JP5301211B2 - 亜酸化チタンの製造方法 - Google Patents
亜酸化チタンの製造方法 Download PDFInfo
- Publication number
- JP5301211B2 JP5301211B2 JP2008189380A JP2008189380A JP5301211B2 JP 5301211 B2 JP5301211 B2 JP 5301211B2 JP 2008189380 A JP2008189380 A JP 2008189380A JP 2008189380 A JP2008189380 A JP 2008189380A JP 5301211 B2 JP5301211 B2 JP 5301211B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- titanium
- powder
- titanium dioxide
- suboxide
- metal
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Active
Links
- 239000010936 titanium Substances 0.000 title claims abstract description 52
- RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N Titanium Chemical compound [Ti] RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N 0.000 title claims abstract description 49
- 229910052719 titanium Inorganic materials 0.000 title claims abstract description 36
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims abstract description 14
- GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N Titan oxide Chemical compound O=[Ti]=O GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 83
- 239000000843 powder Substances 0.000 claims abstract description 64
- 239000004408 titanium dioxide Substances 0.000 claims abstract description 40
- -1 titanium hydride Chemical compound 0.000 claims abstract description 30
- 229910000048 titanium hydride Inorganic materials 0.000 claims abstract description 30
- 238000002844 melting Methods 0.000 claims abstract description 26
- 230000008018 melting Effects 0.000 claims abstract description 26
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 claims abstract description 23
- 239000002184 metal Substances 0.000 claims abstract description 23
- 238000000465 moulding Methods 0.000 claims abstract description 4
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 19
- 239000011812 mixed powder Substances 0.000 claims description 17
- 238000002156 mixing Methods 0.000 claims description 6
- 239000000203 mixture Substances 0.000 abstract description 14
- 238000007740 vapor deposition Methods 0.000 abstract description 14
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 abstract description 8
- 239000002994 raw material Substances 0.000 description 11
- 238000010894 electron beam technology Methods 0.000 description 8
- 239000000463 material Substances 0.000 description 8
- XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N Argon Chemical compound [Ar] XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 6
- 239000011261 inert gas Substances 0.000 description 6
- 238000006356 dehydrogenation reaction Methods 0.000 description 5
- 239000008188 pellet Substances 0.000 description 5
- 238000010009 beating Methods 0.000 description 4
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 4
- 239000006166 lysate Substances 0.000 description 4
- 238000000634 powder X-ray diffraction Methods 0.000 description 4
- 230000000007 visual effect Effects 0.000 description 4
- 229910052786 argon Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000000155 melt Substances 0.000 description 3
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 3
- 150000003608 titanium Chemical class 0.000 description 3
- QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N Sulfuric acid Chemical compound OS(O)(=O)=O QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000004090 dissolution Methods 0.000 description 2
- 239000010408 film Substances 0.000 description 2
- 239000010409 thin film Substances 0.000 description 2
- ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N Chlorine atom Chemical compound [Cl] ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000010521 absorption reaction Methods 0.000 description 1
- 239000011230 binding agent Substances 0.000 description 1
- 239000000460 chlorine Substances 0.000 description 1
- 229910052801 chlorine Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 1
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 1
- 239000003086 colorant Substances 0.000 description 1
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 1
- 239000011231 conductive filler Substances 0.000 description 1
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010949 copper Substances 0.000 description 1
- 239000013078 crystal Substances 0.000 description 1
- 238000000151 deposition Methods 0.000 description 1
- 230000008021 deposition Effects 0.000 description 1
- 230000006866 deterioration Effects 0.000 description 1
- 239000001307 helium Substances 0.000 description 1
- 229910052734 helium Inorganic materials 0.000 description 1
- SWQJXJOGLNCZEY-UHFFFAOYSA-N helium atom Chemical compound [He] SWQJXJOGLNCZEY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000012535 impurity Substances 0.000 description 1
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 1
- 230000005693 optoelectronics Effects 0.000 description 1
- 230000003647 oxidation Effects 0.000 description 1
- 238000007254 oxidation reaction Methods 0.000 description 1
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 1
- 239000000049 pigment Substances 0.000 description 1
- 238000006722 reduction reaction Methods 0.000 description 1
- 238000013341 scale-up Methods 0.000 description 1
- OGIDPMRJRNCKJF-UHFFFAOYSA-N titanium oxide Inorganic materials [Ti]=O OGIDPMRJRNCKJF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000001771 vacuum deposition Methods 0.000 description 1
Landscapes
- Inorganic Compounds Of Heavy Metals (AREA)
- Physical Vapour Deposition (AREA)
Description
特許第2939359号公報(特許文献1)の請求項には、二酸化チタンと、金属チタン粉末および/または水素化チタン粉末とを、重量比で8〜9:1の割合で混合して得られる混合物をペレット状に成形し、大気圧より加圧状態の不活性ガス雰囲気下で非消耗アーク溶解法によって溶解することを特徴とするTi3O5の製造方法が記載されている。
特許第3186788号公報(特許文献2)の請求項には、二酸化チタンと、金属チタン粉末および/または水素化チタン粉末とを、重量比で8〜9:1の割合で混合することによって得られる粉末状混合物を、大気圧より加圧状態の不活性ガス雰囲気下で非消耗アーク溶解法によって溶解すること特徴とするTi3O5の組成を有する亜酸化チタンの製造方法が記載されている。
特許第3186793号公報(特許文献3)の請求項には、二酸化チタンと水素化チタン粉末との混合粉末を、真空雰囲気下において加熱することにより脱水素処理を施し、次いで大気圧より加圧状態の不活性ガス雰囲気下で溶解すること特徴とする亜酸化チタンの製造方法が記載されている。
特許第3069403号公報(特許文献4)の請求項には、二酸化チタンと、水素化チタン粉末との混合物をペレット状に成形した後、該ペレットを真空雰囲気下において加熱することにより脱水素処理を施し、次いで不活性ガス雰囲気下で溶解すること特徴とする亜酸化チタンの製造方法が記載されている。
水素化チタン粉末と二酸化チタン粉末とを1:9の重量比で配合し、ボ−ルミルを用いて12時間乾式混合して混合粉末とした。この混合粉末320gを金型により成形した。このとき、成形体の大きさの目標を、100mm×60mm×35mm(高さ)とし、成形体を4個作製した。4個の成形体の高さを測定したところ、4個の成形体中、最高値が35mm、最低値が34mmであり、高さのバラツキは1mmであった。
ついで、この成形体4個を耐熱ルツボに入れて電気炉に移し、炉内を133.3Pa以下の真空に保持しながら700℃の温度で1時間加熱することにより脱水素処理を施し、そのまま炉冷した。
その後、該成形体4個を非消耗アーク炉の銅製の水冷ハースに充填し、炉内をアルゴンガスで完全に置換した後、アルゴンガスによって大気圧より若干加圧状態で保持しつつ、電流200A、電圧25Vを印加して、アークを成形体の一端から他端へ向かって移動しながら溶解した。この操作を再度繰り返した後、炉内の雰囲気をそのまま保持して炉冷し、溶解物を得た。
得られた溶解物を目視にて、均一に溶解しているか確認を行った。その結果、得られた溶解物は赤紫色を呈しており、均一に溶解していることが確認された。また、得られた溶解物を解砕し、その化合物組成を粉末X線回折法で測定した結果、Ti3O5であることが確認された。
この亜酸化チタンを電子ビーム(EB)溶解炉で溶解し、真空下でスプラッシュの状況を観察したところ、スプラッシュ現象は認められなかった。
水素化チタン粉末に代えて、金属チタン粉末とすること以外は、実施例1と同様に行い、溶解物を得た。なお、4個の成形体の高さを測定したところ、最高値が35mm、最低値が34mmであり、高さのバラツキは1mmであった。
得られた溶解物を目視にて、均一に溶解しているか確認を行った。その結果、得られた溶解物は赤紫色を呈しており、均一に溶解していることが確認された。また、得られた溶解物を解砕し、その化合物組成を粉末X線回折法で測定した結果、Ti3O5であることが確認された。
この亜酸化チタンをEB溶解炉で溶解し、真空下でスプラッシュの状況を観察したところ、スプラッシュ現象は認められなかった。
水素化チタン粉末と二酸化チタン粉末とを1:9の重量比で配合し、ボ−ルミルを用いて12時間乾式混合して混合粉末とした。この混合粉末320gを金型により成形した。このとき、成形体の大きさの目標を、100mm×60mm×35mm(高さ)とし、成形体を4個作製した。4個の成形体の高さを測定したところ、最高値が35mm、最低値が33mmであり、高さのバラツキは2mmであった。
以降の操作を、上記で得た4個の成形体を用いる以外は、実施例1と同様に行い、溶解物を得た。
得られた溶解物を目視にて、均一に溶解しているか確認を行った。その結果、得られた溶解物は赤紫色を呈しており、均一に溶解していることが確認された。また、得られた溶解物を解砕し、その化合物組成を粉末X線回折法で測定した結果、Ti3O5であることが確認された。
この亜酸化チタンをEB溶解炉で溶解し、真空下でスプラッシュの状況を観察したところ、スプラッシュ現象は認められなかった。
水素化チタン粉末と二酸化チタン粉末とを1:9の重量比で配合し、ボ−ルミルを用いて12時間乾式混合して混合粉末とした。この混合粉末320gを金型により成形した。このとき、成形体の大きさの目標を、100mm×60mm×35mm(高さ)とし、成形体を4個作製した。4個の成形体の高さを測定したところ、最高値が40mm、最低値が35mmであり、高さのバラツキは5mmであった。
以降の操作を、上記で得た4個の成形体を用いる以外は、実施例1と同様に行い、溶解物を得た。
得られた溶解物を目視にて、均一に溶解しているか確認を行った。その結果、得られた溶解物は、赤紫色以外に、ところどころ光沢のない黒色物が発生しており、均一に溶解していないことが確認された。また、得られた溶解物を解砕し、その化合物組成を粉末X線回折法で測定した結果、Ti3O5相以外にTi2O5相、Ti4O7相が確認された。
Claims (2)
- 二酸化チタン粉末と金属チタン粉末、または二酸化チタン粉末と水素化チタン粉末、または二酸化チタン粉末と金属チタン粉末と水素化チタン粉末の混合粉末を成形した後、作製した1個又は複数の成形体を不活性雰囲気下または真空雰囲気下で溶解する方法において、該成形体の高さが20〜100mmであり、該成形体の合計底面積が5000mm 2 以上であり、該成形体の高さのバラツキを4mm以下とすることを特徴とする亜酸化チタンの製造方法。
- 金属チタン粉末および水素化チタン粉末の合計と、二酸化チタン粉末との配合割合が、重量比で1:8〜1:9であり、亜酸化チタンがTi3O5であることを特徴とする請求項1に記載の亜酸化チタンの製造方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2008189380A JP5301211B2 (ja) | 2008-07-23 | 2008-07-23 | 亜酸化チタンの製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2008189380A JP5301211B2 (ja) | 2008-07-23 | 2008-07-23 | 亜酸化チタンの製造方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2010024111A JP2010024111A (ja) | 2010-02-04 |
JP5301211B2 true JP5301211B2 (ja) | 2013-09-25 |
Family
ID=41730267
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2008189380A Active JP5301211B2 (ja) | 2008-07-23 | 2008-07-23 | 亜酸化チタンの製造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP5301211B2 (ja) |
Families Citing this family (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP5736664B2 (ja) * | 2010-04-30 | 2015-06-17 | 国立大学法人 東京大学 | 酸化チタン粒子、その製造方法、磁気メモリ、光情報記録媒体及び電荷蓄積型メモリ |
JP5733736B2 (ja) * | 2010-05-21 | 2015-06-10 | 国立大学法人 東京大学 | 酸化チタン粒子の製造方法 |
JP6076105B2 (ja) * | 2013-01-28 | 2017-02-08 | 株式会社日清製粉グループ本社 | 不定比酸化物粒子の製造方法 |
WO2021014706A1 (ja) * | 2019-07-23 | 2021-01-28 | パナソニックIpマネジメント株式会社 | 薄膜の製造方法及び積層体 |
WO2022158390A1 (ja) * | 2021-01-25 | 2022-07-28 | デンカ株式会社 | 特定の低次酸化チタンの結晶組成を有する粒子及びその製造方法、並びに分散体 |
Family Cites Families (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH04317413A (ja) * | 1991-04-16 | 1992-11-09 | Toho Titanium Co Ltd | 亜酸化チタンの製造方法 |
JP2939359B2 (ja) * | 1991-04-26 | 1999-08-25 | 東邦チタニウム株式会社 | 亜酸化チタンの製造方法 |
JP3069403B2 (ja) * | 1991-06-27 | 2000-07-24 | 東邦チタニウム株式会社 | 亜酸化チタンの製造方法 |
DE19607833A1 (de) * | 1996-03-01 | 1997-09-04 | Merck Patent Gmbh | Stabilisierte Aufdampfmaterialien auf Basis von Titanoxid |
-
2008
- 2008-07-23 JP JP2008189380A patent/JP5301211B2/ja active Active
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2010024111A (ja) | 2010-02-04 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP5301211B2 (ja) | 亜酸化チタンの製造方法 | |
TWI445827B (zh) | A powder containing sintered elements containing Cu, In, Ga and Se, a sintered body and a sputtering target, and a method for producing the powder | |
TWI471442B (zh) | Cu-Ga alloy powder, Cu-Ga alloy powder, and Cu-Ga alloy sputtering target manufacturing method and Cu-Ga alloy sputtering target | |
JPWO2016072441A1 (ja) | Itoスパッタリングターゲット及びその製造方法並びにito透明導電膜及びito透明導電膜の製造方法 | |
JP5296619B2 (ja) | 亜酸化チタンの製造方法 | |
TWI387661B (zh) | Manufacturing method of nickel alloy target | |
KR101469873B1 (ko) | 초고순도, 초미세 루테늄 합금 분말 제조방법 | |
JP6784746B2 (ja) | 金属製容器又は管、スポンジチタンの製造方法、及び、チタン加工品又は鋳造品の製造方法 | |
JP3069403B2 (ja) | 亜酸化チタンの製造方法 | |
JP2008013396A (ja) | 複合金属酸化物及び導電性複合金属酸化物の製造方法 | |
JP3186793B2 (ja) | 亜酸化チタンの製造方法 | |
US20240262753A1 (en) | Max phases by reactive flash sintering and a method for ultrafast synthesis thereof | |
WO2016017605A1 (ja) | 酸化物焼結体 | |
JP3186788B2 (ja) | 亜酸化チタンの製造方法 | |
JP2939359B2 (ja) | 亜酸化チタンの製造方法 | |
WO2016056352A1 (ja) | ニオブ酸化物焼結体及び該焼結体からなるスパッタリングターゲット並びにニオブ酸化物焼結体の製造方法 | |
JPH04224113A (ja) | 蒸着用酸化チタンの製造方法 | |
JPH04349121A (ja) | 亜酸化チタンの製造方法 | |
TW200946692A (en) | Sb-te alloy powder for sintering, process for production of the powder, and sintered target | |
JPH04317413A (ja) | 亜酸化チタンの製造方法 | |
JP4269830B2 (ja) | 蒸着材料 | |
JP5426137B2 (ja) | 酸化タンタル蒸着材、その製造方法、および酸化タンタル蒸着膜の製造方法 | |
JP5284822B2 (ja) | 酸化タンタル蒸着材、その製造方法、および酸化タンタル蒸着膜の製造方法 | |
WO2021171748A1 (ja) | スパッタリングターゲット | |
JP5426136B2 (ja) | 酸化タンタル蒸着材、その製造方法、および酸化タンタル蒸着膜の製造方法 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20110707 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20120829 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20130215 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20130220 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20130417 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20130529 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20130619 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 5301211 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |