JP5293145B2 - 半導体装置 - Google Patents
半導体装置 Download PDFInfo
- Publication number
- JP5293145B2 JP5293145B2 JP2008320849A JP2008320849A JP5293145B2 JP 5293145 B2 JP5293145 B2 JP 5293145B2 JP 2008320849 A JP2008320849 A JP 2008320849A JP 2008320849 A JP2008320849 A JP 2008320849A JP 5293145 B2 JP5293145 B2 JP 5293145B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- substrate
- sensor
- etching
- weight
- physical quantity
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Fee Related
Links
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 title claims abstract description 72
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims abstract description 205
- 238000005530 etching Methods 0.000 claims abstract description 90
- 230000008021 deposition Effects 0.000 claims abstract description 17
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical group [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 122
- 238000000034 method Methods 0.000 abstract description 49
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 abstract description 29
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 106
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 106
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 39
- 238000001514 detection method Methods 0.000 description 39
- 239000000463 material Substances 0.000 description 21
- 238000000708 deep reactive-ion etching Methods 0.000 description 19
- 238000000151 deposition Methods 0.000 description 16
- 230000001133 acceleration Effects 0.000 description 11
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 11
- 230000003628 erosive effect Effects 0.000 description 10
- 238000012545 processing Methods 0.000 description 10
- 238000006073 displacement reaction Methods 0.000 description 8
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 8
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 8
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 7
- 230000008569 process Effects 0.000 description 7
- 230000002950 deficient Effects 0.000 description 6
- 238000000635 electron micrograph Methods 0.000 description 6
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 230000000149 penetrating effect Effects 0.000 description 5
- 229910052814 silicon oxide Inorganic materials 0.000 description 5
- 238000004544 sputter deposition Methods 0.000 description 5
- 239000004020 conductor Substances 0.000 description 4
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 4
- 239000007769 metal material Substances 0.000 description 4
- 230000035945 sensitivity Effects 0.000 description 4
- WGTYBPLFGIVFAS-UHFFFAOYSA-M tetramethylammonium hydroxide Chemical compound [OH-].C[N+](C)(C)C WGTYBPLFGIVFAS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 4
- 238000007740 vapor deposition Methods 0.000 description 4
- 239000000470 constituent Substances 0.000 description 3
- 238000007429 general method Methods 0.000 description 3
- 150000002500 ions Chemical class 0.000 description 3
- 238000005304 joining Methods 0.000 description 3
- KRHYYFGTRYWZRS-UHFFFAOYSA-N Fluorane Chemical compound F KRHYYFGTRYWZRS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000009471 action Effects 0.000 description 2
- 230000008859 change Effects 0.000 description 2
- 230000007547 defect Effects 0.000 description 2
- 238000005137 deposition process Methods 0.000 description 2
- 239000012535 impurity Substances 0.000 description 2
- 238000010030 laminating Methods 0.000 description 2
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 description 2
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 2
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 2
- 238000005488 sandblasting Methods 0.000 description 2
- RZVAJINKPMORJF-UHFFFAOYSA-N Acetaminophen Chemical compound CC(=O)NC1=CC=C(O)C=C1 RZVAJINKPMORJF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N Fluorine atom Chemical compound [F] YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910017855 NH 4 F Inorganic materials 0.000 description 1
- 241000237509 Patinopecten sp. Species 0.000 description 1
- 229910052581 Si3N4 Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 description 1
- 238000005452 bending Methods 0.000 description 1
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 description 1
- 230000008878 coupling Effects 0.000 description 1
- 238000010168 coupling process Methods 0.000 description 1
- 238000005859 coupling reaction Methods 0.000 description 1
- 230000000593 degrading effect Effects 0.000 description 1
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 1
- 229910052731 fluorine Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011737 fluorine Substances 0.000 description 1
- 239000012212 insulator Substances 0.000 description 1
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 1
- 229910021420 polycrystalline silicon Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 description 1
- 239000005297 pyrex Substances 0.000 description 1
- 230000009467 reduction Effects 0.000 description 1
- 238000011160 research Methods 0.000 description 1
- 235000020637 scallop Nutrition 0.000 description 1
- HQVNEWCFYHHQES-UHFFFAOYSA-N silicon nitride Chemical compound N12[Si]34N5[Si]62N3[Si]51N64 HQVNEWCFYHHQES-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000001039 wet etching Methods 0.000 description 1
Landscapes
- Gyroscopes (AREA)
- Pressure Sensors (AREA)
Description
ここで、シリコン残渣の発生を理解し易くするために、一般的な物理量センサの製造方法について、簡単に説明する。図11は、一般的な物理量センサの製造方法を示す図である。図11(A)に示すように、まず、活性層(シリコン膜。以下シリコン膜と記す。)110、BOX層(接合部)120、支持層(シリコン基板。以下、シリコン基板と記す。)130の三層を積層した半導体基板Wを用意する。
本発明の一実施の形態に係る物理量センサ100について説明する。図1は物理量センサ100を分解した状態を示す分解斜視図である。図1では物理量センサ100の面内に直交する2軸(X軸とY軸)を設定し、この2軸に垂直な方向をZ軸と定めている。物理量センサ100は、半導体基板Wを、その上下に位置する第1基板140と第2基板150とで挟んで構成されている。半導体基板Wは、シリコン膜110、BOX層120、シリコン基板130が順に積層して構成される。半導体基板Wは後述するような製造工程により、半導体基板Wの内側を刳り貫いたような開口を有する枠状のフレーム(フレーム部111とフレーム部131とを含む)と、このフレーム内に可撓性を有する可撓部113(113a〜113d)により変位可能に支持される錘部(錘接合部112と錘部132とを含む)とが、一体的に構成され、物理量を検出するセンサ部を形成している。さらにフレームに半導体基板Wの上下を貫通して導通が確保された導通部(160〜162)を有する(図面の見易さのため、ここでは図示せず)。
次に、物理量センサ100の配線及び電極について説明する。本実施の形態に係る物理量センサ100には、10組の容量素子が形成される。
上述したように、この物理量センサ100では、錘接合部112と錘部132(132a〜132e)が一体形成された錘部が、フレーム部111から延びる可撓性を有する可撓部113により支持され、第1基板140、第2基板150、半導体基板Wにより囲まれた空間内で変位できるように構成されている。
以上のような構造を有し、又上述のように動作する本実施の形態に係る物理量センサ100は、図2に示すように錘部132の変位を可能とするための凹部であるセンサギャップ形成領域200を、貫通孔である溝部を取り囲むように形成する。言い換えれば、センサギャップ200の端部は、垂直方向で溝部を内包するように設定される。但しこれに限定されるわけではなく、センサギャップ形成領域200を図6に示すように設定しても良い。図6は、本発明の一実施の形態に係る物理量センサ100のセンサギャップ形成領域200の一例を示す平面図である。図2の例と異なり、センサギャップ形成領域200を可撓部113において内側に入りこむように(即ち、センサギャップ形成領域200を極力狭くするように)形成する。これによって、のちに接合する第1基板40、第2基板150との接合面積(これを、「接合しろ」という)を大きく確保することができ、半導体基板Wと第1基板140、第2基板150との固定を強固にすることができる。いづれにしても、センサギャップ200の端部は、垂直方向で溝部を内包するように設定される。これを図7、図8及び図16を用いて説明する。図7は、センサギャップ形成領域200のレイアウトを示す図であり、図7(A)は従来のレイアウトを示し、図7(B)は本発明の一実施の形態に係る物理量センサのセンサギャップ形成領域200のレイアウトを示す。図8は、本発明の一実施の形態に係る物理量センサ100のレイアウト及び断面図である。図16は、従来のセンサギャップ形成領域200のレイアウト及び該レイアウトによって形成した物理量センサの断面図である。図7において、貫通孔の形成領域を灰色の色つきで示し、センサギャップ形成領域200を2点鎖線で囲込んで表示している。また、図8及び図16においては、図の見易さのために半導体基板Wについて、シリコン膜110、BOX層120、シリコン基板130を区分せずに示している。
以下、物理量センサ100の製造方法について説明するが、本実施の形態に係る物理量センサ100の製造工程は、センサギャップ200を形成するマスクパターンが大きく異なる以外は、一般的な物理量センサの製造工程と同様である。図1乃至図7及び図9(A)〜(G)までを参照しながら説明する。図9は、本発明の一実施の形態に係る物理量センサ100の製造方法を示す図である。なお、上述したように、本実施の形態に係る物理量センサ100は、第1基板140と錘接合部112との隙間を確保する必要があるが、この隙間を形成するセンサギャップ200を、シリコン膜110に形成しても良いし、第1基板140にセンサギャップ200を形成しても良い。ここでは、説明上、シリコン膜110にセンサギャップ200を形成する場合を中心に説明する。また、説明上以下においては、物理量センサ100の垂直方向上部に形成されるセンサギャップ200を便宜上第1センサギャップ200と呼称し、物理量センサ100の垂直方向下部に形成されるセンサギャップを第2センサギャップ200と呼称する。
シリコン膜110、BOX層120、シリコン基板130を積層してなる半導体基板W(SOI基板)を用意する。半導体基板Wは、直径が150〜200mm程度であり、1枚の半導体基板Wから複数の物理量センサ100が形成される。上述したように、シリコン膜110は、フレーム部111、錘接合部112、可撓部113、柱状部上層(114a〜114j)を構成する層である。BOX層120は、シリコン膜110とシリコン基板130とを接合する層であり、かつエッチングストッパ層として機能する層である。シリコン基板130は、フレーム部131、錘部132、柱状層下層(134a〜134j)を構成する層である。半導体基板Wは、SIMOXないし、貼り合せ法等により作成される。
まず、第1センサギャップ200を形成するために、図2に示すセンサギャップ形成領域200を画定する第1のマスクを、半導体基板Wのシリコン膜110上に形成する。この第1のマスクを使用して、シリコン膜110をRIE法によって垂直方向に所望の深さエッチングし、第1センサギャップ200を形成する。第1基板140に第1センサギャップ200を形成する場合には、本工程は省略される。
1)コンタクトホールの形成
シリコン膜110上に、導通部160〜162を形成するためのコンタクトホールの形状にパターニングしたレジストを形成し、エッチング液を用いてウェットエッチングにより、コンタクトホールを形成する。エッチング液として、シリコン膜110のエッチングでは、例えば、20%TMAH(水酸化テトラメチルアンモニウム)を用いることができ、BOX層120のエッチングでは、例えば、バッファド弗酸(例えば、HF=5.5wt%、NH4F=20wt%の混合水溶液)を用いることができる。
導通部(柱状導通部を含む。)160〜162を形成するために、シリコン膜110上及びコンタクトホールに、例えば、Alを蒸着法やスパッタ法等により堆積させる。シリコン膜110の上面に堆積した不要な金属層(導通部160〜162の上端の縁(図示せず)の外側の金属層)はエッチングで除去し、導通部(柱状導通部を含む。)160〜162を形成する。
1)シリコン膜110の加工
シリコン膜110上に、フレーム部111、錘接合部112、可撓部113、柱状部上層114a〜114j及び後の工程で貫通孔である溝部となる溝部開口115を加工するための第2のマスクを形成する。第2のマスクを介して、シリコン膜110に対して侵食性を有し、且つBOX層120に対して侵食性を有しないエッチング方法によってシリコン膜110をBOX層120の上面が露出するまで垂直方向にエッチングする。第2のマスクに形成される溝部開口115を画定する開口は、すべて第1センサギャップ200内部に形成され、溝部開口115の端部(エッジ)は第1センサギャップ200の端部(エッジ)の内側に位置し、且つそれぞれの端部が垂直方向で重ならない。エッチング方法としては、RIE法を用いることができる。以上のエッチングによって、フレーム部111、錘接合部112、可撓部113、柱状部上層114a〜114j、溝部開口115及びコンタクトホールの上部が形成される。
フレーム部111、錘接合部112、可撓部113、柱状部上層114a〜114j及び溝部開口115が形成されたシリコン膜110をマスクとして、BOX層120をシリコン基板130の表面が露出するまでエッチングする。第2のマスクと同様のパターンを有するマスクを形成し、該マスクを介してBOX層120をエッチングしてもよい。エッチング方法としては、BOX層120の材料である酸化シリコンに対して侵食性を有するエッチング法を用いる。これによって、接合部121、122、124が形成される。また、溝部開口115と溝部開口125の重複部分が連結し、この箇所においてシリコン基板130の表面が露出する。
1)電極、配線及び配線用端子の加工
第1基板140を用意する。第1基板140の材料としては、ガラス材料、半導体、金属材料、絶縁性樹脂材料のいずれかより構成される。第1基板140としてガラス材料を用いる場合について説明する。可動イオンを含むガラス基板(いわゆるパイレックス(登録商標)ガラス)を用いる。可動イオンを含むガラスを用いるのは、後の陽極接合のためである。第1基板140の下面の錘接合部112a〜112eにそれぞれ対向する位置に、駆動用電極141a、検出用電極141b〜141e及びこれらの電極に接続する配線L1、L3〜L6を、例えば、Alからなるパターンによって形成する。次に、第1基板140の上面に、図1に示す配線用端子T1〜T11に対応するパターンを有するマスクを形成し、エッチングを行ってコンタクトホールを形成する。サンドブラストによってコンタクトホールを形成してもよい。次に、第1基板140上面及びコンタクトホール内に、例えばAlを蒸着法やスパッタ法等により堆積させる。不要なAlをエッチングにより除去して配線用端子T1〜T11を形成する。なお、第1基板140に第1センサギャップ200を設ける場合は、電極141a〜141eを形成する前に、第1基板140の下面に第1センサギャップ200の形状に対応するマスクパターンを形成し、エッチングによって所望の深さを有する第1センサギャップ200を形成する。その後第1センサギャップ200内に電極141a〜141e等を形成する工程は、上述したシリコン膜110上に第1センサギャップ200を形成する場合と同様であるので、説明を省略する。
半導体基板Wと第1基板140とを陽極接合する。
図2に示すセンサギャップ形成領域200に対応するマスクを、シリコン基板130の下面に形成し、該マスクを介して、垂直方向に所望の深さシリコン基板130をエッチングして第2センサギャップ200を形成する。
1)シリコン基板130の加工
次に、図4に示す、フレーム部131、錘部132、柱状部下層134a〜134e及び貫通孔である溝部となる溝部開口135を画定する所定のマスクを、シリコン基板130の下面に形成し、シリコン基板130をBOX層120の表面が露出するまで垂直方向にエッチングする。エッチング方法としては、DRIE法を用いる。DRIE法では材料層を厚み方向に浸食しながら掘り進むエッチング工程と、掘った穴の側面にポリマーの壁を形成するデポジション工程とを交互に繰り返し、ほぼ厚み方向にのみ浸食を進ませることが可能になる。特に厚さのあるシリコン基板130のエッチングはDRIE法による。
次に、フレーム部131、錘部132、柱状部下層134a〜134e及び溝部開口135が形成された半導体基板WのBIX層120を、シリコン基板130側から、シリコン膜110の表面が露出するまでエッチングを行う。フレーム部131、錘部132、柱状部下層134a〜134e及び溝部開口135が形成されたシリコン基板130をマスクとして用いればよい。BOX層120は、上述した(4)の工程で、既にシリコン膜110の可撓部113の下側に位置する溝部開口125の一部分を残して、エッチングの必要な箇所が大半エッチングされている。本エッチングによってBOX層120をエッチング処理するのは、一部残存する溝部開口125の該一部分を除去し、シリコン膜110の可撓部113を完成させるためである。BOX層120の材料である酸化シリコンに対してのみ侵食性を有する、例えばCF4ガスとO2ガスとの混合ガスを用いてエッチングする。BOX層120の溝部開口125が貫通し、これによって、シリコン膜110、BOX層120、シリコン基板130のそれぞれの溝部開口115、125、135の垂直方向で重複する部分が貫通し、フレーム、柱状部及び溝部が完成する。一方、BOX層120の溝部開口125及びシリコン基板130の溝部開口135と、シリコン膜110の溝部開口115は、垂直方向で一部が重複しないため、シリコン膜110の可撓部113のみが残存し、錘部は薄いシリコン膜の可撓部113のみによってフレームに接続された構造となり錘部が完成する。かかる構造によって、錘部は、第1基板140及び第2基板150に対して変位可能となる。
1)電極及び配線の形成
第2基板150としては、前述した第1基板140と略同様の材料を用いることができる。本実施の形態では、第2基板150としてガラス基板を用いた場合について説明する。可動イオンを含むガラス基板の錘部132a〜132eにそれぞれ対向する位置に、駆動用電極151a、検出用電極151b〜151e、及び配線L2、L8〜L11を、例えば、Alからなるパターンによって形成する(図5(B)参照)。
2)第2基板150の接合
半導体基板Wと第2基板150とを陽極接合する。
互いに接合された半導体基板W、第1基板140、及び第2基板150をダイシングソー等で切断し、個々の物理量センサ100に分離する。以上のような工程により、物理量センサ100が製造できる。
以上、本実施の形態に係る物理量センサの製造方法について説明したが、本製造方法は物理量センサの製造に限定されない。即ち、シリコンから成る半導体基板をエッチングして製造する半導体装置において、垂直方向において第1の深さにエッチングする第1エッチング領域と、第1の深さより深い第2の深さにエッチングする第2エッチング領域を有し、第1エッチング領域と第2エッチング領域とが垂直方向において重複し、且つ第2エッチング領域は製造上第1エッチング領域を形成した後にエッチングとデポジション膜の形成とを交互に繰り返しながら垂直方向にエッチングすることによって形成されるすべての半導体装置の製造方法に応用できる。上述したシリコン残渣は、第1エッチング領域を形成した後、第2エッチング領域をエッチングとデポジション膜の形成とを交互に繰り返しながらエッチングする際に、第1エッチング領域の端部が、第2エッチング領域に含まれる箇所にて発生する。従って、このように異なる深さにエッチングする領域を有し、深さの深いエッチング領域を、深さの浅いエッチング領域を形成した後にDIRE法によってエッチングする場合に、第1エッチング領域の端部が、第2エッチング領域から一定間隔離隔して第2エッチング領域を内包するように、言い換えれば第1エッチング領域が一定間隔離隔して第2エッチング領域を取り囲むように、第1エッチング領域を広く設定する。これによって、シリコン残渣の発生を防止することができる。
以上のように、物理量センサ100において、センサギャップ200(第1センサギャップ200及び第2センサギャップ200を総称する)を形成する領域を、貫通孔である溝部を内包するように、言い換えれば溝部を形成する領域を取り囲むように設定する。そして、センサギャップ200の端部(エッジ)が、溝部内に含まれないようにセンサギャップ200の端部と溝部の端部との間に一定間隔が形成されるようにする。これによってセンサギャップ200の端部にデポジション膜等が残存しても、この端部は、溝部を形成する領域から一定の間隔を持って離隔しているため、シリコン残渣が発生することがない。従って、本実施の形態に係る物理量センサ100は、シリコン残渣の発生による不良を防止することができる。図10は、本発明の一実施の形態に係る物理量センサの効果を示す電子顕微鏡写真であり、図10(A)はセンサギャップ200のエッジ等を判別しやすくするために物理量センサを40°傾斜させて撮影した写真であり、図10(B)は無傾斜写真である。図10(A)及び図10(B)の電子顕微鏡写真を、図15の従来レイアウトによる物理量センサの電子顕微鏡写真と比較すれば、本発明の効果は明らかである。
110:シリコン膜(活性層)
111、131:フレーム部
112(112a〜112e):錘接合部
113(113a〜113d):可撓部
114(114a〜114j):柱状部上層
115、125、135:溝部開口
120:BOX層
121、122、124:接合部
130:シリコン基板(支持層)
131:フレーム部
132(132a〜132e):錘部
134(134a〜134j):柱状部下層
140:第1基板
141a:駆動用電極
141b〜141e:検出用電極
150:第2基板
151a:駆動用電極
151b〜151e:検出用電極
160〜162:導通部
200:センサギャップ(センサギャップ形成領域)
L1、L2、L4〜L11:配線層
T1〜T11:配線用端子
W:半導体基板
Claims (1)
- 半導体基板と、
前記半導体基板を第1の深さにエッチングして、複数の柱状部の上部と前記複数の柱状部の外側に配置されるフレーム部の上部を形成する第1エッチング領域と、
前記半導体基板をエッチングとデポジション膜の形成とを繰り返して前記第1の深さより深い第2の深さにエッチングして、前記複数の柱状部の下部と前記フレーム部の下部とを形成する第2エッチング領域と、
を有し、
前記第1エッチング領域が前記第2エッチング領域を内包し、
前記第2エッチング領域は、前記第1エッチング領域がエッチングされた後にエッチングされ、
前記複数の柱状部の各々の下部の幅は、前記複数の柱状部の各々の上部の幅よりも広く、
前記フレーム部の下部の幅は、前記フレーム部の上部の幅よりも広いことを特徴とする半導体装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2008320849A JP5293145B2 (ja) | 2008-12-17 | 2008-12-17 | 半導体装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2008320849A JP5293145B2 (ja) | 2008-12-17 | 2008-12-17 | 半導体装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2010145162A JP2010145162A (ja) | 2010-07-01 |
JP5293145B2 true JP5293145B2 (ja) | 2013-09-18 |
Family
ID=42565761
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2008320849A Expired - Fee Related JP5293145B2 (ja) | 2008-12-17 | 2008-12-17 | 半導体装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP5293145B2 (ja) |
Family Cites Families (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP3346475B2 (ja) * | 2000-01-18 | 2002-11-18 | 日本電気株式会社 | 半導体集積回路の製造方法、半導体集積回路 |
JP4216525B2 (ja) * | 2002-05-13 | 2009-01-28 | 株式会社ワコー | 加速度センサおよびその製造方法 |
JP4165170B2 (ja) * | 2002-10-02 | 2008-10-15 | 松下電工株式会社 | 半導体加速度センサの製造方法 |
JP2006317242A (ja) * | 2005-05-12 | 2006-11-24 | Dainippon Printing Co Ltd | 力学量検出センサ及びその製造方法 |
JP2007192588A (ja) * | 2006-01-17 | 2007-08-02 | Seiko Instruments Inc | 3次元配線を有する力学量センサおよび力学量センサの製造方法 |
JP4858064B2 (ja) * | 2006-10-04 | 2012-01-18 | 大日本印刷株式会社 | 力学量検出センサおよびその製造方法 |
JP5294375B2 (ja) * | 2006-10-26 | 2013-09-18 | セイコーインスツル株式会社 | 角速度センサ及び電子機器 |
-
2008
- 2008-12-17 JP JP2008320849A patent/JP5293145B2/ja not_active Expired - Fee Related
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2010145162A (ja) | 2010-07-01 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP4747677B2 (ja) | 角速度センサの製造方法 | |
JP4216525B2 (ja) | 加速度センサおよびその製造方法 | |
US9828242B2 (en) | Accelerometer and its fabrication technique | |
JP2007248147A (ja) | 加速度センサの構造及びその製造方法 | |
JP4924238B2 (ja) | 角速度センサの製造方法 | |
JP2006308325A (ja) | 力学量検出センサ及びその製造方法 | |
JP2009008438A (ja) | 角速度センサおよびその製造方法 | |
JP5598515B2 (ja) | 物理量センサ及びその製造方法 | |
JP5120176B2 (ja) | 物理量センサ及びその製造方法 | |
JP2008089497A (ja) | 力学量検出センサおよびその製造方法 | |
US8329491B2 (en) | Mechanical quantity sensor and method of manufacturing the same | |
JP5293145B2 (ja) | 半導体装置 | |
JP2006317242A (ja) | 力学量検出センサ及びその製造方法 | |
JP2005083972A (ja) | 静電容量式センサおよびその製造方法 | |
JP5292825B2 (ja) | 力学量センサの製造方法 | |
JP5062146B2 (ja) | 物理量センサおよびその製造方法、ならびに電子機器 | |
JP5257115B2 (ja) | 力学量センサ及びその製造方法 | |
JP5167848B2 (ja) | 支持基板及びそれを用いた静電容量型力学量検出センサの製造方法 | |
JP5293010B2 (ja) | 力学量センサおよび積層体の製造方法 | |
JP2006258528A (ja) | 加速度センサおよびその製造方法 | |
JP2005345245A (ja) | 容量型力学量センサ及びその製造方法 | |
JP2017058353A (ja) | センサ素子 | |
JP2009121881A (ja) | 力学量検出センサおよびその製造方法 | |
JP2011049211A (ja) | 静電容量式センサおよびその製造方法 | |
JP2008128879A (ja) | 角速度センサ |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20111021 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20130123 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20130129 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20130401 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20130514 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20130527 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 5293145 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |