JP5318975B2 - 高圧処理器を利用した基板処理装置及び高圧処理器のガスリサイクル方法 - Google Patents
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Description
図1を参照すれば、従来の基板処理装置は、高圧処理器60と、高圧処理器60に連結される気体二酸化炭素供給源20及び液体二酸化炭素供給源21と、二酸化炭素を高圧で送出するための高圧ポンプ24と、洗浄用添加剤を供給する洗浄用添加剤供給源25と、リンス用添加剤を供給するリンス用添加剤供給源26と、二酸化炭素及び添加剤を加熱するために供給管L2、L3、L4上に設置される加熱器31、32、33と、超臨界状態の均質透明相の混合物を形成しながら一定量の洗浄用添加剤を供給するための均質透明相混合器70と、高圧処理器60に連結され、一定の圧力を維持するための圧力調節弁54と、高圧処理器60に連結され、高圧処理器60から排出される混合物を気体相の二酸化炭素と液体相添加剤に分離する分離器61と、分離した気体相の二酸化炭素を精製するための気体洗浄カラム63及び吸着カラム64と、精製された気体を凝縮し、再使用するための二酸化炭素凝縮容器23と、オン−オフ自動弁1〜12とを備える。
図2を参照すれば、本発明による高圧処理器を利用した基板処理装置は、供給された超臨界二酸化炭素及び添加剤で基板を洗浄、リンスまたは乾燥処理する高圧処理器100と、液体二酸化炭素を供給する二酸化炭素供給部400と、前記高圧処理器100で洗浄に使用された二酸化炭素及び添加剤を排出する排出ラインL1と、前記排出ラインL1を通じて排出される二酸化炭素及び添加剤を分岐する第1及び第2分岐ラインL2、L3と、前記第1分岐ラインL2を通じて供給される前記二酸化炭素と添加剤とを分離し、分離した二酸化炭素を浄化処理し、冷却部300の冷媒と前記第2分岐ラインL3を通じて供給される二酸化炭素を利用して前記浄化した二酸化炭素を凝縮すると共に、前記二酸化炭素供給部400から供給される二酸化炭素が気化しないように凝縮させるリサイクル部200と、前記リサイクル部200の二酸化炭素またはリサイクルされる二酸化炭素を高圧で供給する高圧ポンプ500と、前記高圧ポンプ500から供給された二酸化炭素を貯蔵及び加熱する第1加熱バッファー部610と、前記第1加熱バッファー610で加熱された二酸化炭素を供給されて貯蔵すると共に、工程温度に再加熱し、前記高圧処理器100に供給する第2加熱バッファー620と、前記供給される二酸化炭素に各々選択的に洗浄添加剤及びリンス添加剤を供給する洗浄添加剤供給部700及びリンス添加剤供給部800とで構成される。
200 リサイクル部
210 バンドルチューブ
220 冷媒循環管
230 隔壁
240 外壁
250 気液分離管
260 吸着板
270 ヒーター
300 冷却部
400 二酸化炭素供給部
500 高圧ポンプ
610 第1加熱バッファー部
620 第2加熱バッファー部
700 洗浄添加剤混合部
800 リンス添加剤混合部
Claims (5)
- 高圧の二酸化炭素を使用して基板を処理する高圧処理器と、
前記高圧処理器で使用された二酸化炭素を排出する排出管から各々二酸化炭素を分岐する第1及び第2分岐ラインと、
前記第1分岐ラインを通じて供給される二酸化炭素から添加剤を分離し、前記二酸化炭素を凝縮させ、且つ、その凝縮に冷却部の冷媒が通過する冷媒循環管と共に前記第2分岐ラインを通じて供給される二酸化炭素の断熱膨脹による温度下降が関与されるようにするリサイクル部と、
前記リサイクル部または二酸化炭素供給部の液体二酸化炭素を高圧でポンピングする高圧ポンプと、
前記高圧ポンプを通じて昇圧された二酸化炭素を段階的に加熱し、前記高圧処理器に供給するバッファーの役目をする第1及び第2加熱バッファー部と、を含む高圧処理器を利用した基板処理装置。 - 前記リサイクル部は、
前記第2分岐ラインが連結され、洗浄に使用された二酸化炭素を断熱膨脹させるバンドルチューブと、
前記バンドルチューブの周辺に前記冷却部の冷媒が流れるようにする冷媒循環管と、
前記冷媒循環管から所定の距離だけ離隔して配設され、収集された液体二酸化炭素と添加剤を分離する隔壁と、
前記隔壁と外壁との間で水平方向に順次設置されるリング形状の気液分離管と、
前記外壁の上部側で下向きに配置され、前記第1分岐ラインを通じて供給される気体二酸化炭素を加熱し、二酸化炭素の液化を防止するヒーターと、を含むことを特徴とする請求項1に記載の高圧処理器を利用した基板処理装置。 - 前記バンドルチューブは、
一側が前記第2分岐ラインに連結される多数の管を含み、且つ、該多数の管の断面積の和は、前記第2分岐ラインの断面積より大きいことを特徴とする請求項2に記載の高圧処理器を利用した基板処理装置。 - 前記第1及び第2加熱バッファー部は、
前記高圧処理器で洗浄に使用された前記二酸化炭素が前記排出管を通じて排出され、圧力が低くなった場合、前記高圧処理器の圧力を工程圧力に上昇させることができるように、前記二酸化炭素を前記高圧ポンプによって高圧でポンピングすることにより、工程圧力以上の圧力を維持することを特徴とする請求項1〜3のいずれか1項に記載の高圧処理器を利用した基板処理装置。 - 前記第2加熱バッファー部を通じて前記高圧処理器に供給される二酸化炭素に洗浄添加剤またはリンス添加剤を選択的に混合供給することができる洗浄添加剤供給部及びリンス添加剤混合部をさらに含み、高圧の前記二酸化炭素が直接前記洗浄添加剤供給部またはリンス添加剤混合部を通過することを特徴とする請求項4に記載の高圧処理器を利用した基板処理装置。
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