JP5277541B2 - 高強度ジルコニア焼結体および製造方法 - Google Patents

高強度ジルコニア焼結体および製造方法 Download PDF

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Description

本発明は強度が極めて高く、透光感に優れるジルコニア焼結体に関する。特に歯科用途で使用されるジルコニア焼結体、さらには義歯材料等のミルブランク、歯列矯正ブラケットとして用いるのに適する。
安定剤としてYを少量固溶させたジルコニア焼結体(以下Y−TZPと略記する)は、高強度、高靭性であることから切断工具、ダイス、ノズル、ベアリングなどの機械構造用材料や歯科材料等の生体材料として広く利用されている。歯科材料の場合、高強度、高靱性という機械的特性のみならず、審美的観点から透光性及び色調という光学的特性も要求される。
Y−TZPの高強度化という機械的特性のみに焦点を当てた検討は従来からなされてきた。
Y−TZPにおける、高強度機構は焼結体中に含まれる正方晶相ジルコニアが応力によって単斜晶相にマルテンサイト型転移することに起因する。一般的なY−TZPの製造方法である常圧焼結においては、焼結体中に粗大な気孔が残存し、焼結体の破壊強度は粗大気孔の大きさによって影響され、粗大気孔が残存する常圧焼結体の3点曲げ強度は1200MPa程度である。このような気孔を強制的に排除する為に、熱間静水圧プレス(以下HIPを略記する)やホットプレスを用いた高強度化検討がなされている。
非特許文献1にはHIP加圧焼結法によって作製されたイットリア濃度2〜3mol%ジルコニア焼結体の3点曲げ強度が報告され常圧焼結体より高強度化が図られている。しかし最高平均強度としては1700MPa程度までであり、なおかつ通常のHIP処理であるため、透光性に十分なものではなかった。
特許文献1−3にはHIP等の加圧焼結法によって作製されたイットリア濃度2〜4mol%ジルコニアとアルミナ等酸化物との複合焼結体が2000MPa以上の高強度を示すことが開示されている。比較例としてアルミナ等酸化物を含まないイットリア濃度2〜4mol%ジルコニアの平均強度が示されているが、1650MPa以下でしかなく、非特許文献1と同様に透光性に十分なものではなかった。
特許文献4には、特許文献1−3と同様にイットリア濃度2〜4mol%ジルコニアとアルミナとの複合焼結体では2000MPa以上の高強度を示すことが開示されている。比較例としてアルミナ等酸化物を含まないイットリア濃度2〜4mol%ジルコニアの強度として最高平均強度1854MPaが記載されているが、非特許文献1と同様に透光性が十分なものではなかった。
透光性及び色調を備えた焼結体とするため、アルゴンHIPで黒色化した焼結体を大気中で加熱酸化する方法がある。(非特許文献2参照)しかし、再酸化した場合、焼結体強度が低下するという問題がある。
一方、ある程度の透光性を有するものとしてイットリアを含むジルコニアからなる歯列矯正ブラケットが開示されている。(特許文献5〜7参照)いずれも酸素混合ガスHIPを用いており、強度が1620MPa以下のものでしかなかった。
これまで1700MPa以上の高強度と審美的観点での透光性及び色調を兼ね備えたY−TZPは得られておらず、特にイットリア濃度2〜4mol%ジルコニアにアルミナ等酸化物を1wt%以上、実質的には10wt%以上複合化することなく、1900MPa以上の強度を示す焼結体は得られていなかった。
近年、Y−TZPの用途として歯科材料が登場し、義歯材料として利用され始めている。義歯作製方法の一つとして焼結体をCAD−CAMシステムによって所望の形状に加工する方法があり、この焼結体をミルブランクと称している。この焼結体には歯の噛み合わせに耐える十分な高強度と自然歯に近い透光感が必要とされている。現在用いられているY−TZPは1200MPa程度の強度と40%以下の全光線透過率を示す透光感の乏しい焼結体である。そこでミルブランクとして、更に高強度かつ透光性に優れた焼結体の開発が望まれている。
義歯、歯列矯正ブラケット等の歯科材料に使用されるY−TZPは、高強度のみならず透光性に基づく審美性をも有さなくてはならない。これまでに報告されているY−TZPの強度は、低いか、或いは高い場合にも審美的観点における透光性が十分なものではなかった。また特許文献1−4に開示されているアルミナ等の複合焼結体では、2000MPa以上の高強度を示すが、透光性に基づく審美性が十分でないという問題があった。
特に歯科材料として、歯列矯正ブラケットにおいては、より高強度かつ透光性に優れた焼結体が望まれている。
特開昭60−86073号公報 特開昭60−226457号公報 特開昭60−235762号公報 特開平3−80153号公報 特開平3−170148号公報 特開平08−117248号公報 特開平11−276504号公報 Ceramics Bulletin第64巻、310頁(1985) ジルコニアセラミックス8、宗宮重行、吉村昌弘編、内田老鶴圃、33−43頁(1986)
本発明は、高強度かつ透光性に基づく審美性を有するジルコニア焼結体を提供するものである。
本発明者等はY−TZPの焼結体に高強度と透光性及び色調を兼備させるべく鋭意検討を重ねた結果、強度向上手段としてHIP法を改善し、透光性及び強度の両方を満足するものを得ることができることを見出した。特に、透光性、強度の両方を満足する焼結体を得るためには、HIP処理する前の一次焼結体の組織、特に結晶粒径に強く依存していることを見出し、1wt%以上の多量の異種元素を複合化させることなく、実質的にY−TZPのみで従来にない高強度と高い透光性を達成することができることを見出した。
以下に本発明を詳細に説明する。
本発明の焼結体は安定化剤として2〜4mol%のイットリアを含むジルコニアからなり、平均3点曲げ強度1700MPa以上で、かつ厚さ0.5mmでの全光線透過率が43%以上である高強度イットリア含有ジルコニア焼結体であり、さらに好ましくは、平均3点曲げ強度1900MPa以上で、かつ厚さ0.5mmでの全光線透過率が45%以上である高強度イットリア含有ジルコニア焼結体である。
安定化剤が2mol%未満では、強度が低下するばかりか、結晶相が不安定となり焼結体の作製が困難となる。又、4mol%以上では強度低下が顕著となる。高強度に適するイットリア濃度は2.5〜3mol%であり、全光線透過率に適するそれは3〜4mol%である。強度は3mol%付近で最高となり、全光透過率はイットリア濃度が増加するほど高くなる傾向がある。
本発明の焼結体は高強度であり、平均3点曲げ強度は1700MPa以上であり、1900MPa以上であることが好ましく、特に2000MPa以上であることが好ましい。最適条件で製造されたものは2100MPaに達する高い値を有する。
本発明の焼結体は透光性に優れ、厚さ0.5mmでの全光線透過率が43%以上、さらに45%以上である。特に48%以上、さらには50%程度まであることが好ましい。
これら強度、透光性とも従来のHIP法による焼結体では達成できていないものである。
ジルコニアの色調は本来白色であり、Fe、Ni等の不純物が数10ppm含まれると象牙色となる。
本発明の焼結体の結晶相は、結晶相が3mol%以下のイットリアを含む正方晶蛍石型結晶相(I)のみ、或いは3mol%以下のイットリアを含む正方晶蛍石型結晶相(I)と5mol%以上のイットリアを含む正方晶蛍石型結晶相(II)との混合相からなり、正方晶蛍石型結晶相(I)の割合が50〜100%であることがさらに好ましい。ジルコニアの高強度機構は、応力印加による正方晶蛍石型結晶相(I)から単斜晶相転移に起因することから、高強度化の為には正方晶蛍石型結晶相(I)の存在が必須である。
本発明の焼結体として、焼結体中に10μm以上の気孔を含有せず、特に焼結体気孔率0.5%以下であることが好ましい。焼結体の強度および透光性は、内在する気孔量およびの大きさに影響されるので、高強度、高透光性を示す焼結体はこの条件を満足している。本発明の焼結体は、気孔を低減、縮小させ、強度および透光性の向上を実現したものである。
次に本発明の焼結体の製造法について説明する。
本発明の焼結体はイットリアを含有するジルコニア粉末を成形し、無加圧下で焼結した一次焼結体を、熱間静水圧プレス(HIP)により高温高圧処理することによって製造する方法において、相対密度95%以上の一次焼結体を用い、HIP処理を温度1200〜1600℃、圧力50MPa以上で行う。
本発明の焼結体はイットリアを含有するジルコニア粉末を成形し、無加圧下で焼結した後、熱間静水圧プレス(HIP)により高温高圧処理する方法において、無加圧焼結体の粒径が0.3μm以下、かつ相対密度95%以上のものを用いることが特に好ましい。
粉末成形は通常セラミックスで用いられる方法、例えば、プレス成形、冷間静水圧プレス(CIP)成形、鋳込み成形、押し出し成形、射出成形等の方法をすべて適用することが可能である。
HIP処理は焼結体中の残留気孔を消滅させる目的でなされる。温度として1200〜1600℃が適用可能であるが、高強度と高透光性を両立させるためには、1400℃以上が好ましい。
HIPでの圧力媒体としては通常用いられるアルゴンガスで十分である。圧力は50MPa以上必要であるが、通常適用される100〜200MPaであれば十分の効果が得られる。
本発明で用いる一次焼結体の相対密度は95%以上のものを用いる。相対密度95%未満ではアルゴンガスが焼結体内部に浸透し、透光性が低下する。
本発明では、HIP処理に供する無加圧焼結体の粒径を0.3μm以下に制御することが好ましく、それにより1900MPa以上の特に高強度が可能となる。0.3μm以下の小さな粒径からなる、95%以上緻密な焼結体を得るためには低温焼結性に優れる粉末を用いることが好ましい。
HIP処理に供する一次焼結体の平均結晶粒径を0.3μm以下、かつ相対密度95%以上緻密化したものとすることにより、相対密度95%以下でHIP処理において高圧ガスの焼結体内部への侵透が起こることを防止することができる。焼結体平均粒径は0.3μm以下が好ましく、更に好ましくは0.25μm以下とすることが好ましい。この様な一次焼結体を用いるれことにより、1900MPa以上の特に高い強度と45%以上の高い全光線透過率が達成できる。
HIP処理に供する焼結体の平均結晶粒径が小さくなるほど、HIP処理焼結体の強度が向上する。粒径が小さいものほどHIP高圧下での粒子の塑性流動が活発となり残留気孔の消滅が促進されると考えられる。焼結体平均結晶粒径は焼結温度に依存し、例えば0.3μmは約1300℃、0.25μmは約1250℃で得られる。
原料粉末としては、純度99%以上、比表面積5〜20m/g、結晶子径10〜70nmの微細粒子からなるものが適している。1300℃以下で95%以上に焼結する粉末としては、比表面積が大きいものが適しており、15〜20m/gが特に適している。
さらに焼結温度を下げる目的で、助剤としてアルミナ或いはアルミナ(Al)、スピネル(MgO・Al)、YAG(5Al・3Y)、ムライト(3Al・2SiO)、ホウ酸アルミ化合物(nB・Al n=0.5、1、2)等を用いても、本発明の目的の透明性を得ることができる。本発明の特性を満足するためにはこれらの成分は1wt%以下である。
可能な限り低温で95%以上緻密な焼結体を得るには原料粉末として純度99%以上、比表面積5〜20m/g、結晶子径10〜70nmの微細粒子からなる粉末に焼結助剤は1wt%以下まで添加した粉末が適する。添加量としては0.5wt%以下が好ましく、0.1〜0.3wt%が最適である。過剰な添加は逆に焼結温度を上げるからである。
アルミナを0.25wt%添加した粉末は市販されたものがあるが(例えば東ソー(株)製ジルコニア粉末3YE)、本発明者らはアルミナと同等以上の助剤効果を示すものとして、アルミナ複合酸化物であるスピネル、YAG、ムライト、ホウ酸アルミ酸化物を見出した。特に、スピネル添加はアルミナ添加より同一焼結温度で粒径の小さい焼結体を与える。例えば1300℃の焼結では、アルミナ0.25wt%添加は粒径0.3μmであるが、スピネルを0.35wt%添加すると、0.25μmとさらに小さくなる。焼結助剤を微量添加することにより、1200〜1250℃での低温焼結が可能となり、粒径0.15μm〜0.2μmの小さい結晶粒径をもつ相対密度95%以上の焼結体が得られる。
本発明の製造方法ではアルゴンガス等の非酸化性ガスを圧力媒体として用いるHIP処理において、HIP処理装置中に半密閉状態の容器を配し、当該容器中に無加圧焼結体を配して処理することが特に好ましい。このような半密閉状態でのHIP処理をすることにより、特に高い全光線透過率を得ることができる。
用いる容器としては、例えばアルミナ、ジルコニア等の酸化物セラミックス製のものを用いることができる。本発明で言う半密閉状態とは完全に密閉された雰囲気ではなく、HIP処理中に圧力媒体である媒体ガスの移動がセラミックス製容器内外で抑制された状態をいう。この様な状態ではHIP処理装置内における媒体ガスの雰囲気とセラミックス製容器内の無加圧焼結体周辺の媒体ガスの雰囲気が異なるものとなる。
本発明における半密閉状態とは高度な密閉性を要求するものではなく、例えばアルミナルツボやこう鉢の開口部にアルミナ平板を置いた程度で達成される密閉状態である。半密閉状態とせずHIP処理した場合、焼結体は黒色化するが、本発明の半密閉状態とした場合、焼結体の着色がない。黒色化した焼結体は再度酸化雰囲気中800℃以上でアニールすることにより、元の色に戻せるが、焼結体の強度は低下し、また本発明レベルの高全透過率は得られない。
本発明の方法で特に全光透過率が高く、高強度のない焼結体が得られる理由は必ずしも明確ではないが、半密閉状態とせず処理した場合には焼結体中に微量の炭素成分が混入し、それが再加熱によってガス化し、微小気孔が形成され透光性及び強度が損なわれることが考えられる。ここでの炭素成分はアルゴンガス媒体中に微量残留する酸素と、HIP装置に用いられる発熱体や断熱材に使用されているカーボンとの反応によって生成する一酸化炭素ガスが主なものが考えられる。本発明では焼結体を半密閉空間に配置することにより、焼結体と一酸化炭素ガスとの接触頻度を低減し、焼結体内部への炭素成分の混入を抑制できると考えられる。
次に本発明の焼結体の用途について説明する。
近年、ジルコニア義歯をCAD−CAMシステムで作製する方法が開発され、実用化されている。作製法は義歯骨格形状をCADに取り込み、その情報をミリング加工(CAM)ユニットに伝達して、ジルコニアからなるミルブランクを自動加工して精密形状を作り上げるものである。代表的なシステムとして、ミルブランクに焼結前の粉末仮焼体を用い、焼結収縮を計算した大きさで加工したものを焼結するシステムとミルブランクに焼結体そのものを用い加工するシステムが知られている。前者として、Cercon、Lava等のシステムが、後者としてDC−Zircon等のシステムが知られている。
義歯として用いるジルコニア焼結体には、強度と透光性が求められる。従来、3mol%Yを含むジルコニアの常圧焼結体が用いられており、強度は1000〜1400MPa、全光線透過率は30〜40%である。強度並びに透光性を向上させる目的で焼結体をHIP処理することも考えられるが、HIP処理では前述の通り、強度は1600〜1850MPa、全光線透過率は40%程度に留まる。
本発明のHIP処理焼結体では強度1700MPa以上、全光線透過率43%以上であるため、従来の焼結体より信頼性と審美性に優れた義歯用素材となる。これは10μm以上の気孔を完全に消滅したことにより、気孔に支配される特性である強度、全光線透過率が向上するためと推定される。
本発明の焼結体は歯列矯正ブラケットの本体やそれに用いる部品としても適している。近年、歯列矯正ブラケットの形状はより複雑なものとなっているため、審美上の透光性が高いままで、今まで以上に素材強度が要求されている。図1にそのようなブラケットの形状の一例を示す。本発明の焼結体はブラケット本体、周辺部品に有効に使用できる。
このような複雑形状の部品の成形にはインジェクションモールディングが特に適している。原料粉末と熱可塑性有機樹脂とを混練してなるコンパウンドを加温した金型に射出し、所望形状とした後、脱脂炉にて樹脂を焼成除去すればよい。
本発明の焼結体は、高強度でありなおかつ透光性に基づく審美性を有しているため、切断工具、ダイス、ノズル、ベアリング、ローラーなどの機械構造材料への適用は当然のこと、歯科分野おいて利用されている義歯用材料、歯列矯正ブラケットとして特に有効である。
以下、実施例により本発明を具体的に説明するが、本発明はこれら実施例に限定されるものではない。
本発明の焼結体特性の評価方法を以下に記載する。
(3点曲げ強度)
3点曲げ強度の測定は、万能試験機オートグラフDCS−2000(島津製作所製)を用いJIS−R−1601に基づき、幅4mm、厚さ3mm、長さ40mmの試験体をスパン長さ30mm、クロスヘッドスピード0.5mm/minの条件で実施した。それぞれの試料について5本テストピースを作製し、曲げ試験を実施した。
(全光線透過率)
全光線透過率は濁度計NDH2000(NIPPON DENSOKU製)を用い、JIS K361−1に準拠した方法により測定した。本装置は光源である標準光D65を試料に当て、透過した光束を積分球によって検出する。試料として、直径25mm、厚さ0.5mmで両面を鏡面研磨した焼結体を用いた。
(結晶相の同定)
焼結体の結晶相の同定はXRD測定によるリートベルト解析により実施した。XRD測定は、粉末X線回折装置マックサイエンスMXP3(マックサイエンス製)を用い焼結体の焼き肌面について、2θ=20〜90°、ステップ幅:0.04°、各ステップでの測定時間:20秒の条件で測定した。またリートベルト解析は、プログラムRietan−2000を用い、各焼結体の結晶相、分率および格子定数を決定した。この測定、解析の詳細については、I. Yamashita, K. Tsukuma, J. Cer
am. Soc. Jpn., Vol 113 [8] 530−533 (2005)に記載されている。更に得られた格子定数から式1および式2によって正方晶中のY濃度を決定した。正方晶中のイットリア濃度とは、以下の(1)式によって格子定数から換算した。この式は、I. R. Gibsonら J. Am. Ceram. Soc., Vol 84 [3] 615−18 (2001)に記載されている。
YO1.5=(1.0223−c/a)/0.001319 (1)
、c:蛍石型構造における正方晶格子定数
YO1.5:イットリア濃度
なおY濃度は、(2)式によって換算した。
=100×YO1.5/(200−YO1.5) (2)
(焼結体平均粒径)
焼結体粒径は焼結体を鏡面研磨し、焼結体の最高経験温度より50℃低い温度で1時間熱エッチングした面をSEM観察することにより測定した。SEM測定は、走査型電子顕微鏡JSM−5400(JEOL製)を用い実施した。
J. Am. Ceram. Soc., 52[8]443−6(1969)に記載されている方法に従い、(3)式から算出した。
D=1.56L (3)
D:平均結晶粒径 L:任意の直線を横切る粒子の平均長さ
(相対密度)
焼結体密度は、アルキメデス法による水中重量の測定から求めた。相対密度は理論密度を2mol%Y 6.107g/cm、3mol%Y 6.089g/cm、4mol%Y 6.068g/cmとして、以下のように算出した。
相対密度 (%)=100X(焼結体密度)/(理論密度) (4)
(焼結体気孔率)
焼結体気孔率は以下のように算出した。
焼結体気孔率 (%)=100−(相対密度) (5)
実施例1〜3
(原料粉末)
東ソー(株)製3mol%イットリア含有ジルコニア粉末(製品名TZ−3YE)を用いた。粉末の比表面積は15.5m/g、結晶子径は23nmである。アルミナが0.25wt%含有されており、Y、Zr、O、Al以外の不純物総量は1wt%以下であった。
(試料作製)
一軸プレス装置と金型を用い、圧力70MPaを加えて40mm×50mm、厚さ5mmの板状成形体とし、これをゴム型に入れ冷間静水圧プレス装置で圧力200MPaを加え固めた。これらを大気中1250〜1300℃の各温度で2時間焼結し一次焼結体を得た。一次焼結体をアルミナ製容器に入れ、当該容器の開口部にアルミナ製平板の蓋を置くことによって半密閉状態として、HIP装置内に設置し、アルゴンガス媒体中、温度1400〜1500℃、圧力150MPaで処理した。このようにして得られた焼結体は黒色味がなく、ほぼ処理前と同じ色調を保っていた。密度、平均粒径、強度測定、全光線透過率測定、破壊源観察を行った。
(測定結果)
一次焼結体、HIP処理体の密度、および曲げ強度、全光線透過率を測定した結果を表1に示す。なお、密度6.08g/cmは気孔率0.15%と算定される。
Figure 0005277541
表1記載の焼結体についてXRD測定による相同定を行った。焼結体の結晶構造を表2に示す。
Figure 0005277541
実施例4,5、比較例1
実施例1記載の原料粉末を用いた実施例1記載の試料作製法において、一次仮焼温度を1400〜1600℃、HIP処理温度1250〜1400℃として作製した焼結体についての一次焼結体、HIP処理体の密度、および曲げ強度、厚さ0.5mmにおける全光線透過率を表2に示す。
一次焼結体を作製するときの焼結温度を1600℃とした場合、一次焼結体の平均粒径は1.45μmと大きくなっており、HIPした試料の強度は1058MPa、強度が低かった。
Figure 0005277541
実施例1(表1のA1)、比較例1(表2のB2)の焼結体のSEMによる破壊源観察を図1に示す。実施例1の破壊源は、いずれも直径10μm以下の気孔であったが、比較例1では10μm以上の気孔が含まれていた。
比較例2
実施例1の試料番号A1と同様の方法で作製した一次焼結体を黒鉛製容器に入れ、開口部に蓋をせず、HIP装置に配置し、アルゴンガス媒体中、温度1500℃、圧力150MPaで処理した。このようにして得られた焼結体は黒色味を帯びたものであった。この焼結体を大気中1200℃で2時間、酸化処理して、色調をHIP処理前とほぼ同等にまで戻した。この試料の平均曲げ強度は1250MPa、全光線透過率は35%であった。実施例1と比較して、強度、全光線透過率とも低かった。
実施例6〜47
(焼結助剤添加粉末)
東ソー(株)製3mol%イットリア含有ジルコニア粉末(製品名TZ−3Y)にアルミナ、スピネル、YAG、ムライト、ホウ酸アルミ化合物をAl換算で0.31mol%添加、ボールミル混合したものを原料粉末とした。なおホウ酸アルミ化合物に関しては、アルミナ(Al)とホウ酸(B)をジルコニア粉末に添加したものを原料粉末とした。
(試料作製)
一軸プレス装置と金型を用い、圧力70MPaを加えて40mm×50mm、厚さ5mmの板状成形体とし、これをゴム型に入れ冷間静水圧プレス装置で圧力200MPaを加え固めた。これらを大気中1100〜1500℃の各温度で2時間焼結し焼結体を得た。このようにして得られた焼結体の密度をアルキメデス法により測定した。
(測定結果)
焼結体密度測定の結果を表4に示す。
Figure 0005277541
表4記載の焼結体についてSEMによる粒径観察を実施した。1300℃焼結体試料のSEM象を図2に示す。スピネル添加したものは、アルミナ添加のものと比較してグレインが微細化していた。アルミナ0.25wt%添加は粒径0.3μmであるが、スピネル0.35wt%添加では0.25μm程度であった。
表4記載の焼結体の典型的な代表例についてのHIP焼結体の密度、平均粒径、強度測定、全光線透過率測定の結果を表5に示す。
Figure 0005277541
実施例48、49
2.5mol%Yを含むジルコニア粉末を、比表面積15.5m/g、一次結晶粒子径23nmの3mol%Yを含むジルコニア粉末(東ソー製TZ−3Y)と比表面積16.8m/g、一次結晶粒子径20nmの2mol%Yを含むジルコニア粉末(東ソー製TZ−2Y)から調製した。両者を所定量合わせ、エタノール中でボールミル混合後、ロータリーエバポレーターにて減圧乾燥・解砕し原料とした。又、3.5mol%Yを含むジルコニア粉末を、上記3mol%Yを含むジルコニア粉末(東ソー製TZ−3Y)と比表面積14.6m/g、一次結晶粒子径20nmの4mol%Yを含むジルコニア粉末(東ソー製TZ−4Y)から同様にして調製した。
これらの粉末を用い、一次焼結体の焼結温度を1350℃とし、HIP温度を1400℃とし、実施例1と同様の方法で焼結体を得た。2.5mol%Yを含む試料の平均曲げ強度は2003MPa、全光線透過率は44%であった。2.5mol%Yを含む試料の平均曲げ強度は1809MPa、全光線透過率は48.5%であった。
実施例50
実施例1で用いたTZ−3YE粉末500gにワックス系熱可塑性樹脂100gを添加し、加温した混練機で練り混ぜコンパウンドを調合した。コンパウンドを射出成形機により押し出し、図3に示すブラケット部品を成形した。成形体を900℃まで加熱し脱脂した後、大気中1350℃、2時間焼結した。この焼結体を実施例1に記載の操作方法で、アルゴンガス媒体中、1500℃、1hr、150MPaでHIP処理を行った。
同様の条件で得た焼結体プレートで測定したものと同一の密度6.08g/cm(気孔率0.15%)であった。焼結体プレートで測定した、曲げ強度、全光線透過率は、平均曲げ強度1950MPa、全光線透過率45.2%であった。
ブラケット形状においても、部品の色調は黒色味のない、透明性、審美性に優れるものであった。
焼結体の破壊源を示す図である。(1)本発明の焼結体破壊源(表1試料番号A1)(2)比較例2の焼結体破壊源(表2試料番号B2) 本発明の焼結体グレインSEM写真(1)アルミナ0.25wt%添加1300℃焼結体(表4試料番号C3)(2)スピネル0.35wt%添加1300℃焼結体(表4試料番号F3) 歯列矯正ブラケットの外観図の例。

Claims (11)

  1. 2〜4mol%のイットリア、ジルコニア及び1wt%以下の焼結助剤からなる、イットリアを含むジルコニア焼結体であって、3点曲げ強度1700MPa以上2100MPa以下で、かつ厚さ0.5mmでの全光線透過率が43%以上50%以下である高強度イットリア含有ジルコニア焼結体。
  2. 3点曲げ強度1900MPa以上2100MPa以下で、かつ厚さ0.5mmでの全光線透過率が45%以上50%以下である請求項1記載のジルコニア焼結体。
  3. 結晶相が3mol%以下のイットリアを含む正方晶蛍石型結晶相(I)のみ、或いは3mol%以下のイットリアを含む正方晶蛍石型結晶相(I)と5mol%以上のイットリアを含む正方晶蛍石型結晶相(II)との混合相からなり,正方晶蛍石型結晶相(I)の割合が50−100%であることを特徴とする請求項1又は請求項2に記載のジルコニア焼結体。
  4. 焼結体中に10μm以上の気孔を含有せず、焼結体気孔率が0.5%以下であることを特徴とする請求項1〜3のいずれかに記載のジルコニア焼結体。
  5. 請求項1〜4のいずれかに記載の焼結体を用いた歯科材料用ジルコニア焼結体。
  6. 歯科材料が歯列矯正ブラケットである、請求項5記載の焼結体。
  7. 2〜4mol%のイットリア、ジルコニア及び1wt%以下の焼結助剤とからなる、イットリアを含有するジルコニア原料粉末を成形し、無加圧下で焼結した一次焼結体を熱間静水圧プレス(HIP)装置により高温高圧処理する方法において、無加圧下で焼結した一次焼結体として相対密度95%以上の焼結体を得、次いで当該一次焼結体をHIP装置内に配した半密閉状態の容器中に入れて、温度1200〜1600℃、圧力50MPa以上でHIP処理することを特徴とする請求項1〜5のいずれかに記載のジルコニア焼結体の製造方法。
  8. 一次焼結体の粒径が0.3μm以下であることを特徴とする請求項7に記載の製造方法。
  9. イットリアを含有するジルコニア原料粉末として、当該原料粉末中のイットリア、ジルコニア及び焼結助剤の合計含有量99wt%以上、比表面積5〜20m/g、結晶子径10〜70nmであることを特徴とする請求項7又は請求項8記載の製造方法。
  10. 結助剤として下記に記載するアルミナ化合物のうち少なくとも1種類を用いることを特徴とする請求項7〜9のいずれかに記載の製造方法。
    アルミナ化合物:アルミナ(Al)、スピネル(MgO・Al)、YAG(5Al・3Y)、ムライト(3Al・2SiO)、ホウ酸アルミ化合物(nB・Al n=0.5、1、2)
  11. 半密閉状態が開口部を有するセラミックス製容器の開口部にセラミックス製平板を置いて形成してなる請求項7に記載の製造方法。
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