JP5327588B2 - 研磨方法および研磨装置 - Google Patents
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Description
5 基板(研磨対象物)
8 被覆層
20 チャック(保持機構)
30 チャック移動機構(保持機構)
40 パッド回転機構(研磨機構)
44 研磨パッド
51 容器部材(被覆層形成機構)
52 UV樹脂(紫外線硬化型樹脂)
55 紫外線照射装置(被覆層形成機構)
60 表面測定装置(研磨制御部)
Claims (14)
- 研磨対象物と研磨パッドとを当接させた状態で両者を相対移動させて前記研磨対象物を研磨する研磨方法であって、
前記研磨対象物の被研磨面に、研磨後の形状として求められる表面形状と同一の表面形状を有した被覆層を形成する被覆工程と、
前記被覆工程において形成された前記被覆層の表面に前記研磨パッドを当接させた状態で前記研磨パッドと前記研磨対象物とを相対移動させて前記被覆層を研磨して前記被研磨面を研磨する研磨工程とを有し、
前記被覆工程において、内部に被覆層形成材料を貯留し、内側底面が前記研磨対象物の研磨後の形状として求められる表面形状に対応した形状に形成された容器部材を用いて、前記研磨対象物の被研磨面を前記容器部材内の前記被覆層形成材料に浸した状態において前記被覆層形成材料を硬化させることにより、前記被覆層を形成することを特徴とする研磨方法。 - 前記被覆工程において、前記被覆層形成材料は紫外線の照射を受けて硬化する紫外線硬化型樹脂が用いられ、前記被研磨面を前記容器部材内の前記紫外線硬化型樹脂に浸した状態において、紫外線照射装置により出射される紫外線を前記容器部材の底部を透過させて前記被研磨面に応じた範囲の前記紫外線硬化型樹脂に照射することにより、前記紫外線硬化型樹脂を硬化させて前記被覆層を形成することを特徴とする請求項1に記載の研磨方法。
- 前記容器部材の内側底面は略平坦な面に形成され、前記被覆工程において、前記被覆層の表面は略平坦な面に形成されることを特徴とする請求項1または2に記載の研磨方法。
- 前記被覆工程において、前記被覆層形成材料は前記被研磨面と異なる色の色素が含有されていることを特徴とする請求項1〜3のいずれかに記載の研磨方法。
- 前記研磨工程において研磨された前記被研磨面の着色状態により前記被研磨面の研磨状態を判断する判断工程を有することを特徴とする請求項4に記載の研磨方法。
- 前記被覆工程において、前記被覆層形成材料は前記被研磨面とほぼ同一の研磨速度を有する材料が用いられることを特徴とする請求項1〜5のいずれかに記載の研磨方法。
- 前記被覆層形成材料は、前記研磨パッドによって前記被研磨面が研磨される速度の80〜120%の研磨速度を有する材料が用いられることを特徴とする請求項6に記載の研磨方法。
- 研磨対象物の被研磨面に、研磨後の形状として求められる表面形状と同一の表面形状を有した被覆層を形成する被覆層形成機構と、
前記被覆層形成機構により形成された前記被覆層の表面に研磨パッドを当接させた状態で前記研磨パッドと前記研磨対象物とを相対移動させて前記被覆層を研磨して前記被研磨面を研磨する研磨機構とを備え、
前記被覆層形成機構は、内部に被覆層形成材料を貯留し、内側底面が前記研磨対象物の研磨後の形状として求められる表面形状に対応した形状に形成された容器部材を有し、前記研磨対象物の被研磨面を前記容器部材内の前記被覆層形成材料に浸した状態において前記被覆層形成材料を硬化させることにより、前記被覆層を形成するように構成されることを特徴とする研磨装置。 - 前記被覆層形成材料は、紫外線の照射を受けて硬化する紫外線硬化型樹脂が用いられ、
前記容器部材の底部は紫外線が透過可能に構成され、
前記被覆層形成機構は、紫外線を出射可能な紫外線照射装置を有し、前記被研磨面を前記容器部材内の前記紫外線硬化型樹脂に浸した状態において、前記紫外線照射装置により出射される紫外線を前記容器部材の底部を透過させて前記被研磨面に応じた範囲の前記紫外線硬化型樹脂に照射して硬化させることにより、前記被覆層を形成するように構成されることを特徴とする請求項8に記載の研磨装置。 - 前記容器部材の内側底面は略平坦な面に形成され、前記被覆層の表面は略平坦な面に形成されることを特徴とする請求項8または9に記載の研磨装置。
- 前記被覆層形成材料は前記被研磨面と異なる色の色素が含有されていることを特徴とする請求項8〜10のいずれかに記載の研磨装置。
- 前記被覆層の色情報により前記被研磨面に残留する前記被覆層の分布を測定し、該測定結果に基づいて前記被研磨面の研磨加工を終了するか否かを判断する研磨制御部を備えたことを特徴とする請求項11に記載の研磨装置。
- 前記被覆層形成材料は、前記被研磨面とほぼ同一の研磨速度を有する材料が用いられることを特徴とする請求項8〜12のいずれかに記載の研磨装置。
- 前記被覆層形成材料は、前記研磨パッドによって前記被研磨面が研磨される速度の80〜120%の研磨速度を有する材料が用いられることを特徴とする請求項13に記載の研磨装置。
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