JP5368440B2 - 試験システム - Google Patents
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Description
Claims (6)
- 半導体ウエハに形成された複数の半導体チップを試験する試験システムであって、
前記半導体ウエハが搬送されるチャンバと、
前記チャンバ内において固定され、複数の前記半導体チップのパッドと一括して電気的に接続される複数のバンプが設けられた試験用ウエハと、
前記チャンバ内において、前記半導体ウエハを載置して移動することで、前記半導体ウエハを前記試験用ウエハと対向する位置に移動させるウエハステージと、
前記ウエハステージに対して所定の位置に設けられ、前記半導体ウエハを前記ウエハステージに載置すべく、前記ウエハステージに対して前記半導体ウエハが移動しているときに、前記半導体ウエハの表面の少なくとも一部をスキャンすることで、前記半導体ウエハに設けられたアライメントマークの位置と前記アライメントマークを検出したタイミングとを検出する測定部と、
前記測定部が検出した前記アライメントマークの位置およびタイミングに基づいて前記ウエハステージの進行方向について前記ウエハステージの位置を算出し、前記ウエハステージの位置に基づいて前記ウエハステージの進行方向における位置を調整し、前記測定部が検出した前記アライメントマークの位置およびタイミングに基づいて前記ウエハステージの進行方向に垂直な方向について前記ウエハステージの位置を算出し、前記ウエハステージの位置に基づいて前記ウエハステージの進行方向に垂直な方向における位置を調整し、前記測定部が検出した前記アライメントマークの位置およびタイミングに基づいて前記半導体ウエハと並行な面について前記ウエハステージの回転量を算出し、前記ウエハステージの回転量に基づいて前記ウエハステージの前記半導体ウエハと並行な面における回転量を調整する位置制御部と、
を備える試験システム。 - 前記測定部は、前記ウエハステージの進行方向と垂直な垂直方向に配列された複数の撮像素子を有し、前記アライメントマークを撮像した撮像素子の位置に基づいて、前記垂直方向における前記アライメントマークの位置を検出し、
前記位置制御部は、前記測定部が測定した前記アライメントマークの位置に基づいて、前記半導体ウエハの前記垂直方向における位置を調整する
請求項1に記載の試験システム。 - 前記測定部は、前記垂直方向の軸上における異なる位置にそれぞれ設けられる
請求項2に記載の試験システム。 - 前記位置制御部は、前記半導体ウエハの中心と、前記アライメントマークとの距離が予め与えられ、前記距離に更に基づいて、前記半導体ウエハの回転量を調整する
請求項1から請求項3までのいずれか一項に記載の試験システム。 - 半導体ウエハに形成された複数の半導体チップを試験する試験システムであって、
前記半導体ウエハが搬送されるチャンバと、
前記チャンバ内において固定され、複数の前記半導体チップのパッドと一括して電気的に接続される複数のバンプが設けられた試験用ウエハと、
前記チャンバ内において、前記半導体ウエハを載置して移動することで、前記半導体ウエハを前記試験用ウエハと対向する位置に移動させるウエハステージと、
前記ウエハステージの移動経路に設けられ、前記ウエハステージに載置された前記半導体ウエハの表面の少なくとも一部をスキャンすることで、前記半導体ウエハに設けられたアライメントマークの位置と前記アライメントマークを検出したタイミングとを検出する測定部と、
前記測定部が検出した前記アライメントマークの位置およびタイミングに基づいて前記ウエハステージの進行方向について前記ウエハステージの位置を算出し、前記ウエハステージの位置に基づいて前記ウエハステージの進行方向における位置を調整し、前記測定部が検出した前記アライメントマークの位置およびタイミングに基づいて前記ウエハステージの進行方向に垂直な方向について前記ウエハステージの位置を算出し、前記ウエハステージの位置に基づいて前記ウエハステージの進行方向に垂直な方向における位置を調整し、前記測定部が検出した前記アライメントマークの位置およびタイミングに基づいて前記半導体ウエハと並行な面について前記ウエハステージの回転量を算出し、前記ウエハステージの回転量に基づいて前記ウエハステージの前記半導体ウエハと並行な面における回転量を調整する位置制御部と、
を備える試験システム。 - 前記位置制御部は、それぞれの前記測定部が前記アライメントマークを検出したときの前記ウエハステージの前記進行方向におけるそれぞれの位置に基づいて、前記半導体ウエハの回転量を調整する
請求項5に記載の試験システム。
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