JP5349741B2 - 情報処理装置、半導体製造システム、情報処理方法、プログラム、及び記録媒体 - Google Patents
情報処理装置、半導体製造システム、情報処理方法、プログラム、及び記録媒体 Download PDFInfo
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Description
図1は、本実施の形態における情報処理システムの構成を示す図である。半導体製造システムは、情報処理装置100と、半導体製造装置200とを具備する。半導体製造装置200は、半導体を含む処理対象物に処理を行う。なお、ここでは、半導体製造装置200が、熱処理を含む処理を行う熱処理装置であり、処理対象物が半導体ウエハである場合を例に挙げて説明するが、半導体製造装置200は半導体を含む処理対象物に行う処理はどのような処理であっても良い。すなわち、半導体製造装置200が、熱処理装置以外の場合や、処理対象物が半導体ウエハ以外の、半導体を含むもの、例えば半導体チップ等である場合においても、本発明の構成は適用可能である。ここでは、情報処理装置100と半導体製造装置200とは、情報の入出力が可能なように、インターネットやLAN等のネットワークや、専用の信号線等により接続されている。
基準値格納部102は、不揮発性の記録媒体が好適であるが、揮発性の記録媒体でも実現可能である。
前記基準値により2つの範囲に分割される前記状態値が取り得る値の範囲のうちの、前記状態値が属する範囲内の値としたプログラムである。
20 制御用コンピュータ
100 情報処理装置
101 状態値受付部
102 基準値格納部
103 閾値格納部
104 算出部
105 出力部
106 多変量解析部
200 半導体製造装置
201 制御部
202 処理状態値取得部
203 処理出力部
211 処理容器
212 排気部
213 ガス導入部
214 配管
215 下端部
216 圧力調整部
217 圧力検出部
218 ガス流量検出部
221 蓋体
222 リング
223 回転支柱
224 回転テーブル
225 駆動部
226 ボート
230 加熱炉
231、231a−231c ヒータ
241、241a−241c 温度検出部
250 半導体ウエハ
Claims (16)
- 半導体を含む処理対象物に処理を行う半導体製造装置の、処理時の状態に関する値である状態値を処理する情報処理装置であって、
尺度の異なる複数の前記状態値を受け付ける状態値受付部と、
前記状態値の基準となる値であって、前記尺度の異なる複数の状態値の制御目標となる目標値である基準値がそれぞれ格納され得る基準値格納部と、
前記状態値が所望の値であるか否かの判断に用いられる値である閾値が格納され得る閾値格納部と、
前記状態値受付部の受け付けた前記尺度の異なる複数の状態値と前記基準値との差に関する値と、前記閾値と前記基準値との差に関する値との比を、前記尺度の異なる複数の状態値にそれぞれ対応して算出する算出部と、
前記算出部が、尺度の異なる複数の状態値にそれぞれ対応して算出した比を、それぞれの0点が一致するようにグラフ上で重ね合わせて表示することで出力する出力部とを具備する情報処理装置。 - 前記算出部が比の算出に用いる閾値は、
前記基準値により2つの範囲に分割される前記状態値が取り得る値の範囲のうちの、前記状態値が属する範囲内の値である請求項1記載の情報処理装置。 - 前記状態値は、前記半導体製造装置内の温度の測定値または測定値が統計処理された値である請求項1から請求項2いずれか記載の情報処理装置。
- 前記状態値は、前記半導体製造装置内の圧力の測定値または測定値が統計処理された値である請求項1から請求項3いずれか記載の情報処理装置。
- 前記状態値は、前記半導体製造装置内に導入されるガス流量の測定値または測定値が統計処理された値である請求項1から請求項4いずれか記載の情報処理装置。
- 前記尺度の異なる複数の状態値は、前記半導体製造装置内の温度の測定値、および前記半導体製造装置内の圧力の測定値、またはこれらが統計処理された値である請求項1記載の情報処理装置。
- 前記尺度の異なる複数の状態値は、さらに前記半導体製造装置内に導入されるガス流量の測定値、または測定値が統計処理された値を含む請求項6記載の情報処理装置。
- 半導体を含む処理対象物に処理を行う半導体製造装置と、請求項1から請求項7いずれか記載の情報処理装置とを具備する半導体製造システムであって、
前記半導体製造装置は、
前記状態値を取得する処理状態値取得部と、
前記状態値を出力する処理出力部とを具備する半導体製造システム。 - 前記半導体製造装置は、
前記処理対象物に処理を行う処理容器と、
前記処理容器内の温度を検出する1以上の温度検出部をさらに具備し、
前記処理状態値取得部は、前記温度検出部が検出した温度の値または値が統計処理された値である状態値を取得する請求項8記載の半導体製造システム。 - 前記半導体製造装置は、
前記処理対象物に処理を行う処理容器と、
前記処理容器内の圧力を検出する圧力検出部をさらに具備し、
前記処理状態値取得部は、前記圧力検出部が検出した圧力の値または値が統計処理された値である状態値を取得する請求項8記載の半導体製造システム。 - 前記半導体製造装置は、
前記処理対象物に処理を行う処理容器と、
前記処理容器内に導入されるガス流量を検出するガス流量検出部をさらに具備し、
前記処理状態値取得部は、前記ガス流量検出部が検出したガス流量の値または値が統計処理された値である状態値を取得する請求項8記載の半導体製造システム。 - 半導体を含む処理対象物に処理を行う半導体製造装置の、処理時の状態に関する値である状態値を処理する情報処理方法であって、
尺度の異なる複数の前記状態値を受け付ける状態値受付ステップと、
前記状態値受付ステップにより受け付けた前記尺度の異なる複数の状態値と、格納されている前記尺度の異なる複数の状態値の基準となる値であって前記状態値の制御目標となる目標値である基準値との差に関する値と、格納されている前記状態値が所望の値であるか否かの判断に用いられる値である閾値と前記基準値との差に関する値との比を、前記尺度の異なる複数の状態値にそれぞれ対応して算出する算出ステップと、
前記算出ステップにより尺度の異なる複数の状態値にそれぞれ対応して算出した比を、それぞれの0点が一致するようにグラフ上に重ね合わせて表示することで出力する出力ステップとを具備する情報処理方法。 - 前記算出ステップにおいて比の算出に用いる閾値は、
前記基準値により2つの範囲に分割される前記状態値が取り得る値の範囲のうちの、前記状態値が属する範囲内の値である請求項12記載の情報処理方法。 - 半導体を含む処理対象物に処理を行う半導体製造装置の、処理時の状態に関する値である状態値の処理を、コンピュータに実行させるためのプログラムであって、
コンピュータに、
尺度の異なる複数の前記状態値を受け付ける状態値受付ステップと、
前記状態値受付ステップにより受け付けた前記尺度の異なる複数の状態値と、格納されている前記尺度の異なる複数の状態値の基準となる値であって前記状態値の制御目標となる目標値である基準値との差に関する値と、格納されている前記状態値が所望の値であるか否かの判断に用いられる値である閾値と前記基準値との差に関する値との比を、前記尺度の異なる複数の状態値にそれぞれ対応して算出する算出ステップと、
前記算出ステップにより尺度の異なる複数の状態値にそれぞれ対応して算出した比を、それぞれの0点が一致するようにグラフ上で重ね合わせて表示することで出力する出力ステップとを実行させるためのプログラム。 - 前記算出ステップにおいて比の算出に用いる閾値は、
前記基準値により2つの範囲に分割される前記状態値が取り得る値の範囲のうちの、前記状態値が属する範囲内の値である請求項14記載のプログラム。 - 半導体を含む処理対象物に処理を行う半導体製造装置の、処理時の状態に関する値である状態値の処理を、コンピュータに実行させるためのプログラムが記録された記録媒体であって、
尺度の異なる複数の前記状態値を受け付ける状態値受付ステップと、
前記状態値受付ステップにより受け付けた前記尺度の異なる複数の状態値と、格納されている前記尺度の異なる複数の状態値の基準となる値であって前記状態値の制御目標となる目標値である基準値との差に関する値と、格納されている前記状態値が所望の値であるか否かの判断に用いられる値である閾値と前記基準値との差に関する値との比を、前記尺度の異なる複数の状態値にそれぞれ対応して算出する算出ステップと、
前記算出ステップにより尺度の異なる複数の状態値にそれぞれ対応して算出した比を、それぞれの0点が一致するようにグラフ上で重ね合わせて表示することで出力する出力ステップとを実行させるためのプログラムが記録された記録媒体。
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