JP5340135B2 - 不揮発性半導体記憶装置、不揮発性半導体記憶システム、および不揮発性半導体記憶装置のデータ書き換え方法 - Google Patents

不揮発性半導体記憶装置、不揮発性半導体記憶システム、および不揮発性半導体記憶装置のデータ書き換え方法 Download PDF

Info

Publication number
JP5340135B2
JP5340135B2 JP2009293400A JP2009293400A JP5340135B2 JP 5340135 B2 JP5340135 B2 JP 5340135B2 JP 2009293400 A JP2009293400 A JP 2009293400A JP 2009293400 A JP2009293400 A JP 2009293400A JP 5340135 B2 JP5340135 B2 JP 5340135B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
cell
data
state
semiconductor memory
nonvolatile semiconductor
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Active
Application number
JP2009293400A
Other languages
English (en)
Other versions
JP2011134393A (ja
Inventor
俊樹 島田
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Samsung Electronics Co Ltd
Original Assignee
Samsung Electronics Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Samsung Electronics Co Ltd filed Critical Samsung Electronics Co Ltd
Priority to JP2009293400A priority Critical patent/JP5340135B2/ja
Priority to KR1020100024717A priority patent/KR20110074405A/ko
Priority to US12/945,230 priority patent/US8406059B2/en
Publication of JP2011134393A publication Critical patent/JP2011134393A/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP5340135B2 publication Critical patent/JP5340135B2/ja
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Images

Landscapes

  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Theoretical Computer Science (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Engineering & Computer Science (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Read Only Memory (AREA)
  • Software Systems (AREA)

Description

本発明は、不揮発性半導体記憶装置、不揮発性半導体記憶システム、および不揮発性半導体記憶装置のデータ書き換え方法に関する。
フラッシュメモリは、データの書き換えが可能な不揮発性半導体記憶装置であるが、1バイト単位でイレース状態(例えば“1”状態)からプログラム状態(例えば“0”状態)にすることはできるが、消去することはできず、予めブロック単位でデータを消去してから更新データを書き込む必要がある。
特許文献1には、フラッシュメモリの全消去の前に、書き換え不要なエリアの情報を一時退避するレジスタを設けることが記載されている。また、特許文献2には、外部から転送された実行プログラムを第1のRAMにロードした後に、CPUの空き時間を利用して、フラッシュメモリに移し、フラッシュメモリで制御を行うことが記載されている。さらに、特許文献3には、旧データの変更部分をフラッシュメモリからRAMへコピーし、RAM上で書き換えたプログラムをフラッシュメモリに戻すことが記載されている。
従来のフラッシュメモリを含むシステムにおいて、RAMは、全てフラッシュメモリの外部にあり、外部のバスを介してフラッシュメモリと接続されていた。このため、フラッシュメモリのデータの書き換えには、フラッシュメモリからRAMへのコピー処理、フラッシュメモリのイレース処理、およびRAMからフラッシュメモリへの書き戻し処理が必要であり、さらに、これらの処理のためのコマンド発行が必要であった。従って、フラッシュメモリのデータの書き換えには、これらの全ての処理を実行する時間が必要であった。
図3は、従来の不揮発性半導体記憶システムのハードウェア構成を示すブロック図である。不揮発性半導体記憶装置101は、記憶領域と、コントローラ103とを内蔵している。記憶領域は、データを記憶するための領域であり、ブロックに分割されていて、記憶されているデータの更新(書き換え)はブロック毎に行う。コントローラ103は、不揮発性半導体記憶装置101の動作を制御する。例えば、コントローラ103は、記憶領域のブロック102内の各セルの状態が、プログラム状態(例えば“0”状態)であるのか、イレース状態(例えば“1”状態)であるのかを判定する機能を有している。
不揮発性半導体記憶装置101には、MPU105が接続されている。MPU105は、プロセッサ106と、RAM107とを内蔵している。ただし、RAM107は、必ずしもMPU105に内蔵されている必要はなく、MPU105および不揮発性半導体記憶装置101の外部にあってもよい。プロセッサ106は、不揮発性半導体記憶装置101内のコントローラ103と通信して、データ更新動作を制御する。例えば、プロセッサ106は、コントローラ103にイレース開始命令を送る。RAM107には、不揮発性半導体記憶装置101内の更新しようとするデータを含むブロック102のデータがコピーされ、ここでデータの更新が行われる。
図4は、従来の不揮発性半導体記憶装置101に記憶されていたデータを更新する際の処理手順を示すフローチャートである。まず、ステップS101で、不揮発性半導体記憶装置101の記憶領域のうち、更新しようとするデータを含むブロック102内のデータを全て、不揮発性半導体記憶装置101の外部の、MPU105内のRAM107にコピー(退避)する。次に、ステップS102で、RAM107にコピーしたデータのうち、必要な部分を更新する。次に、ステップS103で、不揮発性半導体記憶装置101の記憶領域の該当ブロック102内のデータを全てイレースする。最後に、ステップS104で、MPU105のRAM107内の更新したデータを含むブロック全体のデータを、不揮発性半導体記憶装置101の記憶領域の該当ブロック102に書き戻す。
図5は、図4内のステップS103におけるイレース処理の詳細な過程を示すフローチャートである。イレース処理は、プリプログラム過程、イレース過程、ポストプログラム過程に分かれている。
プリプログラム過程においては、該当ブロック102内のイレース状態(例えば“1”状態)のセルを全てプログラム状態(例えば“0”状態)にする。このため、まず、ステップS301で、該当ブロック102の先頭アドレスから順に、各セルの状態が、プログラム状態であるのか、イレース状態であるのかをチェック(ベリファイ)する。次に、ステップS302で、チェックしたセルの状態に応じて分岐を行う。すなわち、セルの状態がプログラム状態であれば(NO)、ステップS304に進む。セルの状態がイレース状態であれば(YES)、ステップS303に進む。ステップS303では、イレース状態のセルにプログラムストレスをかけ、プログラム状態にする。ステップS304では、プリプログラム処理がブロック102の最終アドレスまで済んだかどうかを判断する。済んでいないのであれば(NO)、ステップS301に戻り、次のアドレスのセルのプリプログラム処理を行う。最終アドレスまで済んだのであれば(YES)、次のイレース過程のステップS305に進む。
イレース過程のステップS305では、ブロック102内の全てのセルをイレースし、かつ正常なイレース状態になったかどうかをチェック(ベリファイ)する。イレース過程が終了したら、次のポストプログラム過程のステップS306に進む。
ポストプログラム過程においては、ブロック102内のイレースされている全てのセルについて、閾値電圧Vtを均一化する。このため、まず、ステップS306で、ブロック102の先頭アドレスから順に、各セルにポストプログラムストレス(ポストプログラム電圧)をかけ、各セルの閾値電圧Vtを均一化する。さらに、正常な閾値電圧Vtになったかどうかをチェック(ベリファイ)する。次に、ステップS307で、ポストプログラム処理(閾値電圧Vtの均一化)がブロック102内の最終アドレスまで済んだかどうかを判断する。済んでいないのであれば(NO)、ステップS306に戻り、次のアドレスのセルのポストプログラム処理を実行する。最終アドレスまで済んだのであれば(YES)、ポストプログラム過程を終了し、かつイレース処理全体(図4におけるステップS103)を終了する。
特開平5-233478号公報 特開平9-146767号公報 特開2002-14833号公報
従来のフラッシュメモリの書き換え処理は、まずフラッシュメモリから外部のRAMへ該当ブロックのデータをコピーし、次にRAMのデータを更新し、次にフラッシュメモリの該当ブロックを消去し、最後にRAMからフラッシュメモリに更新データを書き戻すものであった。このため、書き換え処理に時間がかかるという問題があった。
上記の課題を解決するために、本発明は、複数のセルを含むブロック毎にセルのデータの書き換えが可能な記憶領域と、書き換えようとするブロック内のセルのデータを退避するためのRAMと、前記記憶領域およびRAMの読み書きを制御するコントローラとを備えた不揮発性半導体記憶装置において、前記ブロック内のセルに記憶されていたデータの書き換え処理は、書き換えようとするブロック内の各セルの状態が、プログラム状態であるのか、イレース状態であるのかを判別して、イレース状態であれば、プログラム状態にするため、セルにプログラム電圧をかけるプリプログラム過程と、書き換えようとするブロック内の全てのセルをイレースするイレース過程と、イレースしたセルの閾値電圧を均一化するポストプログラム過程とを有していて、前記プリプログラム過程で、書き換えようとするブロック内の各セルの状態が、プログラム状態であるのか、イレース状態であるのかを判別するのと同時に、各セルの状態をRAMへコピーし、前記イレース過程の間に、RAMのデータを書き換え、前記ポストプログラム過程で、RAMにある書き換えられたデータに基づいて、セルの書き換え後のデータがイレース状態に対応するデータであれば、セルのイレース後の閾値電圧を均一化するため、セルにポストプログラム電圧をかけ、セルの書き換え後のデータがプログラム状態に対応するデータであれば、セルをプログラム状態にするため、セルにプログラム電圧をかけることを特徴とする。
また、本発明は、上記の不揮発性半導体記憶装置と、前記不揮発性半導体記憶装置と通信するMPUとを備えていることを特徴とする不揮発性半導体記憶システムである。
また、本発明は、複数のセルを含むブロック毎にセルのデータの書き換えが可能な記憶領域と、書き換えようとするブロック内のセルのデータを退避するためのRAMと、前記記憶領域およびRAMの読み書きを制御するコントローラとを備えた不揮発性半導体記憶装置のデータ書き換え方法において、前記ブロック内のセルに記憶されていたデータの書き換え処理は、書き換えようとするブロック内の各セルの状態が、プログラム状態であるのか、イレース状態であるのかを判別して、イレース状態であれば、プログラム状態にするため、セルにプログラム電圧をかけるプリプログラム過程と、書き換えようとするブロック内の全てのセルをイレースするイレース過程と、イレースしたセルの閾値電圧を均一化するポストプログラム過程とを有していて、前記プリプログラム過程で、書き換えようとするブロック内の各セルの状態が、プログラム状態であるのか、イレース状態であるのかを判別するのと同時に、各セルの状態をRAMへコピーし、前記イレース過程の間に、RAMのデータを書き換え、前記ポストプログラム過程で、RAMにある書き換えられたデータに基づいて、セルの書き換え後のデータがイレース状態に対応するデータであれば、セルのイレース後の閾値電圧を均一化するため、セルにポストプログラム電圧をかけ、セルの書き換え後のデータがプログラム状態に対応するデータであれば、セルをプログラム状態にするため、セルにプログラム電圧をかけることを特徴とする。
本発明による不揮発性半導体記憶装置は、RAMを内蔵し、かつ従来のイレース処理のプリプログラム過程の中のベリファイのステップと同時にRAMへのコピー処理を行い、さらにイレース処理のポストプラグラム過程の中のポストプログラムストレスをかけるステップと同時にRAMからの書き戻し処理を行う。
本発明は、不揮発性半導体記憶装置のデータを更新する際の外部処理の時間を削減し、不揮発性半導体記憶装置のデータ更新時間を飛躍的に短縮することができる。従って、不揮発性半導体記憶装置を含む不揮発性半導体記憶システムの性能を飛躍的に向上させることができるという効果を奏する。
本発明の一実施形態による不揮発性半導体記憶システムのハードウェア構成を示すブロック図である。 本発明の不揮発性半導体記憶装置に記憶されていたデータを更新する際の処理手順を示すフローチャートである。 従来の不揮発性半導体記憶システムのハードウェア構成を示すブロック図である。 従来の不揮発性半導体記憶装置に記憶されていたデータを更新する際の処理手順を示すフローチャートである。 図4内のステップS103におけるイレース処理の詳細な過程を示すフローチャートである。
図1は、本発明の一実施形態による不揮発性半導体記憶システムのハードウェア構成を示すブロック図である。不揮発性半導体記憶装置1は、記憶領域と、コントローラ3と、RAM4とを内蔵している。記憶領域は、データを記憶するための領域であり、ブロックに分割されていて、記憶されているデータの更新(書き換え)は、ブロック毎に行う。コントローラ3は、不揮発性半導体記憶装置1の動作を制御する。例えば、コントローラ3は、記憶領域のブロック2内の各セルの状態が、プログラム状態(例えば“0”状態)であるのか、イレース状態(例えば“1”状態)であるのかを判定する機能を有している。RAM4には、更新しようとするデータを含むブロック2のデータがコピー(退避)され、ここでデータの更新が行われる。
図1には示していないが、不揮発性半導体記憶装置1は、セルをプログラム状態にするためのプログラム電圧と、イレース後のセルの閾値電圧Vtを均一化するためのポストプログラム電圧とを発生するレギュレータを有している。さらに、セルにかける電圧を切り換えるための電圧切換スイッチも有している。
不揮発性半導体記憶装置1には、MPU5が接続されている。MPU5は、プロセッサ6を内蔵している。プロセッサ6は、不揮発性半導体記憶装置1内のコントローラ3と通信して、データ更新動作を制御する。例えば、プロセッサ6は、コントローラ3に更新動作開始命令を送る。また、プロセッサ6は、不揮発性半導体記憶装置1内のRAM4に、データの更新情報(データのどのビットをどのような値に書き換えるのかを示す情報)を送る。
図2は、不揮発性半導体記憶装置1に記憶されていたデータを更新する際の処理手順を示すフローチャートである。データ更新処理は、プリプログラム過程、イレース過程、ポストプログラム過程に分かれている。
プリプログラム過程においては、更新しようとするデータを含むブロック2の全てのデータをRAM4にコピー(退避)すると共に、イレース状態のセルを全てプログラム状態にする。このため、まず、ステップS1で、ブロック2の先頭アドレスから順に、各セルの状態が、プログラム状態であるのか、イレース状態であるのかをチェック(ベリファイ)する。同時に、チェックしたセルの状態すなわち記憶されているデータをRAM4にコピーする。次に、ステップS2で、チェックしたセルの状態に応じて分岐を行う。すなわち、セルの状態がプログラム状態であれば(NO)、ステップS4に進む。セルの状態がイレース状態であれば(YES)、ステップS3に進む。ステップS3では、イレース状態のセルにプログラムストレス(プログラム電圧)をかけ、プログラム状態にする。ステップS4では、プリプログラム処理がブロック2の最終アドレスまで済んだかどうかを判断する。済んでいないのであれば(NO)、ステップS1に戻り、次のアドレスのセルのプリプログラム処理を行う。最終アドレスまで済んだのであれば(YES)、次のイレース過程のステップS5に進む。
イレース過程のステップS5では、ブロック2内の全てのセルをイレースし、かつ正常なイレース状態になったかどうかをチェック(ベリファイ)する。並行して、RAM4にコピーしたデータを更新する。イレース過程が終了したら、次のポストプログラム過程のステップS6に進む。
ポストプログラム過程においては、ブロック2内のイレース状態のセルの閾値電圧Vtを均一化する。同時に、データ更新によってプログラム状態にするべきセルについては、プログラム電圧をかけて、データの書き込みを行う。イレース後の閾値電圧Vtを均一化するためのポストプログラム電圧と、セルをプログラム状態にするためのプログラム電圧とは異なるが、これらの電圧は、レギュレータによって発生する。また、セルにかける電圧の切り換えは、RAM4のデータを参照して、更新後の各セルの状態に応じて、電圧切換スイッチによって行う。
まず、ステップS6で、ブロック2の先頭アドレスから順に、各セルにストレスをかける。このとき、RAM4に記憶されている更新後のデータを参照し、セルの更新後のデータがイレース状態に対応するデータであれば、セルのイレース後の閾値電圧Vtを均一化するため、セルにポストプログラム電圧をかけ、さらに正常な閾値電圧Vtになったかどうかをチェック(ベリファイ)する。セルの更新後のデータがプログラム状態に対応するデータであれば、セルをプログラム状態にするため、セルにプログラム電圧をかける。次に、ステップS7で、ポストプログラム処理(ポストプログラム電圧またはプログラム電圧の印加)がブロック2内の最終アドレスのセルまで済んだかどうかを判断する。済んでいないのであれば(NO)、ステップS6に戻り、次のアドレスのセルのポストプログラム処理を行う。最終アドレスのセルまで済んだのであれば(YES)、ポストプログラム過程を終了し、かつデータ更新処理全体を終了する。
本発明においては、RAMへのコピー処理を、プリプログラム過程の中のベリファイと同時に行う。また、RAMからの書き戻し処理を、ポストプログラム過程の中のポストプログラムストレス(ポストプログラム電圧)の印加と同時に行う。これにより、データ更新時間を飛躍的に短縮することができる。すなわち、従来、データ更新=RAMへのコピー処理+イレース処理+RAMからの書き戻し処理であったものが、本発明では、データ更新=イレース処理のみとなる。さらに、RAMを不揮発性半導体記憶装置に内蔵したので、不揮発性半導体記憶装置1とMPU5の間でのコマンド発行も削減される。
例えば、ブロックが512ワードで、従来のコピー処理に要する時間が1ワード当たり65nsで、コマンド発行に要する時間が1ワード当たり65nsで、書き戻し処理に要する時間が1ワード当たり500nsであったとすると、本発明によって短縮されるデータ更新時間は、
コピー処理:65ns×512=33μs
コマンド発行:65ns×512=33μs
書き戻し処理:500ns×512=256μs
なので、合計322μsとなる。ブロックが32Kワードであれば、322μs×(32K/512)=約20ms短縮することができる。
1 不揮発性半導体記憶装置
2 ブロック
3 コントローラ
4 RAM
5 MPU
6 プロセッサ

Claims (3)

  1. 複数のセルを含むブロック毎にセルのデータの書き換えが可能な記憶領域と、
    書き換えようとするブロック内のセルのデータを退避するためのRAMと、
    前記記憶領域およびRAMの読み書きを制御するコントローラと
    を備えた不揮発性半導体記憶装置において、
    前記ブロック内のセルに記憶されていたデータの書き換え処理は、
    書き換えようとするブロック内の各セルの状態が、プログラム状態であるのか、イレース状態であるのかを判別して、イレース状態であれば、プログラム状態にするため、セルにプログラム電圧をかけるプリプログラム過程と、
    書き換えようとするブロック内の全てのセルをイレースするイレース過程と、
    イレースしたセルの閾値電圧を均一化するポストプログラム過程とを有していて、
    前記プリプログラム過程で、書き換えようとするブロック内の各セルの状態が、プログラム状態であるのか、イレース状態であるのかを判別するのと同時に、各セルの状態をRAMへコピーし、
    前記イレース過程の間に、RAMのデータを書き換え、
    前記ポストプログラム過程で、RAMにある書き換えられたデータに基づいて、セルの書き換え後のデータがイレース状態に対応するデータであれば、セルのイレース後の閾値電圧を均一化するため、セルにポストプログラム電圧をかけ、セルの書き換え後のデータがプログラム状態に対応するデータであれば、セルをプログラム状態にするため、セルにプログラム電圧をかける
    ことを特徴とする不揮発性半導体記憶装置。
  2. 請求項1に記載の不揮発性半導体記憶装置と、
    前記不揮発性半導体記憶装置と通信するMPUと
    を備えていることを特徴とする不揮発性半導体記憶システム。
  3. 複数のセルを含むブロック毎にセルのデータの書き換えが可能な記憶領域と、
    書き換えようとするブロック内のセルのデータを退避するためのRAMと、
    前記記憶領域およびRAMの読み書きを制御するコントローラと
    を備えた不揮発性半導体記憶装置のデータ書き換え方法において、
    前記ブロック内のセルに記憶されていたデータの書き換え処理は、
    書き換えようとするブロック内の各セルの状態が、プログラム状態であるのか、イレース状態であるのかを判別して、イレース状態であれば、プログラム状態にするため、セルにプログラム電圧をかけるプリプログラム過程と、
    書き換えようとするブロック内の全てのセルをイレースするイレース過程と、
    イレースしたセルの閾値電圧を均一化するポストプログラム過程とを有していて、
    前記プリプログラム過程で、書き換えようとするブロック内の各セルの状態が、プログラム状態であるのか、イレース状態であるのかを判別するのと同時に、各セルの状態をRAMへコピーし、
    前記イレース過程の間に、RAMのデータを書き換え、
    前記ポストプログラム過程で、RAMにある書き換えられたデータに基づいて、セルの書き換え後のデータがイレース状態に対応するデータであれば、セルのイレース後の閾値電圧を均一化するため、セルにポストプログラム電圧をかけ、セルの書き換え後のデータがプログラム状態に対応するデータであれば、セルをプログラム状態にするため、セルにプログラム電圧をかける
    ことを特徴とする不揮発性半導体記憶装置のデータ書き換え方法。
JP2009293400A 2009-12-24 2009-12-24 不揮発性半導体記憶装置、不揮発性半導体記憶システム、および不揮発性半導体記憶装置のデータ書き換え方法 Active JP5340135B2 (ja)

Priority Applications (3)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2009293400A JP5340135B2 (ja) 2009-12-24 2009-12-24 不揮発性半導体記憶装置、不揮発性半導体記憶システム、および不揮発性半導体記憶装置のデータ書き換え方法
KR1020100024717A KR20110074405A (ko) 2009-12-24 2010-03-19 불휘발성 반도체 기억 장치, 그것의 데이터 갱신 방법, 및 불휘발성 반도체 기억 시스템
US12/945,230 US8406059B2 (en) 2009-12-24 2010-11-12 Nonvolatile semiconductor memory devices, data updating methods thereof, and nonvolatile semiconductor memory systems

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2009293400A JP5340135B2 (ja) 2009-12-24 2009-12-24 不揮発性半導体記憶装置、不揮発性半導体記憶システム、および不揮発性半導体記憶装置のデータ書き換え方法

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP2011134393A JP2011134393A (ja) 2011-07-07
JP5340135B2 true JP5340135B2 (ja) 2013-11-13

Family

ID=44346958

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2009293400A Active JP5340135B2 (ja) 2009-12-24 2009-12-24 不揮発性半導体記憶装置、不揮発性半導体記憶システム、および不揮発性半導体記憶装置のデータ書き換え方法

Country Status (2)

Country Link
JP (1) JP5340135B2 (ja)
KR (1) KR20110074405A (ja)

Family Cites Families (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2729432B2 (ja) * 1991-10-30 1998-03-18 三菱電機株式会社 電気的に書込消去可能な半導体記憶装置
JPH09147581A (ja) * 1995-11-21 1997-06-06 Hitachi Ltd 半導体記憶装置、及びデータ処理装置
JP2007052558A (ja) * 2005-08-16 2007-03-01 Matsushita Electric Ind Co Ltd フラッシュメモリ書換え装置、フラッシュメモリ書換え方法及びフラッシュメモリ書換えプログラム

Also Published As

Publication number Publication date
KR20110074405A (ko) 2011-06-30
JP2011134393A (ja) 2011-07-07

Similar Documents

Publication Publication Date Title
TWI389121B (zh) 具有改良程式化準確性之快閃記憶體及相關方法
US9025390B2 (en) Nonvolatile semiconductor memory device which performs improved erase operation
KR20060012696A (ko) 불량 블록 관리 기능을 가지는 플레시 메모리 장치 및플레시 메모리 장치의 불량 블록 관리 방법.
KR20080064063A (ko) 검증 성공된 메모리 셀에 대하여 재검증이 가능한 비휘발성 메모리 장치의 구동 방법 및 비휘발성 메모리 장치
KR20120068192A (ko) 플래시 메모리 장치 및 그 동작 방법
KR100967026B1 (ko) 불휘발성 메모리 장치 및 그 캐쉬리드 방법
US7590793B2 (en) Data access controlling method in flash memory and data access controlling program
JP2008034089A (ja) フラッシュメモリ装置と該プログラム方法及びメモリシステム
US8085593B2 (en) Method of inputting address in nonvolatile memory device and method of operating the nonvolatile memory device
KR100898653B1 (ko) 플래시 메모리 소자 및 프로그램 방법
JP5340135B2 (ja) 不揮発性半導体記憶装置、不揮発性半導体記憶システム、および不揮発性半導体記憶装置のデータ書き換え方法
JP4101583B2 (ja) 消去動作時間を短縮したフラッシュメモリ
JP2010129154A (ja) 不揮発性半導体記憶装置
JP5032137B2 (ja) 半導体記憶装置
JP2004253093A (ja) 半導体不揮発性記憶装置
TWI658471B (zh) 快閃記憶體儲存裝置及其操作方法
US6898680B2 (en) Minimization of overhead of non-volatile memory operation
US8225051B2 (en) Access control method for a memory, memory controller for controlling access to the memory, and data processing apparatus
US11868654B2 (en) Semiconductor device
TWI420526B (zh) 半導體裝置及用於該半導體裝置之控制方法
KR100960478B1 (ko) 불휘발성 메모리 장치의 듀얼 플레인 카피백 방법
US8406059B2 (en) Nonvolatile semiconductor memory devices, data updating methods thereof, and nonvolatile semiconductor memory systems
JP2022040856A (ja) メモリ制御装置及びメモリ制御方法
JP2000285092A (ja) マイクロコンピュータ
JPH11110304A (ja) マイクロコンピュータ

Legal Events

Date Code Title Description
A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20121212

A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20130625

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20130709

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20130806

R150 Certificate of patent or registration of utility model

Ref document number: 5340135

Country of ref document: JP

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250