JP5282021B2 - 半導体処理システム及び半導体処理方法 - Google Patents

半導体処理システム及び半導体処理方法 Download PDF

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Description

本発明は、半導体製造分野における処理システムに係わり、特に、線形ツールの処理システムに関する。
半導体の処理システムにおいては、クラスタツールと呼ばれる構造の処理システムが広く普及している。このクラスタツールは、処理システムを設置するに当たり大きな空間を必要とし、ウェハの大口径化に伴い、必要とする空間がますます大きくなるという問題を抱えている。そこで、小さい空間でも設置することができる線形ツールと呼ばれる構造の処理システムが登場した(特許文献1)。
クラスタツールと線形ツールの違いは、処理モジュールへのウェハの搬入、及び処理モジュールからのウェハの搬出を行う内部搬送部位の構造である。クラスタツールでは、内部搬送部位において、ウェハを搬送する搬送ロボットは通常一つであり、内部搬送部位への搬入口及び搬出口であるロードロックと処理モジュール間のウェハの搬送を一つの搬送ロボットが行う。一方、線形ツールでは、内部搬送部位に複数の搬送ロボットを配し、複数の搬送ロボット間でウェハの受渡しを行い、ロードロックと処理モジュール間の搬送を行う。但し、搬送先の処理モジュールの位置によって、搬送に係わる搬送ロボットが異なる。処理モジュールの位置によっては、一つの搬送ロボットだけで搬送できる場合もあれば、複数の搬送ロボットを介さないと、搬送できない場合もある。
又、半導体の処理システムにおいては、スループットの向上も重要である。一般的な処理システムは、複数の処理モジュールを有しており、複数のウェハが平行して処理される。この時、搬送ロボットが、複数のウェハを順序よく搬送しなければ、スループットは低下してしまう。そこで、スループットを向上させる方法として、スケジューリングによる方法が知られている。スケジューリングによる方法とは、搬送ロボットの動作の制約を考慮しつつ、スループットが高くなるよう各ウェハの搬送や処理のタイミングを算出し、算出したタイミングに沿って搬送を行うというものである(特許文献2)。
このスケジューリングによる方法は、ある搬送ルートが与えられた時に、その搬送ルートにおいてスループットを向上させる搬送や処理のタイミングを算出するものである。ここで、搬送ルートとは、処理対象のウェハが、処理システム内に搬入されてから、処理モジュールにて処理を行い、処理システム外に搬出されるまでに通過する道順である。これは、搬入口、搬送先の処理モジュール、搬出口が決まると決定されるものである。特に処理モジュールが複数ある処理システムの場合、搬送するウェハ毎に搬送先の処理モジュールを決定しないと、搬送ルートは決まらず、スケジューリングを行うことができない。そこで、搬送先の処理モジュールを決定する方法として、これから搬送するウェハに対し、処理完了時間の早い処理モジュールから順に割り当てていくという方法が知られている(特許文献3)。
特表2007−511104号公報 特表2002−511193号公報 特開平10−189687号公報
クラスタツールにおいては、従来の搬送ルートを決定する方法で、最も高いスループットを得ることができた。それは、内部搬送部位において搬送を行う搬送ロボットが一つであるため、搬送ルートが違っても、搬送に係わる搬送ロボットは同じになり、搬送に要する時間や搬送に係わる制約事項も同じになるからである。故に、搬送ルートの違いがスループットに影響を与えないため、処理モジュールの処理時間のみを考慮した搬送ルートの決定方法で十分であった。
しかし、線形ツールおいては、内部搬送部位での搬送に係わる搬送ロボットが、搬送先の処理モジュールの位置によって異なるため、搬送ルートが違えば、搬送に要する時間や搬送に係わる制約が異なり、スループットも違ってくる。よって、従来の搬送ルートを決定する方法では、最も高いスループットを得られない可能性が高い。
そこで、本発明が解決しようとする課題は、線形ツールにおいて、最も高いスループットが得られる搬送ルートを決定することである。
本発明の代表的な実施の形態による半導体処理システムは、搬入された被処理体を搬送する搬送ロボットを有する複数の搬送モジュールと、被処理体に処理を施す複数の処理モジュールと、搬送モジュール及び処理モジュールの動作を制御する動作制御部と、を備え、処理モジュールは搬送モジュールのいづれかに接続され、かつ、搬送モジュール同士が接続される構成を有する半導体処理システムにおいて、動作制御部は、搬入される複数の被処理体について、搬送モジュールにおいて搬送動作に要する時間及び処理モジュールにおいて処理に要する時間に基づいて、それぞれの被処理体の搬送ルートを決定することを特徴とする。
又、本発明の実施の形態による半導体処理方法は、被処理体を搬送する搬送ロボットを有する複数の搬送モジュールと、被処理体に処理を施す複数の処理モジュールとを備え、処理モジュールは搬送モジュールのいづれかに接続され、かつ、搬送モジュール同士が接続される構成を有する半導体処理装置において被処理体の搬送ルートを決定する方法であって、搬入される被処理体について、搬送モジュールにおいて搬送動作に要する時間及び処理モジュールにおいて処理に要する時間を入力し、
入力された搬送動作に要する時間及び処理に要する時間に基づいて、搬入される複数の被処理体のそれぞれの搬送ルートを決定することを特徴とする。
本発明によれば、線形ツールの処理システムにおいて、スループットを向上させることができる。
半導体処理システムの構成を説明した図である。 半導体処理システムの構成のバリエーションを説明した図である。 半導体処理システム制御に要する情報の授受関係を示す図である。 搬送ルートを決定する処理のフローを説明した図である。 搬送ルートの候補を算出する処理と入出力データを説明した図である。 スループットを算出する処理と入出力データを説明した図である。 搬送ルートを選択する処理と入出力データを説明した図である。 ある搬送ルート候補における搬送順序を説明した図である。 処理対象ウェハ情報の具体例を示した図である。 処理工程情報の具体例を示した図である。 処理モジュール情報の具体例を示した図である。 利用可能処理モジュール情報の具体例を示した図である。 搬送先候補情報の具体例を示した図である。 装置構造情報の具体例を示した図である。 搬送ルート候補情報の具体例を示した図である。 動作時間情報の具体例を示した図である。 スループット情報の具体例を示した図である。
本発明の実施形態について、図面を用いて説明する。
以下に述べる本発明になる線形ツールは、図1に示すように、内部搬送部位102に複数の搬送ロボット(105〜106)を配し、複数の搬送ロボット間でウェハの受渡しを行い、ロードロック103と処理モジュール(107〜110)間の搬送を行う。ところで、クラスタツールは、内部搬送部位において、ウェハを搬送する搬送ロボットは通常一つであるが、線形ツールは、複数の搬送ロボットを有する点がクラスタツールと大きく異なる点である。
図1は、本発明の半導体処理システムの構成を説明した図である。処理システムは、物理的な搬送動作を行う外部搬送部位101と内部搬送部位102、その動作を制御する動作制御部113から成っている。多くの半導体処理システムにおいては、外部搬送部位101の内部は大気圧状態、内部搬送部位102の内部は真空状態に保たれている。又、処理システム124は、ネットワーク123を介してホストコンピュータ122と接続されており、ホストコンピュータ122から必要に応じて情報を取得することが出来る。以下、各部位について説明する。
外部搬送部位101は、処理システムの外にある処理対象のウェハを処理システム内に搬入及び搬出を行い、更に、内部搬送部位102に接続しているロードロック103へのウェハの搬入及び搬出を行う。このロードロック103は、減圧及び加圧を行うことができ、外部搬送部位101よりウェハを搬入した後、減圧し、内部搬送部位102と同じ真空状態にすることで、ウェハを内部搬送部位102へと送り出すことができる。逆に、内部搬送部位102よりウェハを搬入した後、加圧し、大気圧状態にすることでウェハを外部搬送部位101へと送り出すことができる。
内部搬送部位102は、搬送モジュール105、106と複数の搬送モジュールの間に設置される待機スペース104と処理モジュール107、108、109、110より構成される。搬送モジュール105には搬送ロボット111、搬送モジュール106には搬送ロボット112が配されており、搬送モジュールに隣接する処理モジュール、ロードロック、待機スペースでのウェハの搬入及び搬出や、それらの処理モジュール、ロードロック、待機スペース間のウェハの移動を行う。
処理モジュールは、ウェハに対してエッチングなどの処理を施す機能を有している。この処理モジュールのウェハ搬出入口には、ゲートバルブが設置されており、処理を行う時には閉じられ、ウェハの搬入及び搬出時には開かれる。
待機スペースには、ウェハを置くスペースがあり、隣接する搬送モジュールの各々の搬送ロボットがウェハの搬入及び搬出を行うことが可能である。そのため、片方の搬送ロボットが待機スペースにウェハを搬入し、その動作が終わった後、もう片方の搬送ロボットが待機スペースからウェハを搬出することで搬送モジュールの間で受渡しを行うことができる。
動作制御部113は、マイクロプロセッサ、メモリなどによって構成されるコンピュータであり、搬送ルート決定演算部114、動作指示演算部115、記憶部116を有している。搬送ルート決定演算部114は、本発明の搬送ルートの決定に関わる処理を行う。
動作指示演算部115は、搬送ルート決定演算部114によって決定された搬送ルートに基づいて、搬送ロボットによるウェハの搬出入や移動、ロードロックの減圧や加圧、処理モジュールの処理やゲートバルブの開閉など、個々の動作の制御を行う。記憶部116には、演算処理に必要な情報である、処理対象ウェハ情報117、動作時間情報118、処理工程情報119、装置構造情報120、処理モジュール情報121が保持されている。このうち処理モジュール情報121は、処理モジュール107、108、109、110にあるセンサーにより生成され、随時、動作制御部113に伝送される。
一方、処理対象ウェハ情報117、動作時間情報118、処理工程情報119、装置構造情報120は、半導体処理システムとネットワーク123で接続されているホストコンピュータ122の中に管理されており、必要に応じてホストコンピュータ122より動作制御部113に伝送される。
以上で説明した内部搬送部位102、動作制御部113、ホストコンピュータ122などで構成されるものを、ここでは半導体処理システム124と称することにする。
この半導体処理システム124は、内部搬送部位102の構造を変更することが可能である。図2a)、b)に例示するように、処理モジュール(207〜212または207’〜212’)、搬送モジュール(213〜215または213’〜215’)、待機スペース(202〜203または202’〜203’)の配置を自由に変更することが出来る。配置の条件としては、処理モジュールと待機スペースは、必ず搬送モジュールに隣接することである。本実施形態の説明においては、図1に示す内部搬送部位の配置を前提として説明するが、これは一例であり、本発明を限定するものではない。
次に、半導体処理システム124の動作制御について説明する。まず、処理対象の各ウェハに対して搬送ルートを決定する。ここで、本実施例中で用いる搬送ルートとは、特に断りがない限り、処理対象のウェハが、処理システム内に搬入されてから、処理モジュールにて処理を行い、処理システム外に搬出されるまでに通過する道順を指すものとする。搬送ルートそして、その搬送ルートをもとに、搬送ロボットによるウェハの搬出入や移動、ロードロックの減圧や加圧、処理モジュールの処理やゲートバルブの開閉など、個々の動作が行われる。この個々の動作を決める方式として以下に挙げる方式がある。
(1)スケジュール方式
スケジュール方式は、処理対象の各ウェハを決定された搬送ルートで搬送するために必要な個々の動作を事前に計算して、予め個々の動作を決めておき、それに従って個々の動作を行うものである。この個々の動作を計算するロジックは、目的に応じて様々なバリエーションがある。目的とは、処理モジュールの稼動率を最大化するといったものや、スループットを最大化するといったものなどがある。
(2)ディスパッチ方式
ディスパッチ方式は、搬送ロボットによるウェハの搬出入や移動、ロードロックの減圧や加圧、処理モジュールの処理やゲートバルブの開閉など、個々の動作について、動作を開始する条件を設定しておき、その条件が揃ったら動作が行われるようにする方式である。例えば、ある処理モジュールのゲートバルブが開くという動作の条件として、「搬送ロボットがその処理モジュールに搬入するウェハを保持している」「その処理モジュールで他のウェハに対して処理が行われていないこと」「他の処理モジュールのゲートバルブが閉じていること」といった条件をルールとして設定しておき、その条件が揃ったらゲートバルブが開くという動作が行われるというものである。
このような動作条件のルールを個々の動作それぞれについて設定する。又、複数の動作について、動作開始の条件が揃うこともあり得る。そういった場合、どの動作を優先するかという優先ルールも設定する。その優先ルールの一例として、一番早く動作開始条件が揃った動作を行うというものがある。
このように動作制御にはいくつかの方式があり、その詳細な計算ロジックや条件には様々なバリエーションがある。本実施形態の説明においては、ディスパッチ方式で、動作開始条件が同時に揃った場合の優先ルールとして、一番早く動作開始条件が揃った動作を優先するという動作制御が行われている半導体処理システムを前提として説明するが、これは一例であり、本発明を限定するものではない。
次に、処理対象の一枚のウェハに対する処理システム124の一連の動作について説明する。以下、図1を用いて、順番に動作の説明を列挙する。なお、図3には、半導体処理システム301の制御に要する情報の授受関係を示し、図1と対応する符号は、以下に[ ]で示した。
・ホストコンピュータ122[302]より、処理対象ウェハが到着する前に処理対象ウェハ情報117[305]、動作時間情報118[306]、処理工程情報119[307]、装置構造情報120[308]が動作制御部113[303]に伝送される。
・処理モジュール情報121は、処理モジュール107〜110から随時動作制御部に伝送されている。
・処理対象のウェハが到着すると、外部搬送部位101が、対象ウェハの識別情報を読み取り、動作制御部113にその情報を伝送する。
・動作制御部113では対象ウェハに応じた処理工程や処理モジュール107〜110の状態のデータは予め保持しているので、そのデータと対象ウェハのデータを元に、動作制御部103が、搬送ルートを決定する。
仮に、処理モジュール109が搬送先の処理モジュールになったとする。
・外部搬送部位101が、ウェハをロードロック103に搬入する。
・ロードロック103の外部搬送部位101側にあるゲートバルブが閉じた後、ロードロック103にて減圧が行われ、ロードロック103内を真空状態にする。
・内部搬送部位103側のゲートバルブが開き、搬送ロボット111が、ロードロック103からウェハを搬出する。
・搬送ロボット111はウェハを保持したまま、待機スペースの方を向くまで旋回した後、待機スペース104にウェハを置く。
・もう一方の搬送ロボット112が待機スペース104よりウェハを取り出す。
・搬送ロボット112はウェハを保持したまま、処理モジュール109の方を向くまで旋回した後、処理モジュール109のゲートバルブが開き、搬送ロボット112が処理モジュール109にウェハを搬入する。
・処理モジュール109にて処理が行われる。
・処理完了後、処理モジュール109のゲートバルブが開き、搬送ロボット112が処理モジュール109からウェハを搬出する。
・搬送ロボット112はウェハを保持したまま、待機スペース104の方を向くまで旋回した後、待機スペース104にウェハを置く。
・もう一方の搬送ロボット111が待機スペース104よりウェハを取り出す。
・搬送ロボット111はウェハを保持したまま、ロードロック103の方を向くまで旋回した後、ロードロック103のゲートバルブが開き、搬送ロボット111がロードロック103にウェハを搬入する。
・ロードロック103の内部搬送部位102側にあるゲートバルブが閉じた後、ロードロック103にて加圧が行われ、ロードロック103内を大気圧状態にする。
・ロードロック103の外部搬送部位101側のゲートバルブが開き、外部搬送部位101がロードロック103からウェハを搬出する。
外部搬送部位101がウェハを半導体処理システム124[301]外のウェハ格納場所に格納する。
なお、図3で示すように、ホストコンピュータ302からの制御信号は、ネットワーク300を介して半導体処理システム301へ伝送される。
ここで説明した一連の動作は、一枚のウェハに対するものであるが、本半導体処理システム124は、複数のウェハを同時に扱うことが出来るものである。複数のウェハを搭載したロットケースが半導体処理システム124[301]に到着し、それぞれのウェハに対して上記動作を行う。又、複数のロットケースを同時に対象とすることも可能である。このように複数のウェハに対して同時に搬送及び処理を行う場合、搬送ロボットやゲートバルブの開閉など個々の動作の開始条件が同時に満たされる場合があるので、その場合、動作の優先ルールに基づいて順番に行われる。
次に、本発明の搬送ルート決定処理の概要ついて、図4を用いて説明する。まず、搬送ルート候補算出401を行う。搬送ルート候補算出処理401では、処理対象ウェハに対して、そのウェハの種類に応じた処理工程と処理モジュールの状態から利用可能な処理モジュール候補を算出し、それをもとに搬送ルート候補を算出する。処理の詳細については後述する。
次に、処理401で算出した搬送ルート候補毎に、スループットを算出402する。スループット算出処理402では、与えられた搬送ルートを元にスケジューリングを行い、その搬送ルートにおける搬送順序を算出し、それを元に単位時間あたりの搬送ウェハ枚数であるスループットを算出する。処理の詳細については後述する。この処理402を全ての搬送ルートについて完了するまで繰り返し、全ての搬送ルートについて処理402が完了したら、最良の搬送ルートの選択を行う。搬送ルート選択処理403では、処理402で算出した各搬送ルート候補のスループットを比較し、最良のスループットとなる搬送ルートを選択する。処理の詳細ついては後述する。以上より、最良の搬送ルートが決定される。
次に、搬送ルート候補算出処理の詳細について、図5を用いて説明する。まず、利用可能処理モジュール抽出ステップ501で、処理対象ウェハ情報305と処理工程情報307と処理モジュール情報309を入力し、利用可能処理モジュール情報502を生成503する。処理対象ウェハ情報305とは、図9に例示するような処理対象ウェハの識別番号であるウェハ番号と、各々のウェハに対して施す処理工程を表した情報である。処理工程情報307とは、図10に例示するような処理工程と、その処理工程が含む工程順序と、その工程順序において処理を施す処理モジュールの条件と、その処理での処理時間を表した情報である。例えば、処理工程1において、工程順序1で処理モジュール条件A、処理時間20、工程順序2で処理モジュール条件B、処理時間20というのは、処理工程1を持つウェハに対して、処理モジュール条件Aを満たす処理モジュールにて、20の処理時間にて処理を行い、次に処理モジュール条件Bを満たす処理モジュールにて、20の処理時間にて処理を行うということを意味している。処理モジュール情報309とは、図11に例示するような各処理モジュール、その処理モジュールの条件を表した情報である。以上の情報を組み合わせることで、図12に例示するような、各々のウェハの各工程順序において、利用可能な処理モジュールと処理時間の情報を得る。あるウェハのある工程順序において、利用可能な処理モジュールが複数ある場合は、その全ての処理モジュールが利用可能処理モジュールとなる。
次に、利用処理モジュール候補生成ステップ503で、利用可能処理モジュール情報502を入力し、搬送先候補情報504を生成する。このステップでは、各ウェハの各工程順序において、利用する処理モジュールを一つ選択し、それを搬送先候補の一つとする。次に、あるウェハのある工程順序において、選択されている処理モジュールを別な利用可能処理モジュールに変更したものを別な搬送先候補とする。以上の手順を、各ウェハの各工程順序において、全ての利用可能処理モジュールが選択されるまで繰り返し、搬送先候補を網羅的に抽出する。これにより、図13に例示するような搬送先情報が生成される。
次に、搬送ルート候補生成ステップ503で、搬送先候補情報504と装置構造情報308を入力し、搬送ルート候補を生成する。装置構造情報308とは、図14に例示するような装置のモジュールとそれに接続している搬送ロボットを表した情報である。ここで、図14中で用いる記号について、図1との対応関係を纏めておく。以下に、簡単のために、符号は数字で示し、各符号は図1中で記載のものを示す。すなわち、LL:103、VR1〜VR2:111〜112、WS1:104、PM1〜PM4:107〜110なる対応関係にある。
例えば、図14のLLとはロードロック103を表し、そのロードロックは搬送ロボットVR1(111)に接続しているということを示している。同様にPM1、PM2、PM3、PM4はそれぞれ処理モジュールを、WS1は待機スペースを表し、それぞれ搬送ロボットVR1及びVR2と接続している。このステップでは、搬送先候補情報504の、ある搬送先候補のあるウェハに対して、設定されている工程順序の順に利用処理モジュールを通過する搬送ルートを、装置構造情報を元に抽出する。
ウェハの搬送は、ロードロック(LL)からスタートし、接続する搬送ロボットによって搬送され、各処理モジュールで処理が行われ、搬送ロボットによってロードロックまで搬送される。例えば、図13に示すように、搬送先候補番号2、ウェハ番号W1においては、工程順序1では処理モジュールPM1、工程順序2では処理モジュールPM3で処理が行われる。この場合、図14に示すように、まずLLからPM1に搬送するにあたり、LLとPM1の両方にVR1が接続しているので、VR1によって、LLからPM1へ搬送される。この搬送動作をLL→PM1と記述することにする(図15参照)。
次に、PM1からPM3へ搬送するにあたり、PM1はVR1と、PM3はVR2と接続しており、VR1とVR2はWS1に接続しているので、VR1とVR2がWS1でウェハの受渡しを行う。そこで、VR1によって、PM1から待機スペースWS1へ搬送される。この搬送動作をPM1→WS1と記述する(図15参照)。
次に、VR2によって、WS1からPM3へ搬送される。この搬送動作を、WS1→PM3と記述する。同様にして、PM3よりLLに搬送するにあたり、PM3→WS1、WS1→LLという搬送動作が行われる(図15参照)。この搬送動作の順序を搬送順序とし、ある搬送先候補の各ウェハについて、この搬送動作と搬送順序及び搬送ロボットを抽出したものを搬送ルート候補とする。この搬送ルート候補の抽出を、全ての搬送先候補について行う。その結果が図15に例示するような搬送ルート候補情報である。
次に、スループット算出処理の詳細について図6を用いて説明する。スループット算出処理601は、搬送先候補情報504と搬送ルート候補情報506と動作時間情報306を入力し、スループット情報602を生成する。このステップでは、まず、ある搬送ルート候補について、搬送ルート候補情報506から搬送順序と搬送動作と搬送ロボットの情報と、搬送先候補情報504から該当する搬送先候補番号の搬送先処理モジュールでの処理時間の情報と、動作時間情報306から該当する搬送ロボットと搬送動作の動作時間の情報を抽出する。それら抽出した情報を入力とし、シミュレーションを行う。シミュレーションは、動作制御として設定されている方式に従って行う。
本実施形態の説明では、ディスパッチ方式で、動作開始条件が同時に揃った場合の優先ルールとして、一番早く動作開始条件が揃った動作を優先するという動作制御を前提とした場合のシミュレーションについて説明する。
シミュレーションとは、時刻を進めながら動作を並べていく計算手順である。シミュレーションの計算例として、図15に例示した搬送先候補番号1について説明する。条件として、ウェハ番号W1、W2、W3を搭載したロットが到着した時に、既に別ロットが処理されており、その別ロットのウェハ番号W0がPM4で処理中で残り処理時間35という状態で、シミュレーションを行うものとする。又、W1、W2、W3の順で投入されるルールであるとする。なおこの一例の説明では説明を簡単するため、外部搬送部位の動作やゲートバルブの動作は割愛し、搬送ロボットと処理モジュールの動作のみシミュレーションする。
以下に図8を参照しながら、動作シミュレーションを説明する。
まず、時刻0において、LLにはW1が格納、PM1、PM2にはウェハは格納されておらず、PM4にはW0が格納さており処理中という状態からスタートする。この場合、VR1がW1をLLから搬出し、PM1へ搬入する動作開始条件が満たされている。そこでその動作を図中に示すように並べる。次に、いずれかの動作が完了し、動作開始条件に変化のある可能性のある時刻まで時刻を進める。この例の場合、図16で示す条件より、VR1によるLL→PM1(W1)の動作は所要時間10である。そこで、時刻を10まで進める。ここで、動作開始条件が満たされている動作の有無をチェックする。PM1にW1が搬入されたので、PM1の処理の動作開始条件が満たされる。そこで、PM1でのW1に対する処理の動作を、時刻10を始点として並べる。
次に、図16で示す条件より、PM1でのW1に対する処理時間が20であるので、時刻を30まで時刻を進める。ここで、VR1によるPM1→PM2(W1)の動作が動作開始条件と、PM4でのW0に対する処理が完了し、VR2によるPM4→WS1(W0)の動作開始条件が満たされるので、時刻30を始点として並べる。
次に、時刻35まで進めると、VR2によるPM4→WS1(W0)の動作が完了する。ここで、動作開始条件が揃う動作は無いが、VR1によるWS1→LL(W0)の動作開始条件の一つであるWS1に処理済みウェハがあるという状態となり、VR1がウェハを保持していないという状態になるのを待つことなる。ここで、時刻40において、外部搬送部位によって、W2がLLに格納されるとする。そこで、時刻40まで進めると、VR1がウェハを保持してない状態となり、VR1によるWS1→LL(W0)と、VR1によるLL→PM1(W2)と、PM2でW1の処理の動作開始条件がそれぞれ満たされる。ここで、VR1によるWS1→LL(W0)と、VR1によるLL→PM1(W2)は、ともにVR1の動作であり、同時に行えない。そこで、一番早く動作開始条件が揃った動作を優先するという優先ルールに従い、この例では、VR1によるWS1→LL(W0)が時刻35の時点からVR1がウェハを保持していない状態を待っていたので、この動作を優先する。又、PM2でW1の処理は平行して動作できるので、結局、VR1によるWS1→LL(W0)とPM2でW1の処理が、時刻40を始点として並べられる。
次に、時刻45まで進むと、VR1によるLL→PM1(W2)の動作開始条件が満たされるので、時刻45を始点として並べる。このように時刻を進めながら動作を並べる処理を、全ての処理対象ウェハに対して、処理を終えて、外部に搬出されるまでの全ての動作が並べ終わるまで繰り返す。この例では、VR1がウェハW3をPM2→LLへ搬送する動作を並べることで、全ての動作が並べ終わる。
このシミュレーションの結果から、全ての動作のうち、完了時刻が一番遅い動作の完了時刻を得ることが出来る。この時刻が搬送及び処理に要した所要時間であるので、処理したウェハ枚数をこの所要時間で割ることで、単位時間当たりの処理ウェハ枚数であるスループットを算出できる。例えば、図8の例の場合、VR1によるPM2→LL(W3)が最後の動作となり、その時刻は165である。よって、搬送ルート候補番号1の場合のスループットは、3/165≒0.018となる。このようなシミュレーションとスループット算出の計算を、全ての搬送ルート候補について行うことで、図17に例示するような各搬送ルート候補についてのスループット情報を得る。
次に、搬送ルート選択処理について図7を用いて説明する。搬送ルート選択処理701は、スループット情報602を入力し、搬送ルート情報702を生成する。搬送ルート情報702とは、実際に搬送を行う搬送ルートであり、この情報を元に搬送動作を制御することになる。このステップでは、スループット算出処理にて算出した各搬送ルート候補のスループット情報を元に、スループットを比較し、最もスループットが高い搬送ルート候補を搬送ルートとして決定する。この例では、図17に示すように、搬送ルート候補1は、0.018であり、搬送ルート候補2は、0.019であるので、搬送ルート候補2の搬送ルートが最もスループットが高い搬送ルートとして決定される。
本発明の別な実施の形態としては、搬送ルート候補算出処理の替わりに、複数の搬送ルートを、別のシステムより与える形態や、人によって入力される形態としても良い。
本発明の別な実施の形態としては、スループット算出処理の替わりに、各々の搬送ルートに対し別途用意されたスループット情報からスループットを得る形態としても良い。
101:外部搬送部位、
102:内部搬送部位、
103:ロードロック、
104:待機スペース、
105,106:搬送モジュール、
107,108,109,110:処理モジュール、
111,112:搬送ロボット、
113:動作制御部、
114:搬送ルート決定演算、
115:動作指示演算部、
116:記憶部、
117:処理対象ウェハ情報、
118:動作時間情報、
119:処理工程情報、
120:装置構造情報、
121:処理モジュール情報、
122,302:ホストコンピュータ、
123,300:ネットワーク、
124,301:半導体処理システム、
401:搬送ルート候補算出処理、
402:スループット算出処理、
403:搬送ルート選択処理。

Claims (18)

  1. 搬入された被処理体を搬送する搬送ロボットを有する複数の搬送モジュールと、
    前記被処理体に処理を施す複数の処理モジュールと、
    前記搬送モジュール及び前記処理モジュールの動作を制御する動作制御部と、を備え、
    前記処理モジュールは前記搬送モジュールのいづれかに接続され、かつ、前記搬送モジュール同士が接続される構成を有する半導体処理システムにおいて、
    前記動作制御部は、搬入される複数の被処理体について、前記被処理体の搬送ルートを複数生成し、前記搬送モジュールにおいて搬送動作に要する時間及び前記処理モジュールにおいて処理に要する時間に基づいて、それぞれの搬送ルートのスループットを算出することにより、前記複数の搬送ルートから1つの搬送ルートを決定することを特徴とする半導体処理システム。
  2. 前記搬送モジュールにおいて搬送動作に要する時間は、前記被処理体が搬送されるルートにおける搬送動作毎に定められることを特徴とする請求項1に記載の半導体処理システム。
  3. 前記処理モジュールにおいて処理に要する時間は、搬入される被処理体毎に定められることを特徴とする請求項1に記載の半導体処理システム。
  4. 請求項記載の半導体処理システムにおいて、
    前記動作制御部は、前記被処理体の搬送ルートについて、前記複数の搬送ルートの中からスループットが最も高い搬送ルートを選択し決定することを特徴とする半導体処理システム。
  5. 請求項記載の半導体処理システムにおいて、
    前記動作制御部は、前記複数の処理モジュールの中から、利用可能な処理モジュールを抽出する処理モジュール抽出手段と、
    前記抽出された利用可能な処理モジュールの情報に基づいて、複数の搬送ルートを生成する搬送ルート生成手段と、
    を備えることを特徴とする半導体処理システム。
  6. 請求項記載の半導体処理システムにおいて、
    前記動作制御部は、抽出された前記利用可能な処理モジュールの情報に基づいて、前記被処理体を搬送すべき搬送先候補情報を生成し、
    前記搬送ルート生成手段は、生成された前記搬送先候補情報と、事前に記憶装置に保存されている半導体処理装置の構造情報とを用いて、前記被処理体を搬送する搬送ルート生成することを特徴とする半導体処理システム。
  7. 請求項記載の半導体処理システムにおいて、
    前記動作制御部は、前記搬送先候補情報と、前記搬送ルート候補情報と、前記半導体処理装置の構造情報に基づき、前記搬送モジュール及び前記処理モジュールにより行われる動作を時系列に並べるシミュレーションを複数の搬送ルートに対して行い、それぞれのシミュレーションの結果より前記複数の搬送ルートのスループットを算出することを特徴とする半導体処理システム。
  8. 前記搬送モジュール及び前記処理モジュールは真空状態に保たれており、前記搬送モジュールの一つが、減圧及び加圧により真空状態と大気圧状態の切替が可能なロードロックに接続されており、前記被処理体は、前記ロードロックを介して前記搬送モジュールの一つに対して搬入されることを特徴とする請求項1ないしのいずれかに記載の半導体処理システム。
  9. 前記複数の搬送モジュールは、それぞれ処理モジュールに接続されていることを特徴とする請求項1ないしのいずれかに記載の半導体処理システム。
  10. 被処理体を搬送する搬送ロボットを有する複数の搬送モジュールと、前記被処理体に処理を施す複数の処理モジュールとを備え、前記処理モジュールは前記搬送モジュールのいづれかに接続され、かつ、前記搬送モジュール同士が接続される構成を有する半導体処理装置において前記被処理体の搬送ルートを決定する方法であって、
    搬入される被処理体について、前記搬送モジュールにおいて搬送動作に要する時間及び前記処理モジュールにおいて処理に要する時間を入力し、
    搬入される複数の前記被処理体のそれぞれについて、搬送ルートを複数生成し、入力された前記搬送動作に要する時間及び前記処理モジュールにおいて処理に要する時間に基づいて、それぞれの搬送ルートのスループットを算出することにより、前記複数の搬送ルートから1つの搬送ルートを決定することを特徴とする半導体処理方法。
  11. 前記搬送モジュールにおいて搬送動作に要する時間は、前記被処理体が搬送されるルートにおける搬送動作毎に定められることを特徴とする請求項10に記載の半導体処理方法。
  12. 前記処理モジュールにおいて処理に要する時間は、搬入される被処理体毎に定められることを特徴とする請求項10に記載の半導体処理方法。
  13. 請求項10記載の半導体処理方法において、前記被処理体の搬送ルートについて、前記複数の搬送ルートの中からスループットが最も高い搬送ルートを選択し決定することを特徴とする半導体処理方法。
  14. 請求項10記載の半導体処理方法において、
    前記複数の処理モジュールの中から、利用可能な処理モジュールを抽出し、
    前記抽出された利用可能な処理モジュールの情報に基づいて、複数の搬送ルートを生成することを特徴とする半導体処理方法。
  15. 請求項14記載の半導体処理方法において、
    抽出された前記利用可能な処理モジュールの情報に基づいて、前記被処理体を搬送すべき搬送先候補情報を生成し、
    生成された前記搬送先候補情報と、事前に記憶装置に保存されている半導体処理装置の構造情報とを用いて、前記被処理体を搬送する搬送ルート生成することを特徴とする半導体処理方法。
  16. 請求項15記載の半導体処理方法において、
    前記搬送先候補情報と、前記搬送ルート候補情報と、前記半導体処理装置の構造情報に基づき、前記搬送モジュール及び前記処理モジュールにより行われる動作を時系列に並べるシミュレーションを複数の搬送ルートに対して行い、それぞれのシミュレーションの結果より前記複数の搬送ルートのスループットを算出することを特徴とする半導体処理方法。
  17. 前記搬送モジュール及び前記処理モジュールは真空状態に保たれており、前記搬送モジュールの一つが、減圧及び加圧により真空状態と大気圧状態の切替が可能なロードロックに接続されており、前記被処理体は、前記ロードロックを介して前記搬送モジュールの一つに対して搬入されることを特徴とする請求項10ないし16のいずれかに記載の半導体処理方法。
  18. 前記複数の搬送モジュールは、それぞれ処理モジュールに接続されていることを特徴とする請求項10ないし17のいずれかに記載の半導体処理方法。
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Families Citing this family (13)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP5065167B2 (ja) * 2007-09-20 2012-10-31 東京エレクトロン株式会社 基板の処理方法及び基板の処理システム
JP5592863B2 (ja) * 2011-11-02 2014-09-17 株式会社日立ハイテクノロジーズ 真空処理装置および被処理体の搬送方法
JP2013143513A (ja) * 2012-01-12 2013-07-22 Hitachi High-Technologies Corp 真空処理装置
JP5738796B2 (ja) * 2012-04-11 2015-06-24 株式会社日立ハイテクノロジーズ 処理室割当設定装置及び処理室割当設定プログラム
JP2014036025A (ja) * 2012-08-07 2014-02-24 Hitachi High-Technologies Corp 真空処理装置または真空処理装置の運転方法
JP6105982B2 (ja) * 2012-09-21 2017-03-29 株式会社Screenホールディングス スケジュール作成装置、基板処理装置、スケジュール作成プログラム、スケジュール作成方法、および基板処理方法
JP6002532B2 (ja) * 2012-10-10 2016-10-05 株式会社日立ハイテクノロジーズ 真空処理装置及び真空処理方法
JP6216530B2 (ja) 2013-03-29 2017-10-18 株式会社日立ハイテクノロジーズ 真空処理装置の運転方法
CN104656571B (zh) * 2013-11-18 2017-07-04 北京北方微电子基地设备工艺研究中心有限责任公司 一种支持同时加工多片物料的路由控制方法和装置
JP2015211043A (ja) * 2014-04-23 2015-11-24 株式会社荏原製作所 基板処理方法
JP6981918B2 (ja) * 2018-05-11 2021-12-17 株式会社Screenホールディングス 基板処理方法、基板処理装置、およびコンピュータプログラム
JP7212558B2 (ja) * 2019-03-15 2023-01-25 キヤノン株式会社 基板処理装置、決定方法及び物品の製造方法
JP7324811B2 (ja) 2021-09-22 2023-08-10 株式会社Kokusai Electric 基板処理装置、半導体装置の製造方法、及びプログラム

Family Cites Families (19)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP3340174B2 (ja) 1993-03-17 2002-11-05 株式会社日立製作所 半導体装置の製造方法
US5928389A (en) * 1996-10-21 1999-07-27 Applied Materials, Inc. Method and apparatus for priority based scheduling of wafer processing within a multiple chamber semiconductor wafer processing tool
US6201999B1 (en) * 1997-06-09 2001-03-13 Applied Materials, Inc. Method and apparatus for automatically generating schedules for wafer processing within a multichamber semiconductor wafer processing tool
JPH11330197A (ja) 1998-05-15 1999-11-30 Hitachi Ltd 搬送制御方法とその装置
US6485203B2 (en) * 1999-12-20 2002-11-26 Tokyo Electron Limited Substrate processing method and substrate processing apparatus
EP1255294A4 (en) 2000-01-17 2009-01-21 Ebara Corp SEMI-SLIDE TRANSPORT CONTROL APPARATUS AND METHOD OF TRANSPORTING SEMICONDUCTED DISCS
US6519498B1 (en) * 2000-03-10 2003-02-11 Applied Materials, Inc. Method and apparatus for managing scheduling in a multiple cluster tool
US20020147960A1 (en) * 2001-01-26 2002-10-10 Applied Materials, Inc. Method and apparatus for determining scheduling for wafer processing in cluster tools with integrated metrology and defect control
JP2003197711A (ja) 2001-12-27 2003-07-11 Tokyo Electron Ltd 被処理体の搬送システム及び被処理体の搬送方法
TWI256372B (en) 2001-12-27 2006-06-11 Tokyo Electron Ltd Carrier system of polishing processing body and conveying method of polishing processing body
US7218983B2 (en) * 2003-11-06 2007-05-15 Applied Materials, Inc. Method and apparatus for integrating large and small lot electronic device fabrication facilities
US7458763B2 (en) * 2003-11-10 2008-12-02 Blueshift Technologies, Inc. Mid-entry load lock for semiconductor handling system
SG132670A1 (en) * 2003-11-10 2007-06-28 Blueshift Technologies Inc Methods and systems for handling workpieces in a vacuum-based semiconductor handling system
JP4545147B2 (ja) * 2004-05-17 2010-09-15 株式会社日立国際電気 基板処理装置及び半導体デバイス製造方法
US8078311B2 (en) * 2004-12-06 2011-12-13 Tokyo Electron Limited Substrate processing apparatus and substrate transfer method adopted in substrate processing apparatus
US7651306B2 (en) * 2004-12-22 2010-01-26 Applied Materials, Inc. Cartesian robot cluster tool architecture
US20080219807A1 (en) * 2007-03-05 2008-09-11 Van Der Meulen Peter Semiconductor manufacturing process modules
JP5089306B2 (ja) * 2007-09-18 2012-12-05 東京エレクトロン株式会社 処理システムの制御装置、処理システムの制御方法および制御プログラムを記憶した記憶媒体
CN101978389B (zh) * 2008-02-22 2014-07-09 村田机械株式会社 Vao生产率套件

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