JP5368577B2 - 座標位置検出装置、その方法、および、表示装置 - Google Patents

Description

本発明は、座標位置検出装置、その方法、および、表示装置に関する。

従来、光学式タッチパネルなどに採用され、所定の入力に応じて座標位置を検出する構成が知られている（例えば、特許文献１および特許文献２参照）。
特許文献１に記載のものは、表示面の全域を走査して遮光物の座標位置を検出した際に、その検出した遮光物の座標位置を含ませて全領域の走査よりも狭い範囲に限定して第２の走査を行う構成が採られている。
特許文献２に記載のものは、２個の発光部から再帰性反射部材にそれぞれ複数のプローブ光を射出して、２個の受光部にて再帰反射光を受光する。そして、受光部における再帰反射光の光強度が最小となる位置と、受光部での光強度分布が所定値よりも小さい遮光領域幅と、に基づいて、複数の遮光物の座標を算出する構成が採られている。

特許第４２８６６９８号公報 特開２００３−１２２４９４号公報

しかしながら、特許文献１に記載のような構成では、第２の走査で１つの遮光物の座標位置を検出した後、第２の走査領域と異なる領域でさらに他の遮光物の座標位置を検出することができないおそれがある。すなわち、複数の遮光物の座標位置を同時に検出することができないという問題点がある。
さらに、特許文献２に記載のような構成では、複数の遮光物のそれぞれの座標位置が検出された後も、タッチパネル面の全域にプローブ光が射出されるため、遮光物から離れた位置にもプローブ光が射出されることになり、応答性が低くなり、良好な処理を実施できないという問題点がある。

本発明の目的は、高い応答性を有し簡単な構成で複数の遮光物の座標位置を検出可能な座標位置検出装置、その方法、および、表示装置を提供することである。

本発明の座標位置検出装置は、表示面の面方向に沿って互いに交差する方向に検出光を順次出射する複数の発光素子と、この複数の発光素子のそれぞれに対向する位置に配置され前記出射された検出光を順次受光する複数の受光素子とを具備し、前記検出光が遮光物で遮光された際に、前記受光素子の受光量に基づいて遮光部分の座標位置を検出する座標位置検出装置であって、前記検出光を用いて所定の走査領域を走査する走査手段と、前記遮光物が前記検出光を遮光している走査位置に基づいて、前記表示面上での前記遮光物の座標位置を検出する座標検出手段と、を具備し、前記走査手段は、あらかじめ設定された複数の基準個数未満の遮光物の座標位置が前記座標検出手段で検出されている場合、前記発光素子からの検出光をこの発光素子に対向する受光素子を含む複数の受光素子で受光させて前記基準個数未満の遮光物の近傍のみを順次走査する斜め部分走査処理と、前記発光素子からの検出光をこの発光素子に対向する受光素子のみで受光させて前記表示面全体を順次走査する全体走査処理と、を並行して実施することを特徴とする。

本発明の表示装置は、表示面を有する表示手段と、この表示手段の表示面の面方向に沿って互いに交差する方向に出射された検出光が遮光物で遮光された際に、この遮光部分の座標位置を検出する上述の座標位置検出装置と、を具備したことを特徴とする。

本発明の座標位置検出方法は、演算手段により、表示面の面方向に沿って互いに交差する方向に出射された検出光が遮光物で遮光された際に、この遮光部分の座標位置を検出する座標位置検出方法であって、前記演算手段は、前記検出光を用いて所定の走査領域を走査する走査工程と、前記遮光物が前記検出光を遮光している走査位置に基づいて、前記表示面上での前記遮光物の座標位置を検出する座標検出工程と、を実施し、前記走査工程では、あらかじめ設定された基準個数未満の遮光物の座標位置が前記座標検出工程で検出されている場合、前記基準個数未満の遮光物の近傍のみを順次走査する斜め部分走査処理と、前記表示面全体を順次走査する全体走査処理と、を並行して実施し、前記斜め部分走査処理に用いられる検出光は、互いに平行な光、直交する光、および、斜めに交差する光から構成され、前記斜め部分走査の走査時間は前記全体走査処理の走査時間の２分の１以下であることを特徴とする。

本発明の第１〜第３実施形態に係る表示装置の概略構成を示すブロック図である。 前記第１実施形態における全体同時走査処理および全体順次走査処理の説明図である。 前記第１実施形態における第１局部同時走査処理の説明図である。 前記第１実施形態における第１，第２局部同時走査処理の説明図である。 前記第１実施形態における座標検出処理を示すフローチャートである。 前記第１実施形態における２点検出時座標特定処理を示すフローチャートである。 前記第１実施形態における２個の遮光物が存在している場合の遮光状態を示す模式図である。 前記第１実施形態における受光素子から遠い位置で遮光されているときの受光レベルを表す模式図である。 前記第１施形態における受光素子に近い位置で遮光されているときの受光レベルを表す模式図である。 本発明の第４実施形態に係る表示装置の概略構成を示すブロック図である。

［第1実施形態］
まず、本発明の第1実施形態について図面に基づいて説明する。
｛表示装置の構成｝
図１は、本発明の第１〜第３実施形態に係る表示装置の概略構成を示すブロック図である。図２は、全体同時走査処理および全体順次走査処理の説明図である。図３は、第１局部同時走査処理の説明図である。図４は、第１，第２局部同時走査処理の説明図である。

図１において、表示装置１００は、例えば電子黒板装置であり、表示面における少なくとも一つの遮光物により遮光された部分の座標位置を検出して、この座標位置に対応する位置に点を表示させたり、この座標位置に対応する処理をする。
ここで、遮光物としては、表示装置１００専用のスタイラス、人の指などが例示できる。
そして、表示装置１００は、表示手段１１０と、Ｘ軸側発光部１２０と、Ｙ軸側発光部１３０と、Ｘ軸側受光部１４０と、Ｙ軸側受光部１５０と、座標位置検出装置および演算手段としての制御部１６０と、を備えている。

表示手段１１０は、タッチパネル面である表示面１と、この表示面１に各種画像を適宜表示させる図示しない表示制御手段と、を備えている。
表示面１は、図１に示すように、４個の側辺を有する略矩形に形成されている。具体的には、表示面１は、その外周方向に沿って接続された第１の側辺１Ａと、第１の側辺１Ａより短い第２の側辺１Ｂと、第１の側辺１Ａと同じ長さの第３の側辺１Ｃと、第２の側辺１Ｂと同じ長さの第４の側辺１Ｄと、にて、略矩形に形成されている。

Ｘ軸側発光部１２０は、第１の側辺１Ａに沿った位置に設けられ、Ｘ軸側発光素子部１２１と、Ｘ軸側駆動制御部１２２と、を備えている。
Ｘ軸側発光素子部１２１は、Ｘ軸側駆動制御部１２２に電気的に接続されて、図２に示すように、表示面１の第１の側辺１Ａに沿って並設された複数、本実施形態では２５６個の発光素子２ｘを備えている。この発光素子２ｘは、赤外線ＬＥＤ（Light-Emitting Diode）である。なお、発光素子２ｘ、後述する発光素子２ｙおよび受光素子３ｘ，３ｙの個数については、説明を理解しやすくするために、図２および後述する図３、図４、図７において、実際の個数よりも少なく図示している。また、発光素子２ｘ，２ｙ、受光素子３ｘ，３ｙの符号を便宜上一部のもののみに付しているが、発光素子および受光素子の数を限定するものではない。
Ｘ軸側駆動制御部１２２は、制御部１６０に電気的に接続されて、制御部１６０の制御により、適宜選択された１個の発光素子２ｘから第３の側辺１Ｃに向けて、赤外線の検出光Ｌｘを表示面１の面方向に沿って出射させる。

Ｙ軸側発光部１３０は、第２の側辺１Ｂに沿った位置に設けられ、Ｙ軸側発光素子部１３１と、Ｙ軸側駆動制御部１３２と、を備えている。
Ｙ軸側発光素子部１３１は、Ｙ軸側駆動制御部１３２に電気的に接続され、第２の側辺１Ｂに沿って並設された発光素子２ｘよりも少ない数、本実施形態では１４４個の発光素子２ｙを備えている。この発光素子２ｙは、赤外線ＬＥＤである。
Ｙ軸側駆動制御部１３２は、制御部１６０に電気的に接続され、適宜選択された１個の発光素子２ｙから第４の側辺１Ｄに向けて赤外線の検出光Ｌｙを表示面１の面方向に沿って出射させる。

Ｘ軸側受光部１４０は、第３の側辺１Ｃに沿った位置に設けられ、Ｘ軸側受光素子部１４１と、Ｘ軸側出力選択部１４２と、２個のＸ軸側ＡＤ変換部１４３と、を備えている。
Ｘ軸側受光素子部１４１は、Ｘ軸側出力選択部１４２に電気的に接続され、第３の側辺１Ｃに沿って並設された２５６個の受光素子３ｘを備えている。これら受光素子３ｘは、発光素子２ｘにそれぞれ１対１に対向する位置に、すなわち対向する発光素子２ｘからの検出光Ｌｘを受光可能な位置に設けられ、対向する発光素子２ｘからの検出光Ｌｘの受光量に対応する受光信号をＸ軸側出力選択部１４２へ出力する。
全体Ｘ軸走査処理の検出光Ｌｘは、互い平行に出射される。また、後述の全体Ｙ軸走査処理の検出光Ｌｙも、互い平行に出射される。したがって、全体Ｘ軸走査処理の検出光Ｌｘと全体Ｙ軸走査処理の検出光Ｌｙとは、互い直交する方向に出射される。ただし、全体Ｘ軸走査処理の検出光Ｌｘ、全体Ｙ軸走査処理の検出光Ｌｙが互いに直交して出射されているが、検出光Ｌｘと検出光Ｌｙが平行でなければ、検出光Ｌｘと検出光Ｌｙは必ずしも直交する必要はない。
Ｘ軸側出力選択部１４２は、０．１ｍｓ（ミリ秒）毎に、最大で２個の受光素子３ｘからのアナログの受光信号を選択的に取得して、２個のＸ軸側ＡＤ変換部１４３へそれぞれ出力する。
Ｘ軸側ＡＤ変換部１４３は、アナログの受光信号をデジタルの受光信号に変換して、制御部１６０へ出力する。

Ｙ軸側受光部１５０は、第４の側辺１Ｄに沿った位置に設けられ、Ｙ軸側受光素子部１５１と、Ｙ軸側出力選択部１５２と、２個のＹ軸側ＡＤ変換部１５３と、を備えている。
Ｙ軸側受光素子部１５１は、Ｙ軸側出力選択部１５２に電気的に接続され、第４の側辺１Ｄに沿って並設された１４４個の受光素子３ｙを備えている。これら受光素子３ｙは、発光素子２ｙにそれぞれ１対１に対向する位置に設けられ、対向する発光素子２ｙからの検出光Ｌｙの受光量に対応する受光信号をＹ軸側出力選択部１５２へ出力する。
Ｙ軸側出力選択部１５２は、０．１ｍｓ毎に、最大で２個の受光素子３ｙからのアナログの受光信号を選択的に取得して、２個のＹ軸側ＡＤ変換部１５３へそれぞれ出力する。
Ｙ軸側ＡＤ変換部１５３は、アナログの受光信号をデジタルの受光信号に変換して、制御部１６０へ出力する。

制御部１６０は、各種プログラムにより構成され、検出光Ｌｘ，Ｌｙを用いて表示面１上の走査領域を走査する走査手段１６１と、遮光物Ｑ１，Ｑ２（図３，図４参照）の表示面１上における座標位置を検出する座標検出手段１６２と、座標対応処理手段１６３と、を備えている。

走査手段１６１は、Ｘ軸側発光部１２０およびＹ軸側発光部１３０を制御して、所定の発光素子２ｘ，２ｙから検出光Ｌｘ，Ｌｙを出射させる。つまり、検出光Ｌｘ，Ｌｙの出射位置を第１，第２の側辺１Ａ，１Ｂに沿って移動させる。

具体的には、走査手段１６１は、座標検出手段１６２で遮光物Ｑ１，Ｑ２の座標位置が検出されていない場合、表示面１の全領域を順次走査する全体同時走査処理を実施し、１個の遮光物Ｑ１の座標位置が検出されている場合、表示面１の全領域を順次走査する全体順次走査処理を実施する。すなわち、本実施形態では、あらかじめ設定された基準個数が２個であり、走査手段１６１は、座標位置が検出されている遮光物の個数が２個未満の場合に、全体同時走査処理と全体順次走査処理を実施する。

まず、全体同時走査処理では、走査手段１６１は、全ての発光素子２ｘから検出光Ｌｘを順次出射させて走査する全体Ｘ軸走査処理と、全ての発光素子２ｙから検出光Ｌｙを順次出射させて走査する全体Ｙ軸走査処理と、を同時に実施する。

具体的には、走査手段１６１は、全体Ｘ軸走査処理の際、第４の側辺１Ｄ側の発光素子２ｘを始点として、順次１個ずつ発光素子２ｘから検出光Ｌｘを０．１ｍｓ毎に出射させる。さらに、図２に示すように、検出光Ｌｘを出射した発光素子２ｘに対向する受光素子３ｘのみからの受信信号を、Ｘ軸側出力選択部１４２に０．１ｍｓ毎に取得させる。そして、走査手段１６１は、１個のＸ軸側ＡＤ変換部１４３を介したデジタルの受光信号を取得して、検出光Ｌｘを出射した発光素子２ｘの位置に関する出射位置信号とともに、座標検出手段１６２へ出力する。

また、走査手段１６１は、全体Ｙ軸走査処理の際、第３の側辺１Ｃ側の発光素子２ｙを始点として、順次１個ずつの発光素子２ｙから検出光Ｌｙを０．１ｍｓ毎に出射させ、検出光Ｌｙを出射した発光素子２ｙに対向する受光素子３ｙのみからの受信信号を、Ｙ軸側出力選択部１５２に０．１ｍｓ毎に取得させる。そして、１個のＹ軸側ＡＤ変換部１５３を介して取得したデジタルの受光信号を、検出光Ｌｙを出射した発光素子２ｙの位置に関する出射位置信号とともに、座標検出手段１６２へ出力する。

ここで、２５６個の発光素子２ｘが存在するため、１回の全体Ｘ軸走査処理の所要時間（以下、全体Ｘ軸走査時間と称す）は、２５．６ｍｓであり、１４４個の発光素子２ｙが存在するため、１回の全体Ｙ軸走査処理の所要時間（以下、全体Ｙ軸走査時間と称す）は、１４．４ｍｓである。走査手段１６１は、全体Ｘ軸走査処理と全体Ｙ軸走査処理とを同期させるため、全体Ｙ軸走査処理が終了した後、全体Ｘ軸走査処理が終了するまで、全体Ｙ軸走査処理を実施しない。したがって、１回の全体走査処理の走査時間としての全体同時走査処理の所要時間（以下、全体同時走査時間と称す）は、２５．６ｍｓである。

一方、全体順次走査処理では、走査手段１６１は、全体Ｘ軸走査処理と、全体Ｙ軸走査処理と、を順次に実施する。
ここで、全体Ｘ軸走査時間と、全体Ｙ軸走査時間とは、それぞれ２５．６ｍｓ、１４．４ｍｓなので、１回の全体走査処理の走査時間としての全体順次走査処理の所要時間（以下、全体順次走査時間と称す）は、４０ｍｓである。
このような制御により、表示面１全体が順次走査される。
なお、１個の遮光物Ｑ１の座標位置が検出されている場合、全体同時走査処理を実施してもよい。

また、走査手段１６１は、１個の遮光物Ｑ１の座標位置が検出されている場合、図３に示すように、この遮光物Ｑ１の近傍のみ、つまり表示面１の遮光物Ｑ１を含む所定の局部領域Ｒ１について集中的に検出光Ｌｘ，Ｌｙを走査させる斜め部分走査処理としての第１局部同時走査処理と、全体順次走査処理とを並行して実施する。ここで、第１局部同時走査処理は、全体順次走査処理を１回実施する間に、少なくとも２回以上実施することが望ましい。

具体的には、第１局部同時走査処理では、走査手段１６１は、局部領域Ｒ１に対応する発光素子２ｘから検出光Ｌｘを順次出射させて走査する局部Ｘ軸走査処理と、局部領域Ｒ１に対応する発光素子２ｙから検出光Ｌｙを順次出射させて走査する局部Ｙ軸走査処理と、を同時に実施する。

まず、走査手段１６１は、遮光物Ｑ１の座標位置が（ｘ１，ｙ１）の場合、Ｘ座標がｘ１の発光素子２ｘ１と、この発光素子２ｘ１を中心とした両側２個ずつの発光素子２（ｘ１＋１），２（ｘ１＋２），２（ｘ１−１），２（ｘ１−２）と、Ｙ座標がｙ１の発光素子２ｙ１と、この発光素子２ｙ１を中心とした両側２個ずつの発光素子２（ｙ１＋１），２（ｙ１＋２），２（ｙ１−１），２（ｙ１−２）と、を発光対象素子として特定する。

さらに、走査手段１６１は、局部Ｘ軸走査処理の際、例えば発光素子２（ｘ１＋２），２（ｘ１＋１），２ｘ１，２（ｘ１−１），２（ｘ１−２）の順序で、１個ずつ検出光Ｌｘを０．５ｍｓ毎に出射させる。そして、各発光素子２ｘについて、それぞれ５個の受光素子３ｘからの受信信号を座標検出手段１６２へ出力する。
例えば、発光素子２ｘ１から出射される検出光Ｌｘは、所定の広がりを持って出射されるため、発光素子２ｘ１に対向する受光素子３ｘ１に加えて、この受光素子３ｘ１近傍の受光素子３（ｘ１＋１），３（ｘ１＋２），３（ｘ１−１），３（ｘ１−２）でも受光される。したがって、局部Ｘ軸走査処理の検出光Ｌｘは、発光素子２ｘから受光素子３ｘに向かう方向に互い平行に出射されるとともに、例えば、発光素子２ｘ１から受光素子３（ｘ１＋１）に向かう斜め方向にも出射される。
走査手段１６１は、受光素子３（ｘ１＋２），３（ｘ１＋１），３ｘ１，３（ｘ１−１），３（ｘ１−２）のみからの受信信号を、Ｘ軸側出力選択部１４２に０．１ｍｓ毎に順次取得させ、１個のＸ軸側ＡＤ変換部１４３を介したデジタルの受光信号を取得して、検出光Ｌｘを出射した発光素子２ｘの位置に関する出射位置信号とともに、座標検出手段１６２へ出力する。

また、走査手段１６１は、局部Ｙ軸走査処理の際、発光素子２（ｙ１＋２），２（ｙ１＋１），２ｙ１，２（ｙ１−１），２（ｙ１−２）の順序で、１個ずつ検出光Ｌｙを０．５ｍｓ毎に出射させ、各発光素子２ｙについて、それぞれ５個の受光素子３ｙからの受信信号を座標検出手段１６２へ出力する。
ここで、局部Ｙ軸走査処理の検出光Ｌｙは、局部Ｘ軸走査処理の検出光Ｌｘと同様に、互い平行に出射されるとともに、斜めに交差する方向にも出射される。
すなわち、局部Ｘ軸走査処理の検出光Ｌｘと局部Ｙ軸走査処理の検出光Ｌｙとは、互い直交する方向および斜めに交差する方向に出射される。
例えば、走査手段１６１は、発光素子２ｙ１から検出光Ｌｙを出射させ、受光素子３（ｙ１＋２），３（ｙ１＋１），３ｙ１，３（ｙ１−１），３（ｙ１−２）のみからの受信信号を、Ｙ軸側出力選択部１５２に０．１ｍｓ毎に取得させる。そして、１個のＹ軸側ＡＤ変換部１５３を介したデジタルの受光信号を、検出光Ｌｙを出射した発光素子２ｙの位置に関する出射位置信号とともに、座標検出手段１６２へ出力する。

ここで、１回の局部Ｘ，Ｙ軸走査処理では、それぞれ５個の発光素子２ｘ，２ｙを０．５ｍｓずつ発光させるため、１回の局部Ｘ軸走査処理の所要時間（以下、局部Ｘ軸走査時間と称す）と、１回の局部Ｙ軸走査処理の所要時間（以下、局部Ｙ軸走査時間と称す）は、それぞれ２．５ｍｓである。したがって、１回の斜め部分走査処理の走査時間としての第１局部同時走査処理の所要時間（以下、第１局部同時走査時間）は、２．５ｍｓである。
すなわち、第１局部同時走査時間は、全体順次走査時間の１６分の１であるので、走査手段１６１は、全体順次走査を１回実施する間に第１局部同時走査処理を１６回実施する。任意の座標点について全体走査と第１局部同時走査を同時に実施すると誤作動が発生するおそれがあるため、任意の座標点について全体走査と第１局部同時走査は同時に実施することがないようにタイミングを考慮する必要がある。そのために走査手段１６１は、第１局部同時走査を全体順次走査と同期して行うことが望ましい。

さらに、走査手段１６１は、第１局部同時走査処理と全体順次走査処理とを並行して実施した際、２個目の遮光物Ｑ２の座標位置が検出された場合、図４に示すように、遮光物Ｑ１についての第１局部同時走査処理を継続するとともに、２個目の遮光物Ｑ２近傍である局部領域Ｒ２について集中的に検出光Ｌｘ，Ｌｙを走査させる第２局部同時走査処理を並行して実施する。また、全体順次走査処理を終了する。
すなわち、走査手段１６１は、遮光物Ｑ１についての局部Ｘ軸走査処理および局部Ｙ軸走査処理と、遮光物Ｑ２についての局部Ｘ軸走査処理および局部Ｙ軸走査処理と、を同時に実施する。

具体的には、走査手段１６１は、遮光物Ｑ２の座標位置が（ｘ２，ｙ２）の場合、第１局部同時走査処理と同様に、発光素子２ｘ２，２（ｘ２＋１），２（ｘ２＋２），２（ｘ２−１），２（ｘ２−２），発光素子２ｙ２，２（ｙ２＋１），２（ｙ２＋２），２（ｙ２−１），２（ｙ２−２）を発光対象素子として特定する。そして、各発光対象素子から０．５ｍｓずつ検出光Ｌｘ，Ｌｙを出射させるとともに、各発光対象素子のそれぞれについて５個の受光素子３ｘ，３ｙからの受光信号を０．１ｍｓ毎にＸ，Ｙ軸側出力選択部１４２，１５２に出力する局部Ｘ，Ｙ軸走査処理を同時に実施する。
ここで、２個の遮光物Ｑ１，Ｑ２が検出されている場合、全体順次走査処理の代わりに第２局部同時走査処理が開始される。このため、全体順次走査処理で用いられていたＸ，Ｙ軸側ＡＤ変換部１４３，１５３を遮光物Ｑ２の第２局部同時走査処理に用いることができ、遮光物Ｑ１，Ｑ２についての第１，第２局部同時走査処理を同時に実施できる。

ここで、遮光物Ｑ１，Ｑ２についての第１，第２局部同時走査処理は同時に実施されるため、１回の第１，第２局部同時走査時間は、それぞれ２．５ｍｓである。
各走査処理における走査時間を表１に示す。

座標検出手段１６２は、全体同時走査処理や全体順次走査処理や第１，第２局部同時走査処理の際に、検出光Ｌｘ，Ｌｙが遮光物Ｑ１，Ｑ２で遮光されたことを検出すると、この遮光物Ｑ１，Ｑ２の座標位置を検出する。なお、座標検出手段１６２での詳細な動作は、後述する。
座標対応処理手段１６３は、座標検出手段１６２で検出した座標に対応する処理、例えば点を表示させる処理をする。

｛表示装置の動作｝
次に、表示装置１００の動作について説明する。
図５は、座標検出処理を示すフローチャートである。図６は、２点検出時座標特定処理を示すフローチャートである。図７は、２個の遮光物が存在している場合の遮光状態を示す模式図である。図８は、受光素子から遠い位置で遮光されているときの受光レベルを表す模式図である。図９は、受光素子に近い位置で遮光されているときの受光レベルを表す模式図である。

表示装置１００の走査手段１６１は、電源がオンの状態で、図５に示すように、電源がオフになったか否かを判断し（ステップＳ１）、電源がオフになったと認識したら処理を終了する。一方、ステップＳ１において、走査手段１６１は、電源がオンのままであると判断した場合、図２に示すように、表示面１全体を走査する全体同時走査処理を実施する（ステップＳ２）。この後、座標検出手段１６２は、１個目の遮光物Ｑ１を検出したか否かを判断する（ステップＳ３）。
このステップＳ３において、全ての受光素子３ｘ，３ｙの受光レベルが変化しておらず、遮光物Ｑ１を検出していないと判断した場合、ステップＳ１の処理をする。一方、ステップＳ３において、所定の受光素子３ｘ１，３ｙ１の受光レベルが変化して、図３に示すような遮光物Ｑ１を検出したと判断した場合、受光素子３ｘ１，３ｙ１に対応する座標Ａ（ｘ１，ｙ１）を遮光物Ｑ１の座標Ａとして特定する（ステップＳ４）。

そして、走査手段１６１は、座標検出手段１６２で遮光物Ｑ１の座標Ａ（ｘ１，ｙ１）が検出されると、図２に示す表示面１全体を走査する全体順次走査処理と、図３に示す局部領域Ｒ１のみを走査する第１局部同時走査処理と、を並行して実施する（ステップＳ５）。このステップＳ５の処理中に、座標検出手段１６２は、第１局部同時走査処理での遮光状態に基づいて遮光物Ｑ１の座標を検出し続ける。そして、座標対応処理手段１６３は、遮光物Ｑ１の座標に対応する処理、例えば遮光物Ｑ１の軌跡上に線を描く処理をする。
このステップ５において、走査手段１６１は、全体順次走査を１回実施する間に第１局部同時走査を１６回実施する。
この後、走査手段１６１は、遮光物Ｑ１のみが検出され続けている１点検出状態が継続中か否かを判断し（ステップＳ６）、継続中であると判断すると、ステップＳ５の処理をする。一方、ステップＳ６において、継続中でないと判断した場合、２個目の遮光物Ｑ２を検出したか否かを判断する（ステップＳ７）。

このステップＳ７において、走査手段１６１は、遮光物Ｑ２を検出していない、すなわち遮光物Ｑ１が表示面１上に存在しなくなったと判断した場合、ステップＳ１の処理をする。また、ステップＳ７において、遮光物Ｑ２を検出したと判断した場合、全体順次走査処理を終了して、遮光物Ｑ２についての第２局部同時走査処理と、第１局部同時走査処理とを同時に実施する（ステップＳ８）。具体的には、全体順次走査処理において、図４に示すように、新たに受光素子３ｘ２，３ｙ２の受光レベルが変化した場合に、局部領域Ｒ２を特定する。そして、この局部領域Ｒ２に対応する５個ずつの発光対象素子としての発光素子２ｘ，２ｙを特定して、この発光素子２ｘ，２ｙの検出光Ｌｘ，Ｌｙを用いた第２局部同時走査処理を全体順次走査処理の代わりに開始する。
そして、座標検出手段１６２は、遮光物Ｑ１，Ｑ２の座標を特定する２点検出時座標特定処理を実施する（ステップＳ９）。

座標検出手段１６２は、第１，第２局部同時走査処理での遮光状態に基づいて遮光物Ｑ１，Ｑ２の座標を検出し続ける。そして、座標対応処理手段１６３は、遮光物Ｑ１，Ｑ２の座標に対応する処理をする。そして、走査手段１６１は、遮光物Ｑ１，Ｑ２が検出され続けている２点検出状態が継続中か否かを判断し（ステップＳ１０）、継続中であると判断すると、ステップＳ８の処理をし、継続中でないと判断すると、ステップＳ３の処理をする。

一方、ステップＳ９における２点検出時座標特定処理では、図６に示すように、座標検出手段１６２は、図７に示すように座標Ａ（ｘ１，ｙ１），Ｂ（ｘ２，ｙ２）に遮光物Ｑ１，Ｑ２が存在する場合、遮光物Ｑ１の遮光により受光素子３ｘ１，３（ｘ１＋１），３（ｘ１−１），３ｙ１，３（ｙ１＋１），３（ｙ１−１）の受光レベルが低下し、遮光物Ｑ２の遮光により受光素子３ｘ２，３（ｘ２＋１），３（ｘ２−１），３ｙ２，３（ｙ２＋１），３（ｙ２−１）の受光レベルが低下していることを認識する。そして、このような受光レベルの低下状態に基づいて、座標Ａ（ｘ１，ｙ１），Ｂ（ｘ２，ｙ２），Ｃ（ｘ１，ｙ２），Ｄ（ｘ２，ｙ１）を遮光物Ｑ１，Ｑ２が存在すると考えられる仮座標として検出する（ステップＳ２０）。

ここで、図７に示すように、受光素子３ｘから遠くかつ受光素子３ｙに近い位置に遮光物Ｑ１が存在している場合、検出光Ｌｘ１が受光素子３ｘ１から遠い位置において遮光されているため、図８に示すように、受光素子３ｘ１での受光レベルＪｘ１の低下が小さくなっている。また、検出光Ｌｙ１が受光素子３ｙ１に近い位置において遮光されているため、図９に示すように、受光素子３ｙ１での受光レベルＪｙ１の低下が大きくなっている。
これは、受光素子３ｘ，３ｙから遠い位置で遮光される場合、検出光Ｌｘ，Ｌｙが遮光物Ｑ１と受光素子３ｘ，３ｙとの間を通過する際の回り込みが大きいため、受光レベルＪｘ，Ｊｙの低下が小さくなり、受光素子３ｘ，３ｙに近い位置で遮光される場合、上記回り込みが小さいため、受光レベルＪｘ，Ｊｙの低下が大きくなるからである。
座標検出手段１６２は、このような現象を考慮に入れて、ステップＳ２０の処理後に、遮光物Ｑ１，Ｑ２の座標を検出する。

具体的には、座標検出手段１６２は、受光素子３ｙ１，３ｙ２での受光レベルＪｙ１，Ｊｙ２を検出して（ステップＳ２１）、受光レベルＪｙ１が受光レベルＪｙ２よりも低いか否かを判断する（ステップＳ２２）。
このステップＳ２２において、受光レベルＪｙ１の方が低いと判断した場合、受光素子３ｙ１に対応する座標Ａ（ｘ１，ｙ１），Ｄ（ｘ２，ｙ１）のうち、受光素子３ｙ１に近い座標Ａ（ｘ１，ｙ１）を遮光物Ｑ１の座標として特定する（ステップＳ２３）。さらに、受光素子３ｙ２に対応する座標Ｂ（ｘ２，ｙ２），Ｃ（ｘ１，ｙ2）のうち受光素子３ｙ２から遠い座標Ｂ（ｘ２，ｙ２）を遮光物Ｑ２の座標として特定して（ステップＳ２４）、２点検出時座標特定処理を終了する。
一方、ステップＳ２２において、受光レベルＪｙ２の方が低いと判断した場合、受光素子３ｙ１に対応するＡ（ｘ１，ｙ１），Ｄ（ｘ２，ｙ１）のうち受光素子３ｙ１から遠いＤ（ｘ２，ｙ１）を遮光物Ｑ１座標として特定する（ステップＳ２５）。さらに、受光素子３ｙ２に対応するＢ（ｘ２，ｙ２），Ｃ（ｘ１，ｙ２）のうち受光素子３ｙ２に近いＣ（ｘ１，ｙ２）を遮光物Ｑ２の座標として特定して（ステップＳ２６）、２点検出時座標特定処理を終了する。

｛第１実施形態の作用効果｝
上述したような第１実施形態では、以下のような効果を奏することができる。
（１）制御部１６０の走査手段１６１は、座標検出手段１６２で遮光物Ｑ１を検出した場合、遮光物Ｑ１を含む局部領域Ｒ１を走査する第１局部同時走査処理と、全体順次走査処理と、を実施する。
このため、遮光物Ｑ１の座標検出後には、第１局部同時走査処理により遮光物Ｑ１の近傍のみを走査して遮光物Ｑ１の座標を検出するので、高い応答性で遮光物Ｑ１の座標を検出できる。また、遮光物Ｑ１の座標検出後も全体順次走査処理により表示面１全体を走査するので、遮光物Ｑ２の座標も遮光物Ｑ１の座標と同時に確実に検出することができる。

（２）また、発光素子２ｘ，２ｙから出射される赤外線の検出光Ｌｘ、Ｌｙを受光素子３ｘ，３ｙで受光する、いわゆる赤外線遮断方式により所定領域を走査している。このため、簡単な構成で所定領域を走査して、遮光物Ｑ１，Ｑ２の座標位置を容易に検出することができる。また全体Ｘ軸走査処理の検出光Ｌｘを全体Ｙ軸走査処理の検出光Ｌｙと互いに斜めに交差する方向に出射させる場合と比べて、表示装置１００の構成が簡単になり、製造性も向上する。このように検出光Ｌｘ，Ｌｙは、直交するのが望ましいが、交差すれば必ずしも直交する必要があるわけではない。

（３）制御部１６０の座標検出手段１６２は、受光素子３ｘ１，３ｘ２，３ｙ１，３ｙ２の受光レベルの低下に基づいて、座標Ａ（ｘ１，ｙ１），Ｂ（ｘ２，ｙ２），Ｃ（ｘ１，ｙ２），Ｄ（ｘ２，ｙ１）を遮光物Ｑ１，Ｑ２が存在しうる仮座標として認識する。そして、受光素子３ｙ１，３ｙ２の受光レベルＪｙ１，Ｊｙ２の大小関係に基づいて、遮光物Ｑ１，Ｑ２の座標をそれぞれ検出する。
このため、受光素子３ｙ１，３ｙ２の受光レベルＪｙ１，Ｊｙ２の大小関係を比較するだけの簡単な方法で遮光物Ｑ１，Ｑ２の座標を確実に検出できる。

（４）さらに、第１局部同時走査処理と全体順次走査処理とを並行実施している状態で、全体順次走査処理により遮光物Ｑ２を検出した場合、遮光物Ｑ２を含む局部領域Ｒ２を走査する第２局部同時走査処理と、第１局部同時走査処理とを実施し、全体同時走査処理を終了する。
このため、遮光物Ｑ２の座標検出後には、遮光物Ｑ２の近傍のみを走査して遮光物Ｑ２の座標を検出するので、高い応答性で遮光物Ｑ２の座標を検出できる。そして、あらかじめ設定された基準個数である２個の遮光物Ｑ１，Ｑ２の座標検出後には、全体順次走査処理を終了するので、処理負荷を低減できる。

（５）そして、制御部１６０の走査手段１６１は、全体順次走査を１回実施する間に第１局部同時走査処理を１６回実施する。このため、第１局部同時走査処理を全体順次走査よりも高速に実施できる。

（６）また、任意の座標点について全体走査と第１局部同時走査は同時に実施することがないようにタイミングを考慮して実施するため、誤動作が発生することがない。走査手段１６１は、第１局部同時走査を全体順次走査と同期して行うことが望ましい。このように構成することにより任意の座標点について全体走査と第１局部同時走査は同時に実施することを防止することは容易になる。従って、第１局部同時走査処理を全体順次走査よりも高速に実施でき、かつ任意の座標点について全体走査と第１局部同時走査は同時に実施することを容易に防止するために、第１局部同時走査処理の走査時間は全体順次走査処理の走査時間の２分の１以下であることが望ましい。ただし、全体走査Ｎ回と第２局部走査Ｍ回（Ｎ，Ｍは整数）が同期するような構成でも、任意の座標点について全体走査と第１局部同時走査を同時に実施することは容易に防止可能である。

（７）制御部１６０の走査手段１６１は、遮光物Ｑ１の座標位置が検出されると、局部Ｘ，Ｙ軸走査処理を同時に実施する全体同時走査処理から、局部Ｘ，Ｙ軸走査処理を順次に実施する全体順次走査処理に切り替える。このため、遮光物Ｑ１に対する第１局部同時走査処理を新たに開始した際に、全体同時走査処理を継続する場合と比べて、処理負荷の低減が図れる。

（８）さらに、制御部１６０の走査手段１６１は、遮光物Ｑ１について局部Ｘ軸走査処理の検出光Ｌｘと局部Ｙ軸走査処理の検出光Ｌｙとを互いに直交する方向および斜めに交差する方向に出射させる。
このため、遮光物Ｑ１近傍を緻密に走査することができるので、遮光物Ｑ１の座標位置を精度よく検出することができる。

［第２実施形態］
次に、本発明の第２実施形態について説明する。
図１に示すように、第２実施形態の表示装置１００Ａと第１実施形態の表示装置１００との相違点は、制御手段１６０Ａの走査手段１６１Ａの処理内容である。
具体的には、以下の表２に示すように、走査手段１６１Ａは、１個の遮光物を検出した際に、全体順次走査処理を実施するとともに、局部Ｘ軸走査処理と局部Ｙ軸走査処理とを順次に行う第１局部順次走査処理を実施する。
また、２個の遮光物を検出した際に、全体順次走査処理を終了して、一方の遮光物についての第１局部順次走査処理と、他方の遮光物についての第２局部順次走査処理（局部Ｘ軸走査処理と局部Ｙ軸走査処理とを順次に行う）とを同時に実施する。

ここで、１回の局部Ｘ軸走査時間と１回の局部Ｙ軸走査時間は、それぞれ２．５ｍｓであるため、１回の第１局部順次走査処理の所要時間（以下、第１局部順次走査時間）は、５．０ｍｓである。また、第１，第２局部順次走査処理を同時に実施した場合の所要時間は、５．０ｍｓである。

｛第２実施形態の作用効果｝
上述したような第２実施形態では、上記第１実施形態の（１）〜（９）と同様の作用効果に加えて、以下のような作用効果を奏することができる。
（１０）制御部１６０Ａの走査手段１６１Ａは、１個の遮光物を検出した際に、第１局部順次走査処理を実施し、２個の遮光物を検出した際に、第１，第２局部順次走査処理を同時に実施する。
このため、１個の遮光物検出時には、第１局部同時処理を実施する第１実施形態と比べて、処理負荷を低減できる。また、２個の遮光物検出時には、第１，第２局部同時処理を同時に実施する第１実施形態と比べて、処理負荷を低減できる。

［第３実施形態］
次に、本発明の第３実施形態について説明する。
図１に示すように、第３実施形態の表示装置１００Ｂと第２実施形態の表示装置１００Ａとの相違点は、基準個数が３個であることと、２個目および３個目の遮光物を検出した際の処理内容である。
具体的には、以下の表３に示すように、制御部１６０Ｂの走査手段１６１Ｂは、２個の遮光物を検出した際に、全体順次走査処理を実施するとともに、２個の遮光物についての第１，第２局部順次走査処理とを順次に実施する。
また、３個の遮光物を検出した際に、全体順次走査処理を終了して、それぞれの遮光物についての第１，第２，第３局部同時走査処理を順次に実施する。なお、第３局部同時走査処理とは、３個目の遮光物について、局部Ｘ軸走査処理と局部Ｙ軸走査処理とを同時に行う処理である。

ここで、２個の遮光物を検出した際の局部走査の所要時間は、１０．０ｍｓであり、３個の遮光物を検出した際の局部走査の所要時間は、７．５ｍｓである。

｛第３実施形態の作用効果｝
上述したような第３実施形態では、上記第１実施形態の（２），（３），（６），（８），（９）と同様の作用効果に加えて、以下のような作用効果を奏することができる。
（１１）制御部１６０Ｂの走査手段１６１Ｂは、３個の遮光物を検出した場合、第１〜第３局部同時走査処理を順次実施するため、３個の遮光物に対しても、上記第１実施形態の（１）と同様の効果を期待できる。

［第４実施形態］
次に、本発明の第４実施形態について説明する。
図１０は、本発明の第４実施形態に係る表示装置の概略構成を示すブロック図である。

第４実施形態の表示装置１００Ｃと、第２実施形態の表示装置１００Ａとの相違点は、Ｘ，Ｙ軸側ＡＤ変換部１４３，１５３をそれぞれ１０個ずつ設けた点と、制御部１６０Ｃの走査手段１６１Ｃの処理内容である。

具体的には、走査手段１６１Ｃは、以下の表４に示すように、１個の遮光物を検出した際に、全体順次走査処理を実施するとともに、１個目の遮光物についての第１局部順次走査処理とを実施する。

この第４実施形態における第１局部順次走査処理の局部Ｘ軸走査処理では、例えば、走査手段１６１Ｃは、発光素子２ｘ１から検出光Ｌｘを０．１ｍｓだけ出射させる。そして、受光素子３（ｘ１＋２），３（ｘ１＋１），３ｘ１，３（ｘ１−１），３（ｘ１−２）のみからの受信信号を、Ｘ軸側出力選択部１４２に同時に取得させ、５個のＸ軸側ＡＤ変換部１４３を介したデジタルの受光信号を同時に取得して、検出光Ｌｘを出射した発光素子２ｘの位置に関する出射位置信号とともに、座標検出手段１６２へ出力する。
さらに、局部Ｙ軸走査処理でも、局部Ｘ軸走査処理と同様に、発光素子２ｙ１から検出光Ｌｙを０．１ｍｓだけ出射させ、５個のＹ軸側ＡＤ変換部１５３を介した受光信号を同時に取得して、座標検出手段１６２へ出力する。

以上から、局部Ｘ，Ｙ軸走査処理の所要時間は、それぞれ５個の発光素子２ｘ，２ｙから０．１ｍｓずつ検出光Ｌｘ，Ｌｙを出射させるため、それぞれ０．５ｍｓである。このため、局部Ｘ，Ｙ軸走査処理を順次に実施する第１局部順次走査処理の所要時間は、１．０ｍｓであり、局部Ｘ，Ｙ軸走査処理を同時に実施する第１局部同時走査処理の所要時間は、０．５ｍｓである。また、２個の遮光物が検出された場合には、発光素子２ｘ２、２ｙ２からも検出光Ｌｘ，Ｌｙを０．１ｍｓだけ出射させ、５個のＸ，Ｙ軸側ＡＤ変換部１４３，１５３を介した受光信号を同時に取得して座標検出手段１６２へ出力する。そして、第１，第２局部同時走査処理を同時に実施するため、所要時間は、０．５ｍｓである。

｛第４実施形態の作用効果｝
上述したような第４実施形態では、上記第１実施形態の（１）〜（９）と同様の作用効果に加えて、以下のような作用効果を奏することができる。
（１２）Ｘ，Ｙ軸側ＡＤ変換部１４３，１５３をそれぞれ１０個ずつ設けているため、１つの発光素子２ｘから検出光Ｌｘを０．１ｍｓ出射したときに、５個の受光素子３ｘからの受光信号を同時にデジタルに変換することができる。そして、２つの発光素子２ｘから同時に検出光Ｌｘが出射されても、１０個の受光素子３ｘからの受光信号を同時にデジタルに変換できる。
したがって、第１局部順次走査処理や、第１，第２局部同時走査処理の迅速化が図れる。

［実施形態の変形］
なお、本発明は前述の実施形態に限定されるものではなく、本発明の目的を達成できる範囲での変形、改良等は本発明に含まれる。

すなわち、前記実施形態では、検出可能な遮光物の数である基準個数が２個および３個の場合について説明したが、４個以上であってもよい。例えば基準個数がＭ個の場合、走査手段１６１は、Ｍ個未満の遮光物の座標を検出している場合、各遮光物の局部領域を走査する局部同時走査処理や局部順次走査処理（以下、局部走査処理と称す）と、全体同時走査処理や全体順次走査処理（以下、全体走査処理と称す）と、を並行実施し、Ｍ個目の遮光物を検出した場合に、Ｍ個の遮光物の局部走査処理のみを実施して、全体走査処理を終了してもよい。

また、基準個数が２個のとき、２個目の遮光物を検出した場合に、２個の遮光物の局部走査処理のみを実施して、全体走査処理を終了する構成を説明したが、全体走査処理を終了することなく、基準個数がＭ個のとき、Ｍ個の遮光物の局部走査処理と、全体走査処理とを並行して実施してもよい。このとき、全体走査処理において（Ｍ＋１）個目の遮光物が検出された場合、（Ｍ＋１）個目の遮光物は無視する。ただし、前記Ｍ個の遮光物の１個が検出されなくなった場合は、前記（Ｍ＋１）個目の遮光物の局部走査処理を実施する。
ここで、Ｍ個の遮光物について、それぞれ局部走査処理を順次実施してもよく、それぞれ局部走査処理を同時に実施してもよい。この場合、Ｍ個の遮光物についての局部走査処理を全体走査処理と同期させて実施することが望ましい。これにより、局部走査処理と全体走査処理とが同時に実施されることによる誤作動の発生を防止しやすい。

そして、第１局部同時走査時間は、全体順次走査時間の１６分の１である構成を説明したが、第１局部同時走査時間は、全体順次走査時間と同じであってもよい。すなわち、局部走査処理は、全体走査処理を１回実施する間に、１回のみ実施する構成としてもよい。さらに、局部走査処理を全体走査処理と同期せずに実施してもよい。すなわち任意の座標点について全体走査と局部走査が同時に実施されることがないように構成されていればいい。

そして、走査手段１６１は、遮光物Ｑ１近傍に局部Ｘ軸走査処理の検出光Ｌｘと局部Ｙ軸走査処理の検出光Ｌｙとを互いに直交する方向にのみ出射させてもよい。また、走査手段１６１は、遮光物Ｑ１近傍に局部Ｘ軸走査処理の検出光Ｌｘを互いに平行な方向にのみ出射させて遮光物Ｑ１の座標位置を検出する構成でもよい。この場合、遮光物Ｑ１の座標位置は、検出光Ｌｘを出射した発光素子２ｘの位置に関する出射位置信号と、受光素子３ｘでの受光レベルＪｘに基づいて検出してもよい。

また、走査手段１６１は、全体Ｘ軸走査処理の検出光Ｌｘと全体Ｙ軸走査処理の検出光Ｌｙとを互いに直交する方向に加えて、互いに斜めに交差する方向にも出射させてもよい。さらに、走査手段１６１は、検出光Ｌｘを互いに平行な方向にのみ出射させて遮光物の座標位置を検出してもよい。

また、全体走査処理における走査状態の制御としては、全ての発光素子２ｘ，２ｙのうち、表示面の側辺に沿った並び順が奇数番目のもののみを順次発光させて走査する制御も例示できる。また、基準個数がＭ個の場合には、遮光物の検出個数が増える毎に、局部走査処理と並行実施する全体走査処理の走査速度を遅くしてもよい。

さらに、発光素子２ｘと受光素子３ｘとはそれぞれ１対１に対向した配置として説明したが、例えば、互い違いの配置でもよく、発光素子２ｘと受光素子３ｘとの数が異なっていてもよい。例えば、発光素子２ｘが受光素子３ｘよりも多く配置されていてもよく、発光素子２ｘが受光素子３ｘよりも少なく配置されていてもよい。また、発光素子２ｙと受光素子３ｙとの関係も同様に、互い違いの配置でもよく、発光素子２ｙと受光素子３ｙとの数が異なっていてもよい。

そして、遮光物Ｑ１，Ｑ２の座標を、互いに隣接する複数の受光素子３ｙの受光レベルに基づいて、それぞれ検出してもよい。具体的には、受光素子３ｙ２から遠い位置で遮光される場合、受光素子３ｙ２，３（ｙ２＋１），３（ｙ２−１）の受光レベルが低下する。これは、発光素子２ｙ２と受光素子３ｙ２，３（ｙ２＋１），３（ｙ２−１）とを結ぶ線上に、遮光物Ｑ２が存在するためである。一方、受光素子３ｙ１に近い位置で遮光される場合、受光素子３ｙ１の受光レベルが低下し、受光素子３（ｙ１＋１），３（ｙ１−１）の受光レベルが低下しない。これは、発光素子２ｙ１と受光素子３ｙ１とを結ぶ線上に遮光物Ｑ１が存在し、発光素子２ｙ１と受光素子３（ｙ１＋１），３（ｙ１−１）とを結ぶ線上に遮光物Ｑ１が存在しないためである。このような関係を用いて、遮光物Ｑ１，Ｑ２の座標を特定してもよい。

さらに、本発明の表示装置を、携帯型や設置型のパーソナルコンピュータあるいはゲーム機器、携帯電話やＰＤＡ（Personal Digital Assistant）などの携帯端末装置の表示装置に用いてもよいし、電子機器やナビゲーション装置などの操作装置に用いてもよい。さらには、家庭や工場などに設置されるテレビジョン装置、銀行ＡＴＭ等の表示装置に用いてもよい。

また、上述した各機能をプログラムとして構築したが、例えば回路基板などのハードウェアあるいは一つのＩＣ（Integrated Circuit）などの素子にて構成するなどしてもよく、いずれの形態としても利用できる。なお、プログラムや別途記録媒体から読み取らせる構成とすることにより、上述したように取扱が容易で、利用の拡大が容易に図れる。

その他、本発明の実施の際の具体的な構造および手順は、本発明の目的を達成できる範囲で他の構造などに適宜変更できる。

［実施形態の効果］
上述したように、上記実施形態では、表示装置１００の制御部１６０は、遮光物Ｑ１を検出した場合、遮光物Ｑ１を含む局部領域Ｒ１を走査する第１局部同時走査処理と、全体順次走査処理と、を実施する。
このため、遮光物Ｑ１の座標検出後には、遮光物Ｑ１の近傍のみを走査して遮光物Ｑ１の座標を検出するので、高い応答性で遮光物Ｑ１の座標を検出できる。また、遮光物Ｑ１の座標検出後も全体順次走査処理を実施するので、遮光物Ｑ２の座標も遮光物Ｑ１の座標と同時に確実に検出することができる。
また、発光素子２ｘ，２ｙから出射される赤外線の検出光Ｌｘ、Ｌｙを受光素子３ｘ，３ｙで受光する、いわゆる赤外線遮断方式により所定領域を走査している。このため、簡単な構成で所定領域を走査して、遮光物Ｑ１，Ｑ２の座標位置を容易に検出することができる。

本発明は、座標位置検出装置、その方法、および、表示装置として利用できる。

１…表示面
１００，１００Ａ，１００Ｂ，１００Ｃ…表示装置
１１０…表示手段
１６０，１６０Ａ，１６０Ｂ，１６０Ｃ…座標位置検出装置および演算手段としての制御部
１６１，１６１Ａ，１６１Ｂ，１６１Ｃ…走査手段
１６２…座標検出手段

Claims (8)

1. 表示面の面方向に沿って互いに交差する方向に検出光を順次出射する複数の発光素子と、この複数の発光素子のそれぞれに対向する位置に配置され前記出射された検出光を順次受光する複数の受光素子とを具備し、前記検出光が遮光物で遮光された際に、前記受光素子の受光量に基づいて遮光部分の座標位置を検出する座標位置検出装置であって、
   前記検出光を用いて所定の走査領域を走査する走査手段と、
   前記遮光物が前記検出光を遮光している走査位置に基づいて、前記表示面上での前記遮光物の座標位置を検出する座標検出手段と、を具備し、
   前記走査手段は、
   あらかじめ設定された複数の基準個数未満の遮光物の座標位置が前記座標検出手段で検出されている場合、前記発光素子からの検出光をこの発光素子に対向する受光素子を含む複数の受光素子で受光させて前記基準個数未満の遮光物の近傍のみを順次走査する斜め部分走査処理と、前記発光素子からの検出光をこの発光素子に対向する受光素子のみで受光させて前記表示面全体を順次走査する全体走査処理と、を並行して実施する
   ことを特徴とする座標位置検出装置。
2. 請求項１に記載の座標位置検出装置において、
   前記基準個数の前記遮光物の座標位置が検出されている場合、前記基準個数の遮光物に対する前記斜め部分走査処理のみを実施する
   ことを特徴とする座標位置検出装置。
3. 請求項１または請求項２に記載の座標位置検出装置において、
   前記斜め部分走査処理の走査時間は、前記全体走査処理の走査時間の２分の１以下である
   ことを特徴とする座標位置検出装置。
4. 請求項１から請求項３のいずれかに記載の座標位置検出装置において、
   前記走査手段は、前記斜め部分走査処理を前記全体走査処理と同期して実施する
   ことを特徴とする座標位置検出装置。
5. 請求項１から請求項４のいずれかに記載の座標位置検出装置において、
   前記走査手段は、前記全体走査処理における走査速度を前記座標検出手段で前記座標位置が検出されている前記遮光物の個数に基づいて制御する
   ことを特徴とする座標位置検出装置。
6. 表示面を有する表示手段と、
   この表示手段の表示面の面方向に沿って互いに交差する方向に出射された検出光が遮光物で遮光された際に、この遮光部分の座標位置を検出する請求項１から請求項５のいずれかに記載の座標位置検出装置と、
   を具備したことを特徴とする表示装置。
7. 演算手段により、表示面の面方向に沿って互いに交差する方向に出射された検出光が遮光物で遮光された際に、この遮光部分の座標位置を検出する座標位置検出方法であって、
   前記演算手段は、
   前記検出光を用いて所定の走査領域を走査する走査工程と、
   前記遮光物が前記検出光を遮光している走査位置に基づいて、前記表示面上での前記遮光物の座標位置を検出する座標検出工程と、を実施し、
   前記走査工程では、
   あらかじめ設定された基準個数未満の遮光物の座標位置が前記座標検出工程で検出されている場合、前記基準個数未満の遮光物の近傍のみを順次走査する斜め部分走査処理と、前記表示面全体を順次走査する全体走査処理と、を並行して実施し、
   前記斜め部分走査処理に用いられる検出光は、互いに平行な光、直交する光、および、斜めに交差する光から構成され、
   前記斜め部分走査の走査時間は前記全体走査処理の走査時間の２分の１以下である
   ことを特徴とする座標位置検出方法。
8. 請求項７に記載の座標位置検出方法において、
   前記全体走査処理に用いられる検出光は、互いに平行な光、および、直交する光のみから構成される
   ことを特徴とする座標位置検出方法。

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