JP5317648B2 - 薄膜太陽電池の製法 - Google Patents

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Description

本発明は、一対の電極層間に光吸収層を有する薄膜太陽電池の製法に関する。
図1は、一般的な薄膜太陽電池の基本構造を示している。この薄膜太陽電池は、図1に示すように、例えば、ソーダライムガラスからなる基板1上に裏面電極となる、例えば、Moからなる第1電極層2が形成され、この第1電極層2上に化合物半導体薄膜からなる光吸収層3が形成され、その光吸収層3上にZnS、CdSなどからなるバッファ層4を介して、ZnOなどからなる透明の第2電極層5が形成されている。
化合物半導体からなる光吸収層3としては、高いエネルギー変換効率が得られるものとして、Cu(In,Ga)Seからなる化合物半導体薄膜が用いられている。
Cu(In,Ga)Seの製法としては、蒸着法やスパッタ法など真空プロセスを用いる製法と、固相または液相原料を塗布または電着によって成膜する非真空プロセスを用いる製法とに大別される。
このうち、非真空プロセスの液相原料を塗布するCu(In,Ga)Seの製法としては、Cu、In、Ga、Seの個別の金属塩を有機溶媒に溶解して塗布・乾燥して熱処理する製法と、Cu、In、Ga、Seの元素を含んだ有機化合物もしくは錯体を溶液化して塗布・熱処理する製法がある。
前者の個別の金属塩を使用する製法は、各金属塩によって溶解度が異なるために、乾燥時に組成分離して析出しやすく、薄膜全体の組成が不均一になりやすいという問題がある。一方、有機化合物もしくは錯体を用いる製法では、理想的な有機化合物を作製することができれば、乾燥時に組成分離することがなく、理論的には、均一組成のCu(In,Ga)Se薄膜を形成することが可能である。
例えば、従来、単一源前駆体法(Single Source Precursor法)が知られており、この方法は、1つの有機化合物内にCuと、Seと、InもしくはGaとを存在させ、その有機化合物を有機溶媒に溶解させて塗布、熱処理することによって、Cu(In,Ga)Se薄膜を形成する製法である(特許文献1参照)。
この特許文献1の製法を具体的に説明すると、Cu(CHCN)・PFなどの金属塩とP(Cなどのルイス塩基とを反応させて{P(CCu(CHCN) のような形の錯イオンを作製し、この錯イオンとInまたはGaとSeとを含む錯イオンとを反応させることによって、CuとInまたはGaとSeとを含む単一前駆体を作製している。
米国特許第6992202号明細書
特許文献1の製法によれば、理想的な有機化合物を作製することができれば、理論的には、Cuと(In+Ga)との比が1対1の均一な光吸収層を形成することができるが、{P(CCu(CHCN) のような純粋な錯イオンを得ることは困難であり、その結果、目的とする単一前駆体の他に副生成物を生じてしまい、結果としてCu、In、Ga、Seの組成比が変動してしまうという問題があった。
すなわち、本発明者等によれば、特許文献1の製法では、{P(CCu(CHCN) のような純粋な錯イオンを得ることが困難であり、その量が少なく、{P(CCu(CHCN) の錯イオンが存在する溶液と、InまたはGaとSeとを含む錯イオンが存在する溶液とを混合しても、{P(CCu(CHCN) の錯イオンと反応するInまたはGaとSeとを含む錯イオンが少なくなり、CuとInまたはGaとSeとを含む沈殿物と、CuとSeとを含有する化合物の沈殿物を生じ、さらに、それ以外に、InまたはGaが上記沈殿物上方の溶液中に錯イオンとなって存在してしまうことがわかった。
従って、沈殿物上方の溶液を排出して、残った沈殿物を乾燥させ前駆体を作製する際に、溶液中のInまたはGaの錯イオンが排出され除去されてしまい、Cuと(In+Ga)とのモル比が1対1になるような仕込組成としても、InまたはGa量が少なくなり、特にGaがイオン化し易いためGa量が不足し、この前駆体を熱処理して作製された光吸収層では、Cuと(In+Ga)とのモル比が1対1の光吸収層が得られず、CuSeのような導電性の低い化合物が生成し、エネルギー変換効率が低くなるという問題があった。
また、一方で、理想的な有機化合物を作製することができたとしても、Cu/(In+Ga)のモル比が最小でも1のものしか得られず、Cu/(In+Ga)のモル比が1より小さい光吸収層は得られなかった。
Cu/(In+Ga)のモル比が1より小さい光吸収層Cu(In,Ga)Se薄膜が得られれば、導電率が低いp型層を形成可能であるため、エネルギー変換効率が大きくなることが知られており、従来から、Cu/(In+Ga)のモル比が1より小さいCu(In,Ga)Se薄膜が要求されていた。
本発明は、単一前駆体を用いて光吸収層の組成を制御できる薄膜太陽電池の製法を提供することを目的とする。
本発明者等は、例えば、CuとSeとInおよびGaとを含む単一前駆体が溶解した有機溶媒に、InSeおよびGaSe粉末を溶解した光吸収層溶液を用いることにより、Cu/(In+Ga)のモル比が1に近い組成の光吸収層が得られる単一前駆体が溶解した有機溶媒に、InSeおよびGaSe粉末を溶解するため、Cu/(In+Ga)のモル比を1よりも小さくできるとともに、InSeおよびGaSe粉末を溶解する量を制御することにより、Cu/(In+Ga)のモル比を任意に制御することができることを見いだし、本発明に至った。
すなわち、本発明の薄膜太陽電池の製法は、第1電極層と第2電極層との間に光吸収層を有する薄膜太陽電池の製法であって、1つの有機化合物内にCuとSおよびSeのうち少なくとも1種とInおよびGaのうち少なくとも1種とを含む単一前駆体が溶解した有機溶媒に、平均粒径が0.1μm以下であり、InおよびGaのうち少なくとも1種のセレン化物粉末または硫化物粉末を添加し溶解または混合した光吸収層溶液を、前記第1電極層上に塗布した後、熱処理することにより、CuとSおよびSeのうち少なくとも1種とInおよびGaのうち少なくとも1種とを含有する前記光吸収層を形成する光吸収層形成工程と、前記光吸収層上に前記第2電極層を形成する第2電極層形成工程とを具備することを特徴とする。
このような薄膜太陽電池の製法では、CuとSおよびSeのうち少なくとも1種とInおよびGaの少なくとも1種とを含む単一前駆体が溶解した有機溶媒を熱処理すると、Cu/(In+Ga)のモル比が1に近い組成の光吸収層が得られ、さらに、前記単一前駆体が溶解した有機溶媒に、InおよびGaのうち少なくとも1種のセレン化物粉末または硫化物粉末を溶解または混合した光吸収層溶液を用いて光吸収層を形成するため、Cu/(In+Ga)のモル比を1よりも小さくすることができるとともに、セレン化物粉末または硫化物粉末を前記有機溶媒に溶解または混合させる量を制御することにより、Cu/(In+Ga)のモル比を任意に制御することができ、光吸収層の組成を最適に制御できる。
これにより、導電率が低いp型層を形成することができ、CuSeのような導電性の低い化合物の生成を抑制し、エネルギー変換効率を向上することができる。
また、本発明の薄膜太陽電池の製法は、前記有機溶媒に、さらにCuのセレン化物粉末または硫化物粉末を添加し溶解または混合して、前記光吸収層溶液を作製することを特徴とする。
このような薄膜太陽電池の製法では、InおよびGaのうち少なくとも1種のセレン化物粉末または硫化物粉末に加えて、Cuのセレン化物粉末または硫化物粉末も、単一前駆体が溶解した有機溶媒に添加され溶解または混合されるため、Cu/(In+Ga)のモル比を1よりも小さくすることができるとともに、Cuのセレン化物粉末または硫化物粉末を溶解または混合する量を制御することにより、Cu/(In+Ga)のモル比を最適な値に制御することができる。
本発明の製法により作製された薄膜太陽電池は、一対の電極層間に光吸収層を有する薄膜太陽電池であり、例えば、図1に示したように、基板1上に裏面電極となる第1電極層2が形成され、この第1電極層2上に化合物半導体薄膜からなる光吸収層3が形成され、その光吸収層3上にバッファ層4を介して透明の第2電極層5が形成されている。
基板1としては、例えば、ソーダライムガラス基板、Mo、SUSなどの金属基板、ポリイミドなどの樹脂基板等を用いることができる。この基板1上には第1電極層2が形成され、この第1電極層2上に光吸収層3が形成されている。この光吸収層3上にバッファ層4を介して第2電極層5が形成され、光吸収層3は第1電極層2と第2電極層5により挟持されており、これにより、一対の第1、第2電極層2、5間に光吸収層3を有する薄膜太陽電池が構成されている。
尚、基板1、第1電極層2、光吸収層3、バッファ層4、第2電極層5を順次積層した例について説明したが、本発明では、一対の第1、第2電極層2、5間に光吸収層3を有する限り、上記層の間に種々の中間層を形成しても良い。また、本発明は基板1を有しないタイプ、言い換えれば、第1電極層2が基板として機能するタイプであっても良い。
化合物半導体からなる光吸収層3としては、高いエネルギー変換効率が得られるものとして、カルコパイライト構造からなる化合物半導体である、CuInSe、CuGaSe、Cu(In,Ga)Seが用いられている。
本発明の薄膜太陽電池の製法について説明する。先ず、例えば、ソーダライムガラスからなる基板1を準備する。この基板1に第1電極層2を形成する。この第1電極層2は、モリブデン(Mo)、タングステン(W)、クロム(Cr)、ポリシリコン(SiO)、メタルシリサイド、またはアルミニウム(Al)等のうちいずれかの電極材料を用いることが望ましい。第1電極層2は、蒸着法、スパッタリング法、塗布法などで形成することができる。
次に、第1電極層2上に光吸収層3を形成する。先ず、光吸収層3を形成するための光吸収層溶液を作製する。この光吸収層溶液は、Cu、In、GaおよびSeを含有する単一前駆体が溶解した溶液である。この単一前駆体は、後述する第1錯イオン溶液作製工程で得られた第1錯イオンと、第2錯イオン溶液作製工程で得られた第2錯イオンとを反応させて作製することができる。
(第1錯イオン溶液作製工程)
まず、P(Cなどのルイス塩基Lと、Cu(CHCN)・PFなどのCuの有機金属塩とをアセトニトリルなどの有機溶媒中で反応させて{P(CCu(CHCN) のような形の第1錯イオンが存在する第1錯イオン溶液を作製する(第1錯イオン溶液作製工程)。
ここで、Cuの有機金属塩としては、CuCl、CuCl、CuBr、CuIなどのハロゲン化物を用いても良く、ルイス塩基Lとしては、NもしくはAsを含んだもの、例えば、As(CやN(Cであっても良い。また、ルイス塩基LとCuの有機金属塩とを溶解する有機溶媒としては、アセトニトリルの他に、アセトン、メタノール、エタノール、イソプロパノールなどを用いることができる。
ここで、ルイス塩基LとCuの有機金属塩とを、モル比(Cu/L)が1/3以下となるように配合し、これらのルイス塩基LとCuの有機金属塩とを混合して、この混合物を有機溶媒中に溶解させることができる。これにより、作製する光吸収層のCu/(In+Ga)のモル比を1に近づけることができる。
すなわち、ルイス塩基LとCuの有機金属塩を有機溶媒中に溶解させ、Cuとルイス塩基Lとを含む第1錯イオンが存在する溶液を作製する際に、ルイス塩基LとCuの有機塩とを、モル比(Cu/L)が1/3以下となるように配合し、通常よりもルイス塩基Lを多く配合して有機溶媒中に溶解させることにより、CuとSeとの化合物のような副生成物の生成を抑制し、{P(CCu(CHCN) のような第1錯イオンを容易にかつ大量に作製することができ、これによりInまたはGaの錯イオン化を抑制し、Cuと、SまたはSeと、InまたはGaと、ルイス塩基Lとを含む錯イオンの生成を促進でき、単一前駆体中におけるCuと(In+Ga)の比を1:1に近づける組成制御を行うことができる。
(第2錯イオン溶液作製工程)
SまたはSeを含む有機化合物とInまたはGaのハロゲン化物とを含む第2錯イオンを作製する。
例えば、NaOCHと有機セレン化合物または有機イオウ化合物とが反応した有機化合物と、InClまたはGaClとをメタノールからなる溶媒中で反応させて、In{SeR} またはGa{SeR} のような形の第2錯イオンを形成する。ここで、Rはアクリル、アリル、アルキル、ビニル、パーフルオロ、カルバメートから選ばれる一種である。
有機セレン化合物としては、例えば、HSeCなどが、有機イオウ化合物としては、HSCなどが用いられる。また、メタノールの代わりに、エタノールやプロパノール等の溶媒を用いることができる。尚、第1錯イオンの作製と第2錯イオンの作製の順序はどちらが先でも構わない。
(単一前駆体作製工程)
次に、第1錯イオンと第2錯イオンとを反応させて、Cuと、SまたはSeと、InまたはGaと、ルイス塩基Lとを含む単一前駆体を作製する。すなわち、Cuを含む第1錯イオン溶液と、InまたはGaとSeとを含む第2錯イオン溶液とを混合して、第1錯イオンと第2錯イオンとを反応させることにより、CuとSまたはSeとInまたはGaとルイス塩基Lとを含む沈殿物と、この沈殿物の上方の溶液とに分離し、溶液部分を排出し、乾燥することにより、単一前駆体を作製できる。
第1錯イオンと第2錯イオンとを反応させる時の温度は0〜30℃が望ましく、反応時間は1〜5時間が望ましい。反応して沈殿した部分は、NaやClなどの不純物を取り除くために、遠心分離もしくは濾過などの手法を用いて洗浄することが望ましい。
(光吸収層形成工程)
本発明では、上記のようにして作製した単一前駆体を有機溶媒に溶解し、さらに、この単一前駆体が溶解した有機溶媒に、InおよびGaのうち少なくとも1種のセレン化物粉末または硫化物粉末を溶解または混合し光吸収層溶液を作製することが重要である。
単一前駆体が溶解した有機溶媒としては、トルエン、ピリジン、キシレン、アセトンなどを用いることができる。また、InおよびGaのうち少なくとも1種のセレン化物粉末または硫化物粉末は粉末状であり、InまたはGaのセレン化物粉末としては、InSe、GaSeがあり、また、InまたはGaの硫化物粉末としては、InS、GaSがある。これらの粉末を、単一前駆体が溶解した有機溶媒に溶解または混合する。これらの粉末は、平均粒径が0.1μm以下のものを用いる。いわゆるナノ粒子である。このようなナノ粒子を用いることにより、有機溶媒に溶解し易くなり、また一部溶解しないものがあっても、有機溶媒中に十分に分散し、光吸収層の組成の均一化を促進することができる。
尚、InおよびGaのうち少なくとも1種のセレン化物粉末または硫化物粉末の粉末は、上記したように、光吸収層の組成均一化という点から、有機溶媒中に溶解することが望ましいが、粉末状のまま有機溶媒中に混合し、分散している状態であっても、ある程度の光吸収層の組成均一化を図ることができる。
このようにして作製された光吸収層溶液を、第1電極層2上に塗布して乾燥した後、熱処理することにより、CuとSおよびSeのうち少なくとも1種とInおよびGaの少なくとも1種とを含有する光吸収層を形成する。
すなわち、上記単一前駆体をトルエン、ピリジン、キシレン、アセトンなどの有機溶媒に溶解し、この有機溶媒に、InSe、GaSe、InS、GaS粉末を添加し、溶解または混合することにより、光吸収層溶液を作製する。そして、この光吸収層溶液を、上記した基板1の第1電極2上に塗布し、乾燥した後、還元雰囲気で熱処理し、第1電極層2上に光吸収層3を形成することができる。この光吸収層3の厚みは、例えば、1.0〜2.5μmとされている。
CuとSおよびSeのうち少なくとも1種とInおよびGaのうち少なくとも1種とを含む単一前駆体が溶解した有機溶媒中に、InSe、GaSe、InS、GaS粉末を溶解または混合し、還元雰囲気中で熱処理することにより、カルコパイライト相となり、光吸収層中のCu/(In+Ga)のモル比を1よりも小さくすることができ、すなわち(In+Ga)リッチとできるとともに、InSe粉末等を溶解または混合させる量を制御することにより、Cu/(In+Ga)のモル比を任意に制御することができ、光吸収層の組成を最適に制御できる。
これにより、Cu/(In+Ga)比を1.0以下にし、CuSeのような導電性の低い化合物の生成を抑制し、エネルギー変換効率を向上することができる。
尚、InおよびGaのうち少なくとも1種のセレン化物粉末または硫化物粉末以外に、Cuのセレン化物粉末または硫化物粉末を、上記単一前駆体が溶解した有機溶媒中に溶解または混合することができる。これにより、Cu/(In+Ga)のモル比をさらに容易に制御できる。
第1電極層2上への光吸収層溶液の塗布は、スピンコータ、スクリーン印刷、ディッピング、スプレー、ダイコータなどを用いることが望ましい。乾燥は、還元雰囲気下で行うことが望ましい。乾燥時の温度は、例えば、50〜300℃で行う。
熱処理は、還元雰囲気下で行うことが望ましい。特には、窒素雰囲気、フォーミングガス雰囲気および水素雰囲気のうちいずれかであることが望ましい。熱処理時の還元雰囲気は、吸湿剤を通して水分除去した還元雰囲気であることが望ましい。吸収剤は、水を除去できるものであれば特に制限はないが、モレキュラーシーブ(商品名)などが好適に用いられる。熱処理温度は、例えば、400℃〜600℃とされている。
光吸収層3の形成後に、表面のCuSeなどからなる高抵抗層をKCN水溶液でエッチングし、除去することが望ましい。
(バッファ層、第2電極層形成工程)
この後、光吸収層3の上にヘテロ接合のためのn型のバッファ層4を形成する。バンドギャップが小さくて、短波長側の光を透過しにくい、CdS、ZnS、ZnSe、ZnMgO、ZnO、InS、InSe、In(OH)、ZnInSe、ZnInS、CuI、Mg(OH)などの材料が用いられる。これらは、浸漬塗布法、CBD法(溶液成長法)等により光吸収層まで形成した基板を水溶液に浸して微粒子を堆積させ、熱処理することにより作製することができる。
次に、バッファ層4上にITOまたはZnOからなる透明の第2電極層5を形成する。スパッタ、スプレー、コーティングにより、形成することができる。バッファ層4の厚みは、例えば、10〜200nmとされ、第2電極層5の厚みは、例えば、0.5〜3.0μmとされている。
本発明では、CuとSおよびSeのうち少なくとも1種とInおよびGaのうち少なくとも1種とを含む単一前駆体が溶解した有機溶媒に、InおよびGaのうち少なくとも1種のセレン化物粉末または硫化物粉末を溶解または混合した光吸収層溶液を用いて光吸収層を形成するため、Cu/(In+Ga)のモル比を1よりも小さくすることができるとともに、セレン化物粉末または硫化物粉末を溶解または混合させる量を制御することにより、Cu/(In+Ga)のモル比を任意に制御することができ、光吸収層の組成を最適に制御できる。これにより、CuSeのような導電性の低い化合物の生成を抑制し、エネルギー変換効率を向上することができる。
以下、実施例および比較例を挙げて本発明の薄膜太陽電池の製法を詳細に説明するが、本発明は以下の実施例のみに限定されるものではない。
銅の有機金属塩としてCu(CHCN)・PFを1mmol、ルイス塩基LとしてP(Cを10mmol、3mmol、および2mmolを、それぞれ10mlのアセトニトリルに溶解し、Cu(CHCN)・PF/P(Cのモル比(Cu/L)が、表1に示すように、1/10、1/3、1/2の溶液を準備した。これらの溶液が均一に溶解したのを確認した後、マグネチックスターラーにて室温で5時間攪拌させ、第1錯イオンを含有する第1錯イオン溶液を作製した(第1錯イオン溶液作製工程)。
一方、NaOCHを4mmol、HSeCを4mmolを30mlのメタノールに溶解させた後、InClおよび/またはGaClを合計1mmolになるように溶解させた。完全に溶解したのを確認した後、マグネチックスターラーにて室温で5時間攪拌させ、第2錯イオンを含有する第2錯イオン溶液を作製した(第2錯イオン溶液作製工程)。表1に、Cu、Se、In、Gaの仕込組成を記載した。
次に、第1錯イオン溶液に第2錯イオン溶液を1分間に10mlの速度で滴下した。これにより、滴下中に白い析出物が生成することが確認された。滴下終了後、マグネチックスターラーにて室温で1時間攪拌させたところ、析出物が沈殿していた。
この析出物のみを取り出すために、遠心分離機にて溶媒を分離し、メタノール50mlに分散させて遠心分離をかけるという操作を2回繰り返した。
析出物を真空中において室温で乾燥させて溶媒を取り除いて、単一前駆体を作製した。この光吸収層の組成分析を発光分光分析(ICP)で行い、表1中に記載した。
この単一前駆体にピリジンを添加して単一前駆体が全量中50質量%の溶液を作製したあと、この溶液に、平均粒径0.02μmの表1に示すようなInSe粉末、GaSe粉末、In3粉末、Ga粉末を、単一前駆体に対する表2に示すモル%だけ添加し、溶解し、光吸収層溶液を作製した。尚、試料No.7、8については、平均粒径0.1μmのInSe粉末を用いた。平均粒径は、粉末のSEM写真を画像処理して求めた。
この光吸収層溶液をドクターブレード法にて、ソーダライムガラス基板のMoからなる第1電極層上に薄膜形成した。薄膜は、グローブボックス内で、キャリアガスとして窒素ガスを用いて光吸収層溶液を塗布し、第1電極層への塗布を行った。塗布の後、ソーダライムガラス基板をホットプレートで110℃に加熱しながら、5分間乾燥させた。
薄膜形成後、水素ガス雰囲気下で熱処理を実施した。熱処理条件は、525℃まで5分間で急速昇温し、525℃で1時間保持することで行い、自然冷却し、厚み1.5μmの化合物半導体薄膜からなる光吸収層を作製した。
この光吸収層の組成分析を発光分光分析(ICP)で行い、表2中に記載した
この後、酢酸カドミウム、チオ尿素をアンモニアに溶解し、これに基板を浸漬し、化合物半導体薄膜上に厚み0.05μmのCdSからなるバッファ層を形成した。さらに、バッファ層の上に、スパッタリング法にてAlドープ酸化亜鉛膜(第2電極層)を形成した。最後に蒸着にてアルミ電極(取出電極)を形成して、薄膜太陽電池セルを作製した。
Figure 0005317648
Figure 0005317648
表1、2から、単一前駆体が溶解した有機溶媒に、InSe粉末、GaSe粉末、In3粉末、Ga粉末を添加し溶解または混合した光吸収層溶液を用いて光吸収層を形成するため、Cu/(In+Ga)のモル比を1よりも小さくすることができるとともに、InSe粉末、GaSe粉末、In3粉末、Ga粉末を添加する量を制御することにより、光吸収層のCu/(In+Ga)のモル比を任意に制御することができることがわかる。
また、第1錯イオン作製工程で、Cu(CHCN)・PF/P(Cのモル比(Cu/L)が1/3以下の場合には、仕込組成に近い組成の単一前駆体が得られており、熱処理後においても、Cu(In,Ga)Seの生成を促進することができ、エネルギー変換効率を向上できることがわかる。
薄膜太陽電池の一例を示す断面図である。
符号の説明
1・・・基板
2・・・第1電極層
3・・・光吸収層
4・・・バッファ層
5・・・第2電極層

Claims (2)

  1. 第1電極層と第2電極層との間に光吸収層を有する薄膜太陽電池の製法であって、1つの有機化合物内にCuとSおよびSeのうち少なくとも1種とInおよびGaのうち少なくとも1種とを含む単一前駆体が溶解した有機溶媒に、平均粒径が0.1μm以下であり、InおよびGaのうち少なくとも1種のセレン化物粉末または硫化物粉末を添加し溶解または混合した光吸収層溶液を、前記第1電極層上に塗布した後、熱処理することにより、CuとSおよびSeのうち少なくとも1種とInおよびGaのうち少なくとも1種とを含有する前記光吸収層を形成する光吸収層形成工程と、前記光吸収層上に前記第2電極層を形成する第2電極層形成工程とを具備することを特徴とする薄膜太陽電池の製法。
  2. 前記有機溶媒に、さらにCuのセレン化物粉末または硫化物粉末を添加し溶解または混合して、前記光吸収層溶液を作製することを特徴とする請求項1に記載の薄膜太陽電池の製法。
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