JP5295218B2 - Ru錯体を用いたソルボールの1,4−水素添加 - Google Patents
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Description
本発明は触媒性水素添加の分野に関し、且つ、より具体的には、シクロペンタジエニル誘導体を1つの配位子として有する特定のRu錯体を、ソルボールを主な生成物としての相応するZ−アルケンへと還元するための1,4−水素添加反応において用いる使用に関する。
共役ジエンの、それらのZ−アルケンへの選択的な1,4−水素添加は、有機化学において非常に興味深い反応である。なぜなら、それは一般に乏しい選択性で得られた多くの化合物に利用可能性を付与するからである。
上述の問題を克服するために、本発明は、H2分子を使用した、ソルボール(I)の1,4−水素添加による、相応するZ−アルケン(II)(即ち、Z−ヘキサ−3−エン−オール)への触媒還元のための方法において、前記の方法を以下で特定される型の少なくとも1つの酸性添加剤の存在下で実施し、該触媒あるいは前触媒は配位子としてシクロペンタジエニル誘導体を含むルテニウム錯体であることを特徴とする方法に関する。
の相応するZアルケンへと触媒還元するための方法において、前記の方法を、
・ 少なくとも1つの化学式:
[Ru(C5Me5)(COD)(L’)n]X (III)
[式中、
C5Me5はペンタメチル−シクロペンタジエニルを表し、CODはシクロオクタジエン配位子を表し、且つ、Xは配位していないアニオンを表し、nは2、1または0を表し、且つL’は溶剤を表す]
のルテニウム触媒または前触媒
;および
・ 化合物(III)に対して好ましくは約0.1、あるいは0.2〜100モル当量の総量の、以下で説明される型の少なくとも1つの酸性添加剤
の存在下で実施することを特徴とする方法である。
・ 化学式R3 (3-x)MO(OH)xの化合物、ここで前記R3はR4あるいはR4O基であり、ここで前記R4はC1〜C10−基であり、MはPあるいはAsであり、且つxは1または2である;および
・ 化学式R3B(OH)2のホウ素誘導体、ここで前記R3は上の定義と同じである;および
・ フェノール、あるいは3つまでのC1〜C4−アルキル基、アルコキシ基またはカルボキシル基、ニトロ基またはハロゲン原子によって置換されたフェノール;および
・ 無アミノC1〜C12−モノカルボン酸;および
・ HOOCCH=CHCOOH二酸、およびテトロン酸。
・ 化学式R5COOHのカルボン酸、ここで前記R5は、
ハロゲン化または過ハロゲン化C1〜C8−炭化水素基;
R6CH(OR6)基、ここで前記R6は水素原子またはC1〜C6−炭化水素基である;
1つあるいは2つのエーテルまたはエステル基によって随意に置換された、C1〜C12−炭化水素基
を表し、ここで前記の随意の置換基は1つ、2つまたは3つのC1〜C4−アルキル基、アルコキシ基またはカルボキシル基、あるいはニトロ基またはハロゲン原子による置換基である。
・ 化学式R3 2MO(OH)またはR3MO(OH)2の化合物、ここで前記R3はC1〜C6−アルキルまたはアルコキシル基、あるいはC1〜C8−フェニルまたはフェノキシル、且つMはPまたはAsである;および
・ マレイン酸またはグリコール酸、およびハロゲン化または過ハロゲン化C1〜C7−モノカルボン酸。
本発明を以下の実施例を用いてさらに詳細に説明する。ここで温度は摂氏で示され、且つ略記は当該技術分野での通常の意味を有する。
本発明による水素添加反応
典型的な水素添加反応方法
本発明による、2,4−ヘキサンジエノール、溶剤、[Ru(C5Me5)(COD)]Xおよび酸性添加剤を、不活性雰囲気下でまとめてオートクレーブに装入し、そして該混合物を室温で窒素を用いて(2bar、3回)、その後水素を用いて(2bar、3回)攪拌しながらパージした。該オートクレーブをその後、所望の水素圧力に加圧し、且つ所望の温度で加熱した。該反応の後、水素吸着をモニター、および/またはGC分析サンプリングを行った。該ルテニウム触媒は残滓における蒸留によって容易に除去され、且つ生成物の異性体混合物は通常、90モル%より高い収率で回収された。
Claims (8)
- H2分子を使用した、化学式:
の相応するZアルケンへと触媒還元するための方法において、前記の方法が、
・ 少なくとも1つの化学式:
[Ru(C5Me5)(COD)(L’)n]X (III)
[式中、
C5Me5はペンタメチル−シクロペンタジエニルを表し、CODはシクロオクタジエン配位子を表し、且つ、Xは配位していないアニオンを表し、nは2、1または0を表し、且つL’は溶剤を表す]
のルテニウム触媒または前触媒;および
・ 以下からなる群から選択される少なくとも1つの酸性添加剤:
化学式R3 (3-x)MO(OH)xの化合物、ここで前記R3はR4あるいはR4O基であり、ここで前記R4はC 1 〜C 8 −アルキル基またはC 1 〜C 8 −フェニル基であり、MはPあるいはAsであり、且つxは1または2である;および
化学式R3B(OH)2のホウ素誘導体、ここで前記R3は上の定義と同じである;および
フェノール、あるいは3つまでのC1〜C4−アルキル基、アルコキシ基またはカルボキシル基、ニトロ基またはハロゲン原子によって置換されたフェノール;および
無アミノC1〜C12−モノカルボン酸;および
HOOCCH=CHCOOH二酸、およびテトロン酸
の存在下で実施されることを特徴とする方法。 - 請求項1に記載の方法において、CODがシクロオクタ−1,5−ジエン、シクロオクタ−1,4−ジエン、シクロオクタ−1,3−ジエンであることを特徴とする方法。
- 請求項1に記載の方法において、XがClO4 -、R1SO3 -であり、ここで前記R1は塩素あるいはフッ素原子、あるいはC1〜C8−フルオロアルキルまたはフルオロアリール基、BF4 -、PF6 -、SbCl6 -、SbF6 -またはBR2 4 -であり、ここで前記R2は1つから5つの基としてのハライドの原子またはメチル基またはCF3基によって随意に置換されたフェニル基であることを特徴とする方法。
- 請求項1に記載の方法において、モノカルボン酸が、
・ 化学式R5COOHのカルボン酸
[式中、R5が、
ハロゲン化または過ハロゲン化C1〜C8−炭化水素基;
R6CH(OR6)基、ここで前記R6は水素原子またはC1〜C6−炭化水素基である;
1つあるいは2つのエーテルまたはエステル基によって随意に置換された、C1〜C12−炭化水素基
を表し、ここで前記の随意の置換基は1つ、2つまたは3つのC1〜C4−アルキル基、アルコキシ基またはカルボキシル基、あるいはニトロ基またはハロゲン原子による置換基である]
からなる群から選択されることを特徴とする方法。 - 請求項1に記載の方法において、酸性添加剤が、
・ 化学式R3 2MO(OH)またはR3MO(OH)2の化合物、ここで前記R3はC1〜C6−アルキルまたはアルコキシル基、あるいはC1〜C8−フェニルまたはフェノキシル、且つMはPまたはAsである;および
・ マレイン酸またはグリコール酸、およびハロゲン化または過ハロゲン化C1〜C7−モノカルボン酸
からなる群から選択されることを特徴とする方法。 - 請求項1に記載の方法において、酸が:
(BuO)2PO(OH)、(tBuO)2PO(OH)、(PhO)2PO(OH)、(PhCH2O)2PO(OH)、tBuPO(OH)2、Ph2PO(OH)、PhPO(OH)2、PhAsO(OH)2、(Me)2AsO(OH)、CF3COOH、HCF2COOH、マレイン酸またはフマル酸、グリコール酸、ピルビン酸、ソルビン酸、酢酸またはオレイン酸、テトロン酸、C6H13B(OH)2、PhB(OH)2、p−OMe−安息香酸、安息香酸あるいはp−(COOMe)−安息香酸、フェノール、3,5−ジメトキシ−フェノールあるいは2−メトキシ−フェノールであることを特徴とする方法。 - 請求項1に記載の方法において、C1〜C12−アルキルケトン、エステル、エーテルあるいは塩素化アルカンおよびそれらの混合物の中から選択される溶剤の存在下で実施することを特徴とする方法。
- 請求項1に記載の方法において、酸の総量が化合物(III)に対して0.1〜100モル当量であることを特徴とする方法。
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