JP5273742B2 - 複合検出装置 - Google Patents
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Description
特許文献1に記載の複合検出装置は電荷転送型のpH検出装置と同じく電荷転送型の光検出装置とを融合させた構成であるが、pH値の検出と光の検出とが時系列的に交互に行われている。即ち、pH値の検出時間と光の検出時間との間に僅かながらも差が生じている。
高いS/N比を確保するため、pH検出装置にはセンシング部の電荷を累積することが求められる。1回の電荷累積に要する時間を1ミリ秒とすると、100回の累積を行えば0.1秒が必要になり、この間は光の検出をすることができない。
複合検出装置をマトリックス状に配置することにより、検出対象のpH分布(pHイメージ)や光分布(光イメージ)を測定することができる。
そこでこの発明は、pH等の物理・化学現象の値と光等のエネルギー線の量の検出とを同時に行うことのできる複合検出装置を提案することを目的とする。
化学・物理現象に対応してポテンシャルが変化する第1のセンシング部と、
前記第1のセンシング部へ第1の電荷を供給する第1の電荷供給部と、
前記第1のセンシング部と第1の前記電荷供給部との間に形成される第1の電荷供給調節部と、
前記第1のセンシング部から転送された第1の電荷を蓄積する第1の電荷蓄積部と、
前記第1のセンシング部と前記第1の電荷蓄積部との間に形成される第1の電荷転送調節部とを備えてなる、化学・物理現象検出系と、
前記第1のセンシング部は光その他のエネルギー線を受けて前記第1の電荷と第2の電荷とを生成する半導体電荷生成部を備え、
該半導体電荷生成部と、
該半導体電荷生成部で生成された第2の電荷を蓄積する第2の電荷蓄積部であって、前記第1のセンシング部を基準にして前記第1の電荷蓄積部とは反対側の電位を有する第2の電荷蓄積部と、を備えてなるエネルギー線検出系と、
を具備する複合検出装置。
ここにおいて、光電効果により発生した電子は伝導帯へ、ホールは荷電子帯へ移動する。電子は電位が高いほうへ移動するので、電位の井戸へ移動する。逆にホールは電位が低い方へ移動する。基板表面(S)から遠いところで発生したホールは図1で右側方向(基板裏面側)へ逃げる。一方、基板表面(S)に近いところ(電位の谷(V)より基板表面(S)側)で発生したホールは基板表面(S)に形成される電位の山に蓄積される。このホールを光出力として読み出すことができる。
以上より、埋め込みチャネルの膜厚は(即ち、nドーパントのドープ深さは)、エネルギー線が侵入可能な厚さと等しいかそれより厚くする
第1〜第3のいずれかの局面に規定の複合検出装置において、前記電荷供給部と前記第1の電荷蓄積部とは前記第1のセンシング部の対向する2辺に形成され、前記第2の電荷蓄積部は前記第1のセンシング部において残りの辺に形成される。
このように規定された複合検出装置によれば、化学・物理現象検出系として汎用的な構成が採用されるので、製造プロセスが容易である。
第1〜第3のいずれかの局面に規定の複合検出装置において、前記電荷供給部と前記第1の電荷蓄積部とは前記第1のセンシング部において隣り合う2辺に形成され、前記第2の電荷蓄積部は前記第1のセンシング部において残りの隣り合う辺に形成される。
このように規定される第5の局面の複合検出装置によれば、第2の電荷蓄積部が第1のセンシング部において隣り合う辺に形成される。隣り合う辺にそれぞれ形成された第2の電荷蓄積部はこれを連続体とすることができるので、第2の電荷蓄積部の大容量化が可能となり、エネルギー線検出のダイナミックレンジが広くなる。
第1〜第5のいずれかの局面に規定の複合検出装置において、前記第2の電荷蓄積部には絶縁膜を介して出力ゲートが積層され、前記第2の電荷蓄積部に蓄積された前記第2の電荷に対応したキャパシタンスカップリングとして前記出力ゲートに生成された第1の電荷を読み出す手段が更に備えられている。
このようにして読み出された第1の電荷(第2の電荷蓄積部に蓄積された第2の電荷に対応している)は、例えば簡易な構成のソースフォロワー回路などにより電圧に変換され、出力とされる。即ち、この6の局面に規定の複合検出装置を採用することにより、第2の電荷蓄積部に蓄積された第2の電荷の量に基づき、エネルギー線の量を簡易に特定することが可能となる。
第1〜第5のいずれかの局面に規定の複合検出装置において、前記第2の電荷蓄積部の電位に基づきポテンシャルが変化する第2のセンシング部と、
前記第2のセンシング部へ第1又は第2の電荷を供給する第2の電荷供給部と、
前記第2のセンシング部と前記第2の電荷供給部との間に形成される第2の電荷供給調節部と、
前記第2のセンシング部から転送され前記第1又は第2の電荷を蓄積する第3の電荷蓄積部と、
前記第2のセンシング部と前記第3の電荷蓄積部との間に形成される第2の電荷転送調節部とを備え、
前記第2の電荷供給部から前記第2のセンシング部へ電荷を供給するタイミングは前記第1の電荷供給部から前記第1のセンシング部へ電荷を供給するタイミングと同期しており、前記第2のセンシング部から前記第3の電荷蓄積部へ電荷を転送するタイミングは前記第1のセンシング部から前記第1の電荷蓄積部へ電荷を転送するタイミングと同期している。
このように規定された第7の局面に記載の発明によれば、第2の電荷蓄積部の電位(ここに蓄積された第2の電荷に依存)を電荷転送型の電位センサで検出するので、第2の電荷蓄積部に蓄積される電荷の量を正確に測定できる。
このとき、電荷転送型の電位センサの構造を化学・物理現象検出系の構造と同一もしくは同種とすることにより、その製造が容易になる。
また、両者の動作のタイミングを同期させることにより、制御も容易になる。
11 半導体基板
13 絶縁層
20 pH検出系
21 センシング部
22 電荷供給部
23 電荷供給調節部
26 第1の電荷蓄積部
27 電荷転送調節部
31 第2の電荷蓄積部
図2に示す複合検出装置1はpH検出系10と光検出系30とを備えている。
pH検出系10は、図2においてC線に沿って形成されている。このpH検出系10は従来と同様な構成を採る。即ち、図3(A)に示すように、シリコン基板(p型)11の表面にn層及びn+層が形成される。シリコン基板11の表面にはシリコン酸化膜(絶縁膜)13が形成され、この絶縁膜13の上に金属膜がパターニングされて各種の電極を形成する。n層が埋め込みチャネル層15となる。
センシング部21において絶縁膜13の表面には検出対象にウエットな状態で接触できるように凹部が形成されるとともに、参照電極25が配設される。センシング部21において基板11の表面には埋め込みチャネル層(n層)が形成されている。
かかるセンシング部21が検出対象に触れると、そのpHに応じてポテンシャルが変化する。また、センシング部21へ光が導入されると光電効果により電子とホールが形成される。ここにセンシング部21には埋め込みチャネル層が形成されているので、既述のように(図1参照)ホールの一部が基板表面のポテンシャルの山部へ蓄積される。他方電子はpHに応じて形成されたポテンシャルの井戸へ入り込む。
センシング部21と入力調節ゲート電極ICGとの間に、独立に制御可能な第2の入力調節ゲート電極を形成することができる。当該第2の入力調節ゲート電極によりセンシング部21に連続するポテンシャル井戸を形成し、センシング部21に残存する電子を当該ポテンシャル井戸へ吸い込ませることができる。
第1の電荷蓄積部26に蓄積された電子は、所定のタイミングで図5に示すソースフォロワー回路に読み出され、出力電圧Voutに変換される。即ち、第1の電荷蓄積部26に蓄積された電荷に応じてMOSのゲート電圧が変化すると抵抗に流れる電流が変化し、その結果、出力電圧Voutが変化する。
リセットゲート電極RG及びリセットダイオードは第1の電荷蓄積部26の電荷をリセットするためのものである。
図3(A)に示す符号31は第2の電荷蓄積部である。センシング部21の電位からみたとき、第2の電荷蓄積部31のポテンシャルは第1の電荷蓄積部26と反対側にある。これにより、センシング21の表面側において光電効果により生成されたホールであって、当該第2の電荷蓄積部31に近いものがこの第2の電荷蓄積部31へ蓄積される(図1参照)。
第2の電荷蓄積部31は半導体基板11へ、絶縁膜13を介してフローティングゲート電極FGを対向させてなる。
符号33はn+領域である。
図4からわかるように、第2の電荷蓄積部31は、比較的高電位の入力調節ゲート電極ICGとリセットゲート電極RG2ではさまれている。これら電極によるポテンシャルの井戸36、37と、n+領域33によるポテンシャルの井戸により、第2の電荷蓄積部31は他の領域から独立している。換言すれば、どのタイミングにおいてもホールを蓄積することができる。
図3(B)は前回の検出結果として電子が第1の電荷蓄積部26に存在し、第2の電荷蓄積部31にはホールが蓄積されている。
この状態から第1の電荷蓄積部26の電荷及びフォローティングゲート電極FGの電荷をそれぞれに接続されたソースフォロア回路へ読み出して、出力電圧Voutを得る。
その後、図3(C)に示すように、リセットゲート電極RGの電位を調節して第1の電荷蓄積部26の電荷をリセットダイオードRDから外部へ排出する。一方、第2の電荷蓄積部31に蓄積されたホールは、第2のリセットゲート電極RG2の電位を調整してポテンシャルの井戸37を消失させる。これにより、ホールは基板表面へ拡散し、消滅する。
これにより、複合検出装置1はリセットされる。
図3(D)では電荷供給部22から電子をあふれ出させてセンシング部21を電子で充満する。次に、図3(E)に示すように、電荷供給部22の電子を減少させると、電荷供給調節部23のポテンシャルの壁により、センシング部21の電子がすり切られて、センシング部21には、そのポテンシャルの深さ(pHに依存)に対応した量の電子が残存する。
図3(F)では転送ゲート電極TGの電位を調節して、センシング部21に残存した電子を第1の電荷蓄積部26へ転送し、そこに蓄積する。
図3(D)〜図3(F)までの動作を繰り返すことにより、第1の電荷蓄積部には電子が累積されることとなる。
この間(図3(D)〜図3(F)を繰り返す間)、センシング部21へ入射した光により形成されるホールは継続して、即ち何ら途切れることなく、第2の電荷蓄積部31へ蓄積される。ホールの形成は入射された光の量に比例する。即ち、pH値の検出を行うと同時にセンシング部へ入射された光の量が検出されることとなる。
この状態から、第1の電荷蓄積部26の電荷及びフォローティングゲート電極FGの電荷をそれぞれに接続されたソースフォロア回路へ読み出せば、同時に、pH値に対応した出力電圧VoutとpH値を測定した間にセンシング部へ入射された光の量に対応した出力電圧Voutを得ることができる。
この例では、フローティングゲート電極FGの電荷量を、汎用的な化学・物理現象測定装置を用いて測定するものであり、当該化学・物理現象測定装置には、実施例のpH検出系10と同種の構成を採用している。これにより、製造工程の共通化が達成でき測定装置の製造コストが削減される。
図6の測定装置において、電荷供給のタイミング及び電荷転送のタイミングは、図2の複合検出装置1におけるそれらのタイミングと同期させることが好ましい。なお、電荷を転送するタイミング(図6(F)参照)で第2のリセットゲート電極RG2をオンして、第2の電荷蓄積部31に蓄積されたホールを一旦リセットすることが好ましい。これにより、pH値の検出と光の検出とをより精密に同期させられる。
図2の複合測定装置1では、矩形のセンシング部21に対してその対向する2辺の一方側に電荷供給部及び電荷供給調節部を配置し、他方の辺に第1の電荷蓄積部及び電荷転送調節部を配置し、センシング部21において残りの一辺に第2の電荷蓄積部が配設されている。
図7の例では、センシング部21において相対向する2辺に第2の電荷蓄積部を配設させた。即ち、図2との比較において、センシング部21の下側辺に沿って第2のフローティングゲート電極FG2、第3のリセットゲート電極RG3、及び第2のn+領域が形成されている。
第2のフローティングゲート電極FG2は、図5に示したソースフォロワー回路若しくは図6に示した測定装置へ接続される。
図8の例では、矩形のセンシング部21において隣り合う辺の一方側に電荷供給部及び電荷供給調節部を配置し、他方の辺に第1の電荷蓄積部及び電荷転送調節部を配置し、センシング部21において残りの隣り合う2辺に第2の電荷蓄積部が配設されている。
これにより、第2の電荷蓄積部の容積が大きくなり、より多くのホールを蓄積可能となる。これにより、大きなダイナミックレンジを確保できる。また、図7の例に比べて図8の例では、フローティングゲートが1本に集約されるので、構成が簡素化され、小型を達成できる。
Claims (9)
- 化学・物理現象に対応してポテンシャルが変化する第1のセンシング部と、
前記第1のセンシング部へ第1の電荷を供給する第1の電荷供給部と、
前記第1のセンシング部と第1の前記電荷供給部との間に形成される第1の電荷供給調節部と、
前記第1のセンシング部から転送された第1の電荷を蓄積する第1の電荷蓄積部と、
前記第1のセンシング部と前記第1の電荷蓄積部との間に形成される第1の電荷転送調節部とを備える、化学・物理現象検出系と、
前記第1のセンシング部に設けられ、光を含むエネルギー線を受けて前記第1の電荷と極性の異なる第2の電荷とを生成する半導体電荷生成部と、
前記第1のセンシング部を基準にして前記第1の電荷蓄積部とは反対側の電位を有し、該半導体電荷生成部で生成された第2の電荷を蓄積する第2の電荷蓄積部と、を備えるエネルギー線検出系と、
を具備することを特徴とする複合検出装置。 - 前記第2の電荷蓄積部が、前記第1の電荷供給調節部に隣接して配置される、ことを特徴とする請求項1に記載の複合検出装置。
- 前記第2の電荷蓄積部に隣接して、前記第2の電荷蓄積部に蓄積した前記第2の電荷を除去するためのリセット部と前記第2の電荷蓄積部と反対側の電位を有する高不純物領域とを備え、
前記第2の電荷蓄積部は、前記半導体電荷生成部、前記第1の電荷供給調節部、前記リセット部及び前記高不純物領域とに囲まれて配置されることにより、前記第1のセンシング部を基準にして前記第1の電荷蓄積部とは反対側の電位を有し、前記半導体電荷生成部で生成された前記第2の電荷を蓄積する、ことを特徴とする請求項1又は2に記載の複合検出装置。 - 前記第1の電荷は電子であり、前記第2の電荷はホールである、ことを特徴とする請求項1〜3のいずれかに記載の複合検出装置。
- 前記半導体電荷生成部では半導体基板表面に該基板と異なる導電形の埋め込みチャネル層が形成されている、ことを特徴とする請求項1〜4のいずれかに記載の複合検出装置。
- 前記第1の電荷供給部と前記第1の電荷蓄積部とは前記第1のセンシング部の対向する2辺に形成され、前記第2の電荷蓄積部は前記第1のセンシング部において残りの辺に形成される、ことを特徴とする請求項1〜5のいずれかに記載の複合検出装置。
- 前記第1の電荷供給部と前記第1の電荷蓄積部とは前記センシング部において隣り合う2辺に形成され、前記第2の電荷蓄積部は前記センシング部において残りの辺に形成される、ことを特徴とする請求項1〜5のいずれかに記載の複合検出装置。
- 前記第2の電荷蓄積部には絶縁膜を介して出力ゲートが積層され、前記第2の電荷蓄積部に蓄積された前記第2の電荷に対応したキャパシタンスカップリングとして前記出力ゲートに生成された第1の電荷を読み出す手段が更に備えられている、ことを特徴とする請求項1〜7のいずれかに記載の複合検出装置。
- 前記第2の電荷蓄積部の電位に基づきポテンシャルが変化する第2のセンシング部と、
前記第2のセンシング部へ第1又は第2の電荷を供給する第2の電荷供給部と、
前記第2のセンシング部と前記第2の電荷供給部との間に形成される第2の電荷供給調節部と、
前記第2のセンシング部から転送され前記第1又は第2の電荷を蓄積する第3の電荷蓄積部と、
前記第2のセンシング部と前記第3の電荷蓄積部との間に形成される第2の電荷転送調節部とを備え、
前記第2の電荷供給部から前記第2のセンシング部へ電荷を供給するタイミングは前記第1の電荷供給部から前記第1のセンシング部へ電荷を供給するタイミングと同期しており、前記第2のセンシング部から前記第3の電荷蓄積部へ電荷を転送するタイミングは前記第1のセンシング部から前記第1の電荷蓄積部へ電荷を転送するタイミングと同期している、ことを特長とする請求項1〜7のいずれかに記載の複合検出装置。
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