JP6471401B1 - 半導体ウエハーの試験ユニット - Google Patents
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Abstract
【解決手段】ウエハートレー20は、ウエハー搭載ステージ29をX方向及びY方向に移動・制御するX−Y位置制御機構50と、前記ウエハー搭載ステージ29を円周方向に移動・制御するシータ制御機構52を備え、前記X−Y位置制御機構50と前記シータ制御機構52を個々に且つ相互に制御することができ、半導体ウエハーの端子とプローブピンとの位置合せを高精度に行うことができる。
【選択図】図1
Description
ウエハーの試験が終了後、ウエハーの切断・組立工程を経て個別半導体パッケージとして、バーンインソケットやテストソケットに搭載され、バーンイン試験や後工程試験が行われている。
しかしながら、移動ステージを無くしたことではない為、プローバー機構の高さを低くするには限界があり、本特許文献に示されるように3段或は4段のプローバー構成が最大と思われる。
また、高さ方向における多段構成の限界から、処理能力を増大するには、プローバー機構を横方向に数列設置することになるが、ウエハー検査装置が横方向に大きくなり設置面積がさらに大きくなるという課題があった。
なお、下記において「所定の」とは、当業者にとって常識的な事項を示している。
プローブカードを有したテスターボードと、
半導体ウエハーを搭載するウエハートレーと、
前記ウエハートレーを昇降させる昇降機構とを備え、
前記半導体ウエハーと前記プローブカードとを真空圧により加圧接触させて、試験を実施する半導体ウエハーの試験ユニットであり、
前記ウエハートレーは、
前記プローブカードの下側又は上側に保持され、
トレー位置決めピンで前記プローブカードとの位置合せが行われ、
該プローブカードとの位置合せを行うトレーフレームと、
前記半導体ウエハーを搭載するウエハー搭載ステージと、
該ウエハー搭載ステージの中心を回転中心として円周方向にスライドする円周方向スライド機構を外側又は内側に備えるウエハー搭載ステージ支持体とで構成され、
前記ウエハー搭載ステージをX軸またはY軸の方向に移動させ、
その移動量を制御するX−Y位置制御機構と、
前記ウエハー搭載ステージの中心を回転中心として、
該ウエハー搭載ステージを円周方向に移動させ、
その移動量を制御するシータ制御機構とを備えることを特徴とする、
半導体ウエハーの試験ユニット。
なお、前記ウエハートレーを昇降させる前記昇降機構は、試験空間の形成を担う押圧板と、該押圧板を昇降させるエアーシリンダーと、該エアーシリンダーをボードラックに取付ける取付け金具とで構成されている。
ここで、前記半導体ウエハーと前記プローブカードとの加圧接触に必要な試験空間は、前記昇降機構を構成する前記押圧板の昇降により、前記ウエハートレーを前記プローブカード側に移動させることで形成することができ、試験空間形成後、前記試験空間を減圧することにより、前記半導体ウエハーの端子と前記プローブピンとの加圧接触が行われる。
また、前記ウエハートレーを前記プローブカードの下側又は上側に保持する高さは、該ウエハートレーと前記プローブカードの間に、後述のアライメント用撮影機構が搭載された搬送ロボットのアームを出し入れし、撮影対象を撮影できる高さを示す。
さらに、前記プローブカードと前記トレーフレームとの位置合せは、トレー位置決めピンとスライドブッシュの嵌合により行われる。
前記ウエハートレーが前記プローブカードの下側に保持される場合、
前記トレー位置決めピンは前記昇降機構に設けられ、前記スライドブッシュは前記トレーフレームと前記プローブカードに設けられ位置合せが行われる。
また、前記ウエハートレーが前記プローブカードの上側に保持される場合、
前記トレー位置決めピンは前記プローブカードに設けられ、前記スライドブッシュは前記トレーフレームに設けられ位置合せが行われる。
前記X−Y位置制御機構は、
前記ウエハートレー上面に直交してX軸とY軸上に取付けられ、
前記ウエハー搭載ステージをX方向またはY方向に移動させる送り機構を有した駆動部と、
前記送り機構と連動する受動部と、
該受動部を前記駆動部の駆動方向にスライドさせる駆動方向スライド機構と、
前記駆動部を該駆動部の駆動方向と直交する方向にスライドさせる直交方向スライド機構と、
前記駆動部と対向する側にX方向とY方向の両方向にスライドするXY方向スライド機構とを備え、
前記駆動方向スライド機構は、
前記駆動部の回転シャフトに加わる重量を下側より支え、前記受動部のスムーズな移動を可能にし、
前記直交方向スライド機構は、
X軸の前記駆動部が制御されると該駆動部の駆動方向の移動を停止させ、前記受動部は駆動方向に移動すると同時に、前記ウエハー搭載ステージとY軸に設けられた前記X−Y位置制御機構を駆動方向に移動させ、
Y軸の前記駆動部が制御されると該駆動部の駆動方向の移動を停止させ、前記受動部は駆動方向に移動すると同時に、前記ウエハー搭載ステージとX軸に設けられた前記X−Y位置制御機構を駆動方向に移動させることができ、
前記XY方向スライド機構は、
前記駆動部の駆動方向にスライドする前後方向スライド機構と、前記駆動部の駆動方向と直交する方向にスライドする左右方向スライド機構を有し、前記駆動部の制御に応じてX方向とY方向に移動することができることを特徴とする、前記第1に記載の半導体ウエハーの試験ユニット。
なお、前記駆動部にはパルスモーターが使用され、前記送り機構にはボールネジが使用され、さらに前記受動部はボールネジ仕様のナットを備えている。
前記シータ制御機構は、
前記ウエハートレー上面に取付けられ、
前記ウエハー搭載ステージの中心を回転中心として、
該ウエハー搭載ステージを円周方向に移動させる円弧状の歯車と、
前記円弧状の歯車と噛み合い該円弧状の歯車を円周方向に移動させる駆動用の歯車と、
前記駆動用の歯車を有した駆動部とを備え、
前記円弧状の歯車と前記駆動用の歯車の噛み合い機構にウオームギヤ機構を使用することを特徴とする、前記第1又は第2に記載の半導体ウエハーの試験ユニット。
なお、前記駆動部にパルスモーターを使用し、歯車の噛み合い機構にウオームギヤ機構を使用することで、前記円弧状の歯車と前記駆動用の歯車の回転比を、1/10から1/100まで広範囲に適用できる。
また、前記円弧状の歯車は円弧状に限らず、円弧状に分割前の歯車を使用しても良い。
プローブカードを有したテスターボードと、
半導体ウエハーを搭載するウエハートレーと、
前記ウエハートレーを昇降させる昇降機構とを備え、
前記半導体ウエハーと前記プローブカードとを真空圧により加圧接触させて試験を実施する半導体ウエハーの試験ユニットであり、
前記ウエハートレーは、
前記プローブカードの下側に保持され、
トレー位置決めピンで前記プローブカードとの位置合せが行われ、
該プローブカードとの位置合せを行うトレーフレームと、
前記半導体ウエハーを搭載するウエハー搭載ステージと、
該ウエハー搭載ステージの中心を回転中心として、円周方向にスライドする円周方向スライド機構を有したウエハー搭載ステージ支持体とで構成され、
前記ウエハー搭載ステージを直交するX軸またはY軸の方向に移動させ、その移動量を制御するX−Y位置制御機構と、
前記ウエハー搭載ステージの中心を回転中心として、該ウエハー搭載ステージを円周方向に移動させ、その移動量を制御するシータ制御機構とを備え、
前記X−Y位置制御機構は、
前記ウエハートレーに直交してX軸とY軸上に取付けられ、
前記ウエハー搭載ステージをX方向またはY方向に移動させる送り機構を有した駆動部と、
前記駆動部の送り機構と連動する受動部と、
該受動部を前記駆動部の駆動方向にスライドさせる前記駆動方向スライド機構と、
前記駆動部を該駆動部の駆動方向と直交する方向にスライドさせる前記直交方向スライド機構と、
前記駆動部と対向する側にX方向とY方向の両方向にスライドする前記XY方向スライド機構とを備え、
前記駆動方向スライド機構は、
前記駆動部の回転シャフトに加わる重量を下側より支え、前記受動部のスムーズな移動を可能にし、
前記直交方向スライド機構は、
X軸の前記駆動部が制御されると該駆動部の駆動方向の移動を停止させ、前記受動部は駆動方向に移動すると同時に、前記ウエハー搭載ステージとY軸に設けられた前記X−Y位置制御機構を駆動方向に移動させ、
Y軸の前記駆動部が制御されると該駆動部の駆動方向の移動を停止させ、前記受動部は駆動方向に移動すると同時に、前記ウエハー搭載ステージとX軸に設けられた前記X−Y位置制御機構を駆動方向に移動させることができ、
前記XY方向スライド機構は、
前記駆動部の駆動方向にスライドする前後方向スライド機構と、前記駆動部の駆動方向と直交する方向にスライドする左右方向スライド機構を有し、前記駆動部の制御に応じてX方向とY方向に移動することができ、
前記シータ制御機構は、
前記ウエハートレーに取付けられ、
前記ウエハー搭載ステージの中心を回転中心として、該ウエハー搭載ステージを円周方向に移動させる円弧状の歯車と、
前記円弧状の歯車と噛み合い該円弧状の歯車を円周方向に移動させる駆動用の歯車と、
前記駆動用の歯車を有した駆動部とを備え、
前記円弧状の歯車と前記駆動用の歯車の噛み合い機構にウオームギヤ機構を使用することを特徴とする、半導体ウエハーの試験ユニット。
前記X−Y位置制御機構と前記シータ制御機構とは、
前記半導体ウエハーを搬送するアームを備えた前記搬送ロボットに搭載される前期アライメント用撮影機構で撮影した位置情報で、
前記ウエハー搭載ステージと該ウエハー搭載ステージに搭載された前記半導体ウエハーのX方向とY方向の移動量と、円周方向の移動量とを制御することを特徴とする、前記第1〜4のいずれか一つに記載の半導体ウエハーの試験ユニット。
さらに、前記半導体ウエハーの端子と前記プローブピンとの位置合せは、前記アライメント用撮影機構で撮影した位置情報でX、Y、θ(シータ)を個々に且つ相互に制御することができる。
さらに、前記ウエハートレーに搭載される前記半導体ウエハーと前記プローブカードとの位置合せは、前記X−Y位置制御機構と前記シータ制御機構が制御されることにより高精度に行うことができる。
前記X−Y位置制御機構において、前記駆動方向スライド機構と前記直交方向スライド機構と前記XY方向スライド機構を備えることで次のような効果がある。
前記駆動方向スライド機構と前記XY方向スライド機構を構成する前記前後方向スライド機構を設けることにより、前記受動部を小さな推力で駆動方向に移動させることができ、前記駆動部も小型のパルスモーターが使用でき、前記ウエハートレーの高さを低くすることができる。
さらに、前記直交方向スライド機構と前記XY方向スライド機構を構成する前記左右方向スライド機構を設けることにより、XテーブルとYテーブルの二つのテーブルを設けることなく、一つのテーブルでX−Yテーブルと同じ動作を実現することができ、前記ウエハートレーの高さを低くすることができる。
以上のように高さの低いウエハートレーを使用することで、多段構成の半導体ウエハーの試験装置を実現できる。
また円弧状の歯車を使用することで歯車の重量を軽減することができ、歯車を安価に製作することができる。
前記シータ制御機構において、円弧状の歯車と駆動用の歯車に回転比の大きな歯車を使用することで、前記ウエハー搭載ステージの円周方向の移動量をより高精度に制御することができる。
前記X−Y位置制御機構において、前記駆動方向スライド機構と前記直交方向スライド機構と前記XY方向スライド機構を備えることで次のような効果がある。
前記駆動方向スライド機構と前記XY方向スライド機構を構成する前記前後方向スライド機構を設けることにより、前記受動部を小さな推力で駆動方向に移動させることができ、前記駆動部も小型のパルスモーターが使用でき、前記ウエハートレーの高さを低くすることができる。
さらに、前記直交方向スライド機構と前記XY方向スライド機構を構成する前記左右方向スライド機構を設けることにより、XテーブルとYテーブルの二つのテーブルを設けることなく、一つのテーブルでX−Yテーブルと同じ動作を実現することができ、前記ウエハートレーの高さを低くすることができる。
以上のように高さの低いウエハートレーを使用することで、多段構成の半導体ウエハーの試験装置を実現できる。
また、前記ウエハートレーを前記プローブカードの上側に保持する方式のウエハートレーに比較し、次のような効果がある。
半導体ウエハーを搭載後の移動を防止できることで高精度の位置決めができ、搬送ロボットのアームを前記ウエハートレーの下側に挿入する必要がなく、複雑な位置制御が不要になり、前記ウエハートレーの高さを低くすることができる。
さらに、試験温度に加熱冷却される試験空間内にモーターやスライド機構などの部品が無くなるため、高耐熱部品の使用が不要になる。
ここで、添付図面において同一の部材には同一符号を付しており、また重複した説明は省略されている。
なお、ここでの説明は本発明が実施される一形態であることから、本発明は該当形態に限定されるものではない。
前記テスターボード30は、前記取付け金具75の基板ガイド溝77に装着されるが、分かり易くするため分離した図としている。
前記エアーシリンダー78は、前記テスターボード30とウエハートレー20を保守時に切り離す時に使用するものである。
図2の構成は全て図1と同じであるので、説明は省略する。
其々の詳細は、図4及び図5で説明する。
また、前記X−Y位置制御機構50を構成する受動部26と(図4)と、前記XY方向スライド機構51を取付けるXY方向スライド機構取付け部29a(図5)は、前記ウエハー搭載ステージ29に取り付けられている。
該スライドブッシュ24は、前記トレー位置決めピン63と嵌合して、前記ウエハートレー20のスムーズな上下動を可能にしている。
該X−Y位置制御機構50は、駆動部27と、受動部26と、ナット26aと、駆動方向スライド機構28と、直交方向スライド機構55と、取付け板27cとXY方向スライド機構51(図5)とで構成されている。
前記駆動部27には、パルスモーターが使用されている。
さらに、該直交方向スライド機構55はウエハー搭載ステージ支持体53に取付けられている。
X軸の前記駆動部が制御されると、X軸に設けられた該直交方向スライド機構55は、前記駆動部27のX軸方向の移動を停止させる。
この際、前記受動部26は、X軸方向に移動すると同時に前記ウエハー搭載ステージ29とY軸に設けられた前記X−Y位置制御機構50を、X軸方向に制御された所定の距離を移動させることができる。
この際、前記受動部26は、Y軸方向に移動すると同時に前記ウエハー搭載ステージ29とX軸に設けられた前記X−Y位置制御機構50を、Y軸方向に制御された所定の距離を移動させることができる。
該XY方向スライド機構51は前記X−Y位置制御機構50を構成し、前記駆動部27と対向する側のウエハー搭載ステージ支持体53と、ウエハー搭載ステージ29に取付けられたXY方向スライド機構取付け部29aとの間に取付けられている。
なお、前記XY方向スライド機構取付け部29aの材質には断熱材が使用されている。
前記前後方向スライド機構51aの上面は前記XY方向スライド機構取付け部29aに取付けられ、下面は前記スペーサー51cに取付けられ、該スペーサー51cの下面には前記左右方向スライド機構51bが取付けられ、その下面は前記ウエハー搭載ステージ支持体53に取付けられている。
以上のような構成により、前記XY方向スライド機構51は、X方向及びY方向のいずれの方向にもスライドすることができる。
該シータ制御機構52は、ウエハー搭載ステージ支持体53を円周方向に移動させる円弧状の歯車26gと、駆動用の歯車27dを回転シャフトに有する駆動部27と、取付け板27fとで構成されている。
前記円弧状の歯車26gは、スペーサー29dを介して前記ウエハー搭載ステージ支持体53に取付けられている。
前記駆動部27にパルスモーターを使用し歯車の回転比を大きくすることで、前記ウエハー搭載ステージ29の円周方向の移動量を高精度に制御することができる。
前記ウエハートレー20は、トレーフレーム21と、円周方向スライド機構54を有するウエハー搭載ステージ支持体53と、ウエハー搭載ステージ29とから構成され、前記円周方向スライド機構54の内輪が回転する機構になっている。
前記ウエハー搭載ステージ支持体53は、フレーム53aとプレート53bと前記固定用ネジ21cとで、前記円周方向スライド機構54の内輪を固定している。
なお、前記ウエハー搭載ステージ29に取付けられたXY方向スライド機構取付け部29aと、前記ウエハー搭載ステージ支持体53の間には、XY方向スライド機構51が設けられている。
図9で説明のウエハートレー20を除いて、すべて図1で説明の半導体ウエハーの試験ユニット10と同じ構成のため詳細の説明は省略する。
大きな違いは、前記円周方向スライド機構54の取付け位置の違いによる、X−Y位置制御機構50とシータ制御機構52と前記X−Y位置制御機構50を構成するXY方向スライド機構51の取付け位置の違いである。
該X−Y位置制御機構50と、シータ制御機構52の構成及び機能は、図4、図5、図6の説明と同じため説明は省略する。
取付け場所の説明は、図11及び図12にて行う。
取付け場所の説明は、図13にて行う。
X−Y位置制御機構50の駆動部27は取付け板27cに取付けられ、該取付け板は駆動部27の駆動方向と直交する方向に取付けられた直交方向スライド機構55を介して、トレーフレーム21に取付けられている。
また、XY方向スライド機構51を構成する左右方向スライド機構51bも、同じ様に前記トレーフレーム21に取付けられている。
取付けの詳細は図11で行う。
また、前記XY方向スライド機構51を構成する前後方向スライド機構51aも、同じ様にウエハー搭載ステージ支持体53に取付けられている。
また、前記シータ制御機構52を構成する円弧状の歯車26gが、前記ウエハー搭載ステージ29の下面にスペーサー29dを介して取り付けられている。
また、前記ウエハー搭載ステージ29は、前記シータ制御機構52の駆動する円周方向に所定の距離を移動することができる。
前記X−Y位置制御機構50は、駆動部27、取付け板27c、送りネジ27a、受動部26、ナット26a、駆動方向スライド機構28、直交方向スライド機構55、及びXY方向スライド機構51で構成されている。
また、前記受動部26は前記ウエハー搭載ステージ支持体53に取付けられている。
該XY方向スライド機構51は、前記X−Y位置制御機構50の駆動部27と対向する側のトレーフレーム21とウエハー搭載ステージ支持体53間に取付けられている。
前記前後方向スライド機構51aの上面は前記ウエハー搭載ステージ支持体53に取付けられ、下面は前記スペーサー51cに取付けられ、該スペーサー51cの下面には前記左右方向スライド機構51bが取付けられ、その下面は前記トレーフレーム21に取付けられている。
以上のような構成により、前記XY方向スライド機構51はX方向及びY方向のいずれの方向にもスライドすることができる。
該シータ制御機構52は、円弧状の歯車26gと、駆動用の歯車27dを回転シャフトに有する駆動部27と、取付け板27fとで構成されている。
前記駆動部27は、前記取付け板27fを介してウエハー搭載ステージ支持体53に取付けられている。
図6で説明したように、前記円弧状の歯車と前記駆動用の歯車の回転比を大きくすることで、前記ウエハー搭載ステージ29を高精度に移動することができる。
また、半導体ウエハー40の位置決めを行うウエハーアライナー89が、ボードラック70の下部に配置されている。
また、前記第2のアーム86bは、2個のアライメント用カメラ84aと照明85cとを備えている。
半導体ウエハー40が搭載されたウエハートレー20と、第2のアーム86bが挿入された時の位置関係を示している。
2個の前記アライメント用カメラ84aは、半導体ウエハーの端子41とプローブピン61を撮影するため、それぞれ上側と下側に向けられて搭載されている。
その後、前期半導体試験ユニット10の外側に移動する。
前記テスターボード30は、前記取付け金具75の基板ガイド溝77に装着される。
前記半導体ウエハー40の外周の端子の外側を支えるガイド穴22(図18)は、円形状をしている。
該トレー支持具64は、前記アライメント撮影機構84を備えた前記搬送ロボット82の第2のアーム86bが出し入れできる高さに保持できる機構を備えている。
前記シータ制御機構52は、前記ウエハー搭載ステージ29の円周方向の移動量を制御するものである。
詳細の説明は、図18にて行う。
ウエハートレー20とテスターボード30の構成は全て図16と同じであるので、説明は省略する。
前記受動部26は、前記ウエハー搭載ステージ29に設けられている。
其々の詳細説明は、図4及び図5と同じため省略する。
詳細説明は、図6と同じため省略する。
該トレー支持具64は、支持ピン64aと、圧縮バネ64bとストッパー65とEリング66とで構成されている。
なお、前記Eリング66をナットに替え、前記支持ピン64aの先端にネジを設ける機構でも良い。
図18で示される円形状のガイド穴22に比較し、半導体ウエハー40との接地面積が大きくなり、前記半導体ウエハー40の中央部のたわみ量を小さくすることができる。
他の説明は、図18と同じ為省略する。
これにより、前記半導体ウエハー40の中央部のたわみを防止することができる。
他の説明は、図18と同じ為省略する。
また、半導体ウエハー40の位置決めを行うウエハーアライナー89が、前記ボードラック70の下部に配置されている。
前記第2のアーム86bは、アライメント用カメラ84aと照明85cとをそれぞれ2個備え、撮影対象を撮影する為それぞれ上面と下面に向けられている。
そして、前記第1のアーム86aは挿入時の高さに復帰し、前記半導体ウエハーの試験ユニット10の外部へ移動して試験開始が始まる。
実際には、前記第2のアーム86bを前記ウエハートレー20の下側に挿入する時に、前記第1のアーム86aは下方に降下し、前記半導体ウエハー40を前記ウエハー搭載ステージ29に搭載する直前の状態になっている。
該試験装置90は、装置前面に制御部91と半導体ウエハー40を収容するウエハーカセット81とを備えている。
昇降機構76を構成する押圧板71は、下方で停止している。
従来のプローバー装置に比較し、簡単な構造で高さの低いウエハートレー上で高精度のウエハーの位置決めができることで、特許文献1で提案されるウエハー試験装置以上の多段構成のウエハー試験装置が実現できる。
また、ウエハーレベルパッケージにおける機能テスト及びバーンインテスト双方に、少量生産から多量生産まで安価なコストの試験装置を提供できる。
さらに、MEMSデバイスもFOWLP等の半導体ウエハーの開発が進展している。
20 ウエハートレー
21 トレーフレーム
21a フレーム
21b プレート
21c 固定用ネジ
22 ガイド穴
23 ウエハーガイド穴
24 スライドブッシュ
25 真空シール
26 受動部
26a ナット
26c スライド穴
26d 支持ピン
26g 円弧状の歯車
27 駆動部
27a 送りネジ
27c 取付け板
27d 駆動用の歯車
27f 取付け板
28 駆動方向スライド機構
29 ウエハー搭載ステージ
29a XY方向スライド機構取付け部
29c ウエハー搭載ステージ取付け台
29d スペーサー
30 テスターボード
32 真空チャンバー枠
40 半導体ウエハー
41 半導体ウエハーの端子
50 X−Y位置制御機構
51 XY方向スライド機構
51a 前後方向スライド機構
51b 左右方向スライド機構
51c スペーサー
52 シータ制御機構
53 ウエハー搭載ステージ支持体
53a フレーム
53b プレート
54 円周方向スライド機構
55 直交方向スライド機構
60 プローブカード
61 プローブピン
62 プローブ基板
63 トレー位置決めピン
64 トレー支持具
64a 支持ピン
64b 圧縮バネ
65 ストッパー
66 Eリング
70 ボードラック
71 押圧板
72 真空吸引口
73 エアーシリンダー
74 円形状の凸部
75 取付け金具
76 昇降機構
77 基板ガイド溝
78 エアーシリンダー
80 搬送室
81 ウエハーカセット
82 搬送ロボット
83 昇降機構
84 アライメント用撮影機構
84a アライメント用カメラ
85c 照明
86a 第1のアーム
86b 第2のアーム
87a ウエハーチャック
88 反転ユニット
89 ウエハーアライナー
90 試験装置
91 制御部
92 テスター部
Claims (4)
- プローブカードを有したテスターボードと、
半導体ウエハーを搭載するウエハートレーと、
前記ウエハートレーを昇降させる昇降機構とを備え、
前記半導体ウエハーと前記プローブカードとを加圧接触させて試験を実施する半導体ウエハーの試験ユニットであり、
前記ウエハートレーは、
前記プローブカードとの位置合せを行うトレー位置決めピンと嵌合するスライドブッシュを四隅に備えたトレーフレームと、
ウエハー搭載ステージと、
円周方向スライド機構を有したウエハー搭載ステージ支持体との主要部材で構成され、
該ウエハートレーは、
前記ウエハー搭載ステージを直交するX軸またはY軸の方向に移動させ、その移動量を制御するX−Y位置制御機構と、
前記ウエハー搭載ステージを円周方向に移動させ、その移動量を制御するシータ制御機構とを備えることを特徴とする、半導体ウエハーの試験ユニット。 - 前記X−Y位置制御機構は、
前記ウエハー搭載ステージをX方向またはY方向に移動させる送り機構を有した駆動部と、
前記送り機構と連動する受動部と、
該受動部を前記駆動部の駆動方向にスライドさせる駆動方向スライド機構と、
前記駆動部を該駆動部の駆動方向と直交する方向にスライドさせる直交方向スライド機構と、
前記駆動部と対向する側にX方向とY方向の両方向にスライドするXY方向スライド機構とを備えることを特徴とする、請求項1に記載する半導体ウエハーの試験ユニット。 - 前記シータ制御機構は、
前記ウエハー搭載ステージを円周方向に移動させる歯車と、
前記歯車と噛み合い該歯車を円周方向に移動させる駆動用の歯車と、
前記駆動用の歯車を有した駆動部とを備えることを特徴とする、請求項1または2に記載する半導体ウエハーの試験ユニット。 - プローブカードを有したテスターボードと、
半導体ウエハーを搭載するウエハートレーと、
前記ウエハートレーを昇降させる昇降機構とを備え、
前記半導体ウエハーと前記プローブカードとを真空圧により加圧接触させて試験を実施する半導体ウエハーの試験ユニットであり、
前記ウエハートレーは、
該プローブカードとの位置合せを行うトレー位置決めピンと嵌合するスライドブッシュを四隅に備えたトレーフレームと、
前記半導体ウエハーを搭載するウエハー搭載ステージと、
該ウエハー搭載ステージの中心を回転中心として、
円周方向にスライドする円周方向スライド機構を有したウエハー搭載ステージ支持体との主要部材で構成され、
該ウエハートレーは、
前記ウエハー搭載ステージを直交するX軸またはY軸の方向に移動させ、その移動量を制御するX−Y位置制御機構と、
前記ウエハー搭載ステージの中心を回転中心として、該ウエハー搭載ステージを円周方向に移動させ、その移動量を制御するシータ制御機構とを備え、
前記X−Y位置制御機構は、
前記ウエハー搭載ステージをX方向またはY方向に移動させる送り機構を有した駆動部と、
前記送り機構と連動する受動部と、
該受動部を前記駆動部の駆動方向にスライドさせる駆動方向スライド機構と、
前記駆動部を該駆動部の駆動方向と直交する方向にスライドさせる直交方向スライド機構と、
前記駆動部と対向する側にX方向とY方向の両方向にスライドするXY方向スライド機構とを備え、
前記シータ制御機構は、
前記ウエハー搭載ステージの中心を回転中心として、該ウエハー搭載ステージを円周方向に移動させる歯車と、
前記歯車と噛み合い該歯車を円周方向に移動させる駆動用の歯車と、
前記駆動用の歯車を有した駆動部とを備えることを特徴とする、半導体ウエハーの試験ユニット。
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Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US20220206058A1 (en) * | 2019-05-28 | 2022-06-30 | Tokyo Electron Limited | Transport system, inspection system, and inspection method |
Families Citing this family (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR102361259B1 (ko) * | 2020-05-21 | 2022-02-10 | (주) 피티씨 | 웨이퍼 시험장치 |
KR102384776B1 (ko) * | 2020-09-03 | 2022-04-08 | 한국생산기술연구원 | 멀티 프로버용 카트리지 얼라이너 장치 |
CN116047213B (zh) * | 2023-04-03 | 2023-06-30 | 滨州汇信和信息技术有限公司 | 一种电气设备测试装置 |
Citations (10)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US4328553A (en) * | 1976-12-07 | 1982-05-04 | Computervision Corporation | Method and apparatus for targetless wafer alignment |
JPH03211752A (ja) * | 1990-01-16 | 1991-09-17 | Fujitsu Ltd | 位置決め機構 |
JP2000164655A (ja) * | 1998-11-24 | 2000-06-16 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | アライメント装置及びアライメント方法 |
JP2005251813A (ja) * | 2004-03-02 | 2005-09-15 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | ウエハレベルバーンインアライメント装置およびウエハレベルバーンインアライメント方法 |
JP2007073762A (ja) * | 2005-09-07 | 2007-03-22 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | バーンイン検査における引き離し方法及びバーンイン検査に用いるアライメント装置 |
JP2008300756A (ja) * | 2007-06-04 | 2008-12-11 | Hitachi High-Technologies Corp | ウェーハ保持機、および荷電粒子線装置 |
WO2009147719A1 (ja) * | 2008-06-02 | 2009-12-10 | 株式会社アドバンテスト | 試験システム |
JP4765127B1 (ja) * | 2010-07-30 | 2011-09-07 | 合同会社Pleson | トレーユニットおよび半導体デバイスの検査装置 |
JP2018125507A (ja) * | 2017-02-05 | 2018-08-09 | 合同会社Pleson | ウエハーレベルパッケージの試験ユニット |
JP2018148060A (ja) * | 2017-03-07 | 2018-09-20 | 合同会社Pleson | ウエハーレベルパッケージの試験装置 |
-
2018
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Patent Citations (10)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US4328553A (en) * | 1976-12-07 | 1982-05-04 | Computervision Corporation | Method and apparatus for targetless wafer alignment |
JPH03211752A (ja) * | 1990-01-16 | 1991-09-17 | Fujitsu Ltd | 位置決め機構 |
JP2000164655A (ja) * | 1998-11-24 | 2000-06-16 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | アライメント装置及びアライメント方法 |
JP2005251813A (ja) * | 2004-03-02 | 2005-09-15 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | ウエハレベルバーンインアライメント装置およびウエハレベルバーンインアライメント方法 |
JP2007073762A (ja) * | 2005-09-07 | 2007-03-22 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | バーンイン検査における引き離し方法及びバーンイン検査に用いるアライメント装置 |
JP2008300756A (ja) * | 2007-06-04 | 2008-12-11 | Hitachi High-Technologies Corp | ウェーハ保持機、および荷電粒子線装置 |
WO2009147719A1 (ja) * | 2008-06-02 | 2009-12-10 | 株式会社アドバンテスト | 試験システム |
JP4765127B1 (ja) * | 2010-07-30 | 2011-09-07 | 合同会社Pleson | トレーユニットおよび半導体デバイスの検査装置 |
JP2018125507A (ja) * | 2017-02-05 | 2018-08-09 | 合同会社Pleson | ウエハーレベルパッケージの試験ユニット |
JP2018148060A (ja) * | 2017-03-07 | 2018-09-20 | 合同会社Pleson | ウエハーレベルパッケージの試験装置 |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US20220206058A1 (en) * | 2019-05-28 | 2022-06-30 | Tokyo Electron Limited | Transport system, inspection system, and inspection method |
US12013429B2 (en) * | 2019-05-28 | 2024-06-18 | Tokyo Electron Limited | Transport system, inspection system, and inspection method |
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