JP5270873B2 - 多重トーン光マスク、これの製造方法及びこれを用いる薄膜トランジスタ基板の製造方法 - Google Patents
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Description
第1半透過層パターン、第2半透過層パターン、及び第3半透過層パターンは、それぞれ酸化クロム層、窒化クロム層、酸化窒化クロム層、及びモリシリサイド層から選択されたいずれを含むことができる。
図1は、本発明の一実施例による多重トーン光マスクの断面図である。
図4乃至図9は、本発明の一実施例による多重トーン光マスクの製造方法の工程図である。
図10は、本発明の一実施例による薄膜トランジスタ基板の製造方法によって製造された薄膜トランジスタ基板の平面図である。図11は、図10に示した薄膜トランジスタ基板をI−I’に沿って見た断面図である。
110 ベース基板
120 光遮断層パターン
130 第1半透過層パターン
140、160 エッチング阻止層
150 第2半透過層パターン
170 第3半透過層パターン
500 薄膜トランジスタ基板
501 ゲート駆動部
505 データ駆動部
510 基板
520 ゲート絶縁層
530 活性層
560 パッシベーション層
570 有機絶縁膜パターン
571 第1コンタクトホール
577 第2コンタクトホール
580 画素電極
Claims (30)
- ベース基板と、
前記ベース基板上に形成された光遮断層パターンと、
前記ベース基板上に形成され、第1透過率を有する第1半透過層パターンと、
前記第1半透過層パターンと一部重なり、前記第1透過率と異なる第2透過率を有する第2半透過層パターンと、
前記第1及び第2透過率と異なる第3透過率を有する第3半透過層パターンと、
を含み、
前記第3半透過層パターンは、前記第1半透過層パターン及び前記第2半透過層パターンと重なる第1部分、前記第1半透過層パターンと重なる第2部分、前記第2半透過層パターンと重なる第3部分、前記ベース基板と重なる第4部分を含むことを特徴とする多重トーン光マスク。 - 前記光遮断層パターンと第1半透過層パターンとの間、前記第1半透過層パターンと第2半透過層パターンとの間、及び前記第2半透過層パターンと第3半透過層パターンとの間のうち、少なくともどこか一ケ所に形成されたエッチング阻止層を更に含むことを特徴とする請求項1に記載の多重トーン光マスク。
- 前記光遮断層パターンは、クロム層を含むことを特徴とする請求項1に記載の多重トーン光マスク。
- 前記第1乃至第3半透過層パターンは、それぞれ酸化クロム層、窒化クロム層、酸化窒化クロム層、及びモリシリサイド層から選択されたいずれを含むことを特徴とする請求項1に記載の多重トーン光マスク。
- 前記ベース基板は、
前記光遮断層パターンが形成され、前記第1光透過率を有する第1領域と、
前記第1半透過層パターンと第2半透過層パターンが重なって前記第2光透過率を有する第2領域と、
前記第1半透過層パターンのみ存在し前記第3光透過率を有する第3領域と、
前記第2半透過層パターンのみ存在し前記第4光透過率を有する第4領域、及び
前記ベース基板が露出され、前記第5光透過率を有する第5領域と、を含むことを特徴とする請求項1記載の多重トーン光マスク。 - 前記光遮断層パターン、前記第1半透過層パターン及び前記第2半透過層パターンをカバーする保護層を更に含むことを特徴とする請求項1に記載の多重トーン光マスク。
- 前記第1半透過層パターンは、前記光遮断層パターンと部分的に重なることを特徴とする請求項1に記載の多重トーン光マスク。
- 前記第1半透過層パターンの少なくとも一部は、前記光遮断層パターン上に形成され、前記第2半透過層パターンの一部は、前記第1半透過層パターン上に形成されることを特徴とする請求項1に記載の多重トーン光マスク。
- 前記第1半透過層パターンは、モリブデンシリサイドを含み、前記第2半透過層パターンは、クロム酸化物、クロム窒化物、及びクロム酸化窒化物からなる群より選択された少なくとも一種を含むことを特徴とする請求項8に記載の多重トーン光マスク。
- 前記光遮断層パターン、前記第1半透過層パターン、及び前記第2半透過層パターンをカバーするエッチング阻止層を更に含み、前記第3半透過層パターンは、クロム酸化物、クロム窒化物、及びクロム酸化窒化物からなる群より選択された少なくとも一種を含むことを特徴とする請求項9に記載の多重トーン光マスク。
- 前記光遮断層パターンの少なくとも一部は、前記第1光遮断層パターン及び/または前記第2光遮断層パターン上に形成されることを特徴とする請求項1に記載の多重トーン光マスク。
- ベース基板上に光遮断層パターンを形成する段階と、
前記ベース基板上に第1半透過層パターンを形成する段階と、
前記第1半透過層パターンと一部重なる第2半透過層パターンを形成する段階と、
前記第1及び第2半透過層パターンと一部重なる第3半透過層パターンを形成する段階と、
を含み、
前記第3半透過層パターンは、前記第1半透過層パターン及び第2半透過層パターンと重なる第1部分、前記第1半透過層パターンと重なる第2部分、前記第2半透過層パターンと重なる第3部分、前記ベース基板と重なる第4部分を含むことを特徴とする多重トーン光マスクの製造方法。 - 前記光遮断層パターンと第1半透過層との間、前記第1半透過層パターンと第2半透過層との間、及び前記第2半透過層パターンと第3半透過層パターンとの間のうち、少なくともどこか一ケ所にエッチング阻止層を形成する段階を更に含むことを特徴とする請求項12に記載の多重トーンマスクの製造方法。
- 前記光遮断層パターン、第1半透過層パターン、第2半透過層パターン、及び第3半透過層パターン順に前記ベース基板上に形成することを特徴とする請求項12に記載の多重トーンマスクの製造方法。
- 前記ベース基板上に光遮断物質層、第1半透過物質層、第2半透過物質層、及び第3半透過物質層を積層し、前記第3半透過層パターン、第2半透過層パターン、第1半透過層パターン、及び光遮断層パターン順に形成することを特徴とする請求項12に記載の多重トーン光マスクの製造方法。
- 前記ベース基板には
前記光遮断層パターンが形成され、前記第1光透過率を有する第1領域と、
前記ベース基板が露出され、前記第2光透過率を有する第2領域と、
前記第1乃至第3半透過層パターンを重ねて形成される第3領域、第1及び第2半透過層パターンが重なった第4領域、前記第1及び前記3半透過層パターンが重なった第5領域、前記第1、第3、第4、及び第5領域を除いた第1半透過層パターンに該当する第6領域、前記第2及び第3半透過層パターンが重なった第7領域、前記第1、第3、第4、及び第7領域を除いた第2半透過層パターンに該当する第8領域、前記第1、第4、第5、及び第7領域を除いた第3半透過層パターンに該当する第9領域のうち、少なくとも三つ以上の領域が定義されるよう前記光遮断層パターン、第1半透過層パターン、及び第2半透過層パターンを形成することを特徴とする請求項12に記載の多重トーン光マスクの製造方法。 - 前記光遮断層パターン、前記第1半透過層パターン及び前記第2半透過層パターンをカバーする保護層を形成する段階を更に含むことを特徴とする請求項12に記載の多重トーン光マスクの製造方法。
- 前記第1半透過層パターンの一部は、前記光遮断層パターンと重なることを特徴とする請求項12に記載の多重トーン光マスクの製造方法。
- 前記第1半透過層パターンの少なくとも一部は、前記光遮断層パターン上に形成され、前記第2半透過層パターンの一部は前記第1半透過層パターン上に形成されることを特徴とする請求項12に記載の多重トーン光マスクの製造方法。
- 前記第1半透過層パターンは、モリブデンシリサイドを含み、前記第2半透過層パターンは、クロム酸化物、クロム窒化物、及びクロム酸化窒化物からなる群より選択された少なくとも一種を含むことを特徴とする請求項19に記載の多重トーン光マスクの製造方法。
- 前記光遮断層パターン、前記第1半透過層パターン及び前記第2半透過層パターンをカバーするエッチング阻止層を形成する段階を更に含み、前記第3半透過層パターンはクロム酸化物、クロム窒化物、及びクロム酸化窒化物からなる群より選択された少なくとも一種を含むことを特徴とする請求項20に記載の多重トーン光マスクの製造方法。
- 前記光遮断層パターンの少なくとも一部は、前記第1光遮断層パターン及び/または前記第2光遮断層パターン上に形成されることを特徴とする請求項12に記載の多重トーン光マスクの製造方法。
- 前記第1半透過層パターン、前記光遮断層パターン、及び前記第2半透過層パターンが順序に形成されることを特徴とする請求項22に記載の多重トーン光マスクの製造方法。
- 前記第1半透過層パターン、前記第2半透過層パターン及び前記光遮断層パターンが順序に形成されることを特徴とする請求項22に記載の多重トーン光マスクの製造方法。
- 第1半透過層及び光遮断層を順序に形成する段階と、
前記光遮断層及び前記第1半透過層を順序にエッチングする段階と、
前記光遮断層パターン及び前記第1半透過層パターンをカバーする第2光遮断層を形成する段階と、
前記第2光遮断層をエッチングする段階と、をさらに含むことを特徴とする請求項22に記載の多重トーンマスクの製造方法。 - 第1薄膜トランジスタが形成される表示領域及び前記第1薄膜トランジスタをスイッチングする第2薄膜トランジスタが形成される周辺領域がそれぞれ定義された基板上に被エッチング層及びフォトレジスト層を形成する段階と、
多重トーン光マスクを用いて多重ステップ(multi−step)フォトレジストパターンを形成する段階と、
前記多重ステップフォトレジストパターンをエッチングマスクにして被エッチング層パターンを形成する段階と、
を含み、
前記多重トーン光マスクは、
ベース基板、
前記ベース基板上に形成された光遮断層パターン、
前記ベース基板上に形成された第1半透過層パターン、
前記第1半透過層パターンと一部重なる第2半透過層パターン、及び
前記第2半透過層パターンと一部重なる第3半透過層パターン
を含み、
領域によって互いに異なる互いに異なる少なくとも第1乃至第6光透過率を有することを特徴とする薄膜トランジスタ基板の製造方法。 - 前記被エッチング層パターンは、活性層パターン、接触層パターン、及びソース配線パターンを含むことを特徴とする請求項26に記載の薄膜トランジスタ基板の製造方法。
- 前記被エッチング層パターンを形成する段階は、前記多重トーン光マスクの互いに異なる光透過率を有する第1及び第2領域を前記第1薄膜トランジスタの第1チャンネル領域及び前記第2薄膜トランジスタの第2チャンネル領域にそれぞれアラインさせ、前記第1チャンネル領域及び第2チャンネル領域上の残留フォトレジスト層の厚さを均一にすることを特徴とする請求項26に記載の薄膜トランジスタ基板の製造方法。
- 前記基板は、ゲートラインパターン、ストレージ電極を含むストレージラインパターン及びゲート絶縁層を含み、前記被エッチング層は、前記第1薄膜トランジスタ及び第2薄膜トランジスタをカバーする有機絶縁膜を含むことを特徴とする請求項26に記載の薄膜トランジスタ基板の製造方法。
- 前記被エッチング層パターンを形成する段階は、前記多重トーン光マスクの互いに異なる光透過率を有する領域を前記有機絶縁膜上に定義された非露光部、前記第1薄膜トランジスタのドレイン電極上のコンタクト部、前記第1チャンネル領域、ストレージコンタクト部、フル露光部、及び前記第2チャンネル領域にそれぞれアラインさせて多重ステップ有機絶縁膜パターンを形成することを特徴とする請求項29に記載の薄膜トランジスタ基板の製造方法。
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