記測定時刻に対応する前記測定値を表示装置上にグラフ化して表示できる表示方法であって、
    前記表示方法は、表示変更の指示が示されると、前記仮表示開始時刻よりも前の前記動作変化時刻を本表示開始時刻とし、
    前記本表示開始時刻と前記表示終了時刻の間の前記測定時刻に対応する前記測定値を前記表示装置上にグラフ化して表示する表示方法。
  2. 表示変更の前記指示は、演算装置に接続された入力装置から入力される請求項1記載の表示方法。
  3. 前記仮表示開始時刻に設定された前記動作変化時刻を出力した前記処理機器以外の前記処理機器が出力した動作変化時刻であって、
    前記仮表示開始時刻よりも前の、前記仮表示開始時刻に最も近い時刻の前記動作変化時刻を前記本表示開始時刻にする請求項1又は2のいずれか1項記載の表示方法。
  4. 前記仮表示開始時刻に設定された前記動作変化時刻を出力した前記処理機器以外の前記処理機器が出力した動作変化時刻であって、
    前記仮表示開始時刻よりも前の、動作開始を示す前記動作状態信号の前記動作変化時刻のうち、前記仮表示開始時刻に最も近い時刻の前記動作変化時刻を前記本表示開始時刻にする請求項1又は2のいずれか1項記載の表示方法。
  5. 前記仮表示開始時刻に設定された前記動作変化時刻を出力した前記処理機器以外の前記処理機器が出力した動作変化時刻であって、
    前記仮表示開始時刻よりも前の、動作停止を示す前記動作状態信号の前記動作変化時刻のうち、前記仮表示開始時刻に最も近い時刻の前記動作変化時刻を前記本表示開始時刻にする請求項1又は2のいずれか1項記載の表示方法。
  6. 前記仮表示開始時刻よりも後の前記動作変化時刻であって、所望の前記処理機器が出力した動作変化時刻を前記表示終了時刻にする請求項1記載の表示方法。

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