JP5269902B2 - 高周波基板および高周波モジュール - Google Patents
高周波基板および高周波モジュール Download PDFInfo
- Publication number
- JP5269902B2 JP5269902B2 JP2010522729A JP2010522729A JP5269902B2 JP 5269902 B2 JP5269902 B2 JP 5269902B2 JP 2010522729 A JP2010522729 A JP 2010522729A JP 2010522729 A JP2010522729 A JP 2010522729A JP 5269902 B2 JP5269902 B2 JP 5269902B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- conductor
- pair
- waveguide
- frequency
- dielectric layer
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Fee Related
Links
- 239000000758 substrate Substances 0.000 title claims description 79
- 239000004020 conductor Substances 0.000 claims description 159
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 claims description 65
- 230000008054 signal transmission Effects 0.000 claims description 12
- 230000000149 penetrating effect Effects 0.000 claims description 4
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 114
- 230000005540 biological transmission Effects 0.000 description 29
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 10
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 10
- 230000004308 accommodation Effects 0.000 description 9
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 8
- 239000000919 ceramic Substances 0.000 description 7
- 230000005855 radiation Effects 0.000 description 6
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 5
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 5
- 239000003989 dielectric material Substances 0.000 description 4
- PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N Alumina Chemical compound [O-2].[O-2].[O-2].[Al+3].[Al+3] PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229910000577 Silicon-germanium Inorganic materials 0.000 description 3
- 230000008878 coupling Effects 0.000 description 3
- 238000010168 coupling process Methods 0.000 description 3
- 238000005859 coupling reaction Methods 0.000 description 3
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 3
- CPLXHLVBOLITMK-UHFFFAOYSA-N Magnesium oxide Chemical compound [Mg]=O CPLXHLVBOLITMK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ZOKXTWBITQBERF-UHFFFAOYSA-N Molybdenum Chemical compound [Mo] ZOKXTWBITQBERF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000010949 copper Substances 0.000 description 2
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 2
- 239000000463 material Substances 0.000 description 2
- 229910052750 molybdenum Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000011733 molybdenum Substances 0.000 description 2
- 238000007747 plating Methods 0.000 description 2
- 239000000843 powder Substances 0.000 description 2
- 239000002344 surface layer Substances 0.000 description 2
- WFKWXMTUELFFGS-UHFFFAOYSA-N tungsten Chemical compound [W] WFKWXMTUELFFGS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052721 tungsten Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000010937 tungsten Substances 0.000 description 2
- 229910001218 Gallium arsenide Inorganic materials 0.000 description 1
- 229920000106 Liquid crystal polymer Polymers 0.000 description 1
- 239000004977 Liquid-crystal polymers (LCPs) Substances 0.000 description 1
- BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N Silver Chemical compound [Ag] BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 1
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 1
- 238000001816 cooling Methods 0.000 description 1
- 239000011889 copper foil Substances 0.000 description 1
- PMHQVHHXPFUNSP-UHFFFAOYSA-M copper(1+);methylsulfanylmethane;bromide Chemical compound Br[Cu].CSC PMHQVHHXPFUNSP-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 238000009792 diffusion process Methods 0.000 description 1
- 238000005530 etching Methods 0.000 description 1
- 238000000605 extraction Methods 0.000 description 1
- 239000002241 glass-ceramic Substances 0.000 description 1
- PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N gold Chemical compound [Au] PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052737 gold Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010931 gold Substances 0.000 description 1
- 230000017525 heat dissipation Effects 0.000 description 1
- 239000012212 insulator Substances 0.000 description 1
- 239000000395 magnesium oxide Substances 0.000 description 1
- 238000001465 metallisation Methods 0.000 description 1
- 238000000034 method Methods 0.000 description 1
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 1
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 1
- 239000003960 organic solvent Substances 0.000 description 1
- 239000004810 polytetrafluoroethylene Substances 0.000 description 1
- 229920001343 polytetrafluoroethylene Polymers 0.000 description 1
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 description 1
- 229910052709 silver Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000004332 silver Substances 0.000 description 1
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 1
- 230000002194 synthesizing effect Effects 0.000 description 1
Images
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01P—WAVEGUIDES; RESONATORS, LINES, OR OTHER DEVICES OF THE WAVEGUIDE TYPE
- H01P5/00—Coupling devices of the waveguide type
- H01P5/12—Coupling devices having more than two ports
- H01P5/16—Conjugate devices, i.e. devices having at least one port decoupled from one other port
- H01P5/18—Conjugate devices, i.e. devices having at least one port decoupled from one other port consisting of two coupled guides, e.g. directional couplers
- H01P5/181—Conjugate devices, i.e. devices having at least one port decoupled from one other port consisting of two coupled guides, e.g. directional couplers the guides being hollow waveguides
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01P—WAVEGUIDES; RESONATORS, LINES, OR OTHER DEVICES OF THE WAVEGUIDE TYPE
- H01P5/00—Coupling devices of the waveguide type
- H01P5/08—Coupling devices of the waveguide type for linking dissimilar lines or devices
- H01P5/10—Coupling devices of the waveguide type for linking dissimilar lines or devices for coupling balanced lines or devices with unbalanced lines or devices
- H01P5/107—Hollow-waveguide/strip-line transitions
Landscapes
- Waveguide Connection Structure (AREA)
- Waveguides (AREA)
Description
本発明は、高周波基板および高周波モジュールに関するものである。特に、マイクロ波・ミリ波等の高周波回路において、複数のポートを持つ高周波半導体素子と誘電体導波路を用いた高周波基板および高周波モジュールに関する。
近年、情報伝達に用いられる信号の周波数は1〜30GHzのマイクロ波領域から30〜300GHzのミリ波領域まで活用することが検討されており、例えば、車間レーダーのようなミリ波を用いた応用システムも提案されている。
車間レーダーのようなミリ波を用いた応用システムに用いる高周波半導体素子として、GaAsを用いたMMIC(Microwave Monolithic Integrated Circuit)やSiGeを用いたMMICが開発されている。
SiGeを用いたMMICとして差動出力ポートを持つものがある。差動出力ポートを持つ高周波半導体素子から高周波回路基板に信号を取り出す際、差動出力ポートからの出力の位相が互いに180°反転しているため、180°ハイブリッド回路を用いることによって位相が反転した2つの差動出力信号の一方の信号の位相を反転させて同相の信号とし、これらを結合することで取り出し効率を増大させる事ができる。
ここで、差動出力信号を合成するための180°ハイブリッド回路を高周波回路基板に構成する場合、例えば、マイクロストリップ線路でラットレースやマジックTを構成する。そのため、180°ハイブリッド回路の大きさは伝送信号の波長によるので、マイクロストリップ線路で構成した180°ハイブリッド回路の基板表面における占有面積は大きくなり、高周波回路基板が大型化する。また、マイクロストリップ線路で構成した180°ハイブリッド回路は、不要な放射が生じやすいという問題がある。
本発明の目的の一つは、高周波回路基板を小型化するとともに、不要な放射を抑制することができる高周波基板および高周波モジュールを提供することである。
本発明の第1の態様の高周波基板は、第1の導波路と、第2の導波路と、第1の変換部と、第2の変換部とを備える。
第1の導波路は、第1の誘電体層と、前記第1の誘電体層を挟む第1の一対の導体層と、前記第1の誘電体層を貫通し前記第1の一対の導体層の間を電気的に接続する複数のビアホール導体を備える第1の側壁導体群とを備える。第2の導波路は、前記第1の一対の導体層の一方はその厚み方向に貫通する開口を備え、前記開口を介して前記第1の導波路と電磁的に接続されてハイブリッド回路を構成する。第1の変換部は、第1の端子と第2の端子とを備える高周波素子の前記第1の端子に電気的に接続され、前記第1の導波路の一方端部に電磁的または電気的に接続され、信号伝送モードを変換する。第2の変換部は、前記第2の端子に電気的に接続され、前記第1の導波路の他方端部に電磁的または電気的に接続され、信号伝送モードを変換する。
また本発明の第2の態様の高周波モジュールは、上記の高周波基板と、前記高周波基板上に位置し、複数の端子を有する高周波素子と、を備える。
本発明の第1および第2の態様によれば、ハイブリッド回路を基板内部に形成した積層型導波管で構成することによって、高周波基板を小型化することができるとともにハイブリッド回路からの不要輻射を抑えることができる。
本発明の目的、特色、および利点は、下記の詳細な説明と図面とからより明確になるであろう。
本発明の第1の実施形態に係る高周波基板を示す平面図である。
図1Aの高周波基板を示す断面図である。
図1Aの高周波基板のハイブリッド回路を示す斜視図である。
図1Aの高周波基板のハイブリッド回路を示す斜視図である。
図2Aのハイブリッド回路を示す断面図である。
本発明の第2の実施形態に係る高周波基板のハイブリッド回路を示す斜視図である。
図2Cのハイブリッド回路を示す断面図である。
本発明の第3の実施形態に係る高周波基板のハイブリッド回路を示す斜視図である。
図2Eのハイブリッド回路を示す断面図である。
図1Aの高周波基板の変換部を説明するための平面図である。
図3Aの変換部を説明するための断面図である。
本発明の第4の実施形態に係る高周波基板の変換部を示す斜視図である。
図3Cの高周波基板の変換部を示す断面図である。
図1Aの高周波基板の変換部を含む接続構造を構成する一の誘電体層を示す分解平面図である。
図1Aの高周波基板の変換部を含む接続構造を構成する他の誘電体層を示す分解平面図である。
図1Aの高周波基板の変換部を含む接続構造を構成する他の誘電体層を示す分解平面図である。
図1Aの高周波基板の変換部を含む接続構造を構成する他の誘電体層を示す分解平面図である。
図1Aの高周波基板の変換部を含む接続構造を構成する他の誘電体層を示す分解平面図である。
本発明の第5の実施形態に係る高周波基板を示す平面図である。
図5Aの高周波基板を示す断面図である。
以下図面を参考にして本発明の好適な実施形態を詳細に説明する。
≪第1の実施形態にかかる高周波基板≫
図1Aおよび図1Bは、本発明の第1の実施形態である高周波基板1の構成を示す図である。図1Aは平面図を示し、図1Bは断面図を示す。
≪第1の実施形態にかかる高周波基板≫
図1Aおよび図1Bは、本発明の第1の実施形態である高周波基板1の構成を示す図である。図1Aは平面図を示し、図1Bは断面図を示す。
なお、図1Aの平面図では、基板の内部およびキャップ(カバー部材)の内部の構造がわかるように、内層配線、MMIC、ボンディングワイヤなどを実線で示した。
ここで、高周波基板1の表面にMMIC2が実装されることによって高周波モジュールが構成される。MMIC2は、たとえばSiGeなどの化合物半導体で構成される高周波半導体素子であり、高周波信号の送信用に差動出力ポートを有する送受信機能一体型のMMICである。
差動出力ポートから出力される出力信号は、位相が互いに180°反転しているため、MMIC2から高周波基板1に信号を取り出す際、180°ハイブリッド回路を用いる。180°ハイブリッド回路は、ラットレース、マジックTなどで実現することができ、1つの入力ポートに入力された信号を、位相が反転した2つの信号に分離して2つの出力ポートから出力する分配回路である。この2つの出力ポートを、2つの入力ポートとし、1つの入力ポートを1つの出力ポートとして用いた場合、結合回路として機能する。
位相が反転した2つの差動出力信号を2つの入力ポートそれぞれに入力すると、入力された差動出力信号の一方の信号の位相を180°反転させ、入力されたもう一方の信号の位相はそのまま出力する。このとき、2つの出力信号は同相となるので結合した1つの出力信号として1つの出力ポートから出力される。
なお、ハイブリッド回路は、180°ハイブリッド回路に限定されない。ハイブリッド回路は、複数のポートから出力される異なる位相の信号を、同相の信号に変換するとともに結合して出力するか、または、外部から入力された信号を、異なる位相の信号に分離するとともに、複数のポートに入力させるものであればよい。
本実施形態の高周波基板1は、結合回路として180°ハイブリッド回路等のハイブリッド回路3を備えており、さらにハイブリッド回路3を、積層型導波管線路で構成する。これにより、ハイブリッド回路をマイクロストリップ線路で構成した場合に比べ、不要な放射を抑制できる。さらに、ハイブリッド回路を表層に設けずに、内層して設けることができ、高周波基板を小型化することができる。本実施形態では、ハイブリッド回路3を、導波管分岐回路であるマジックT回路によって実現している。以下、ハイブリッド回路3を、マジックT回路3と表記する。マジックT回路3は、分枝線路4〜6,200の4つの積層型導波管線路で構成される。
分枝線路4,5は、MMIC2の差動出力ポートにそれぞれ接続され、逆相の差動出力信号がそれぞれ分枝線路4,5によって伝送される。分枝線路4,5によって伝送された2つの差動出力信号は、分枝線路6および分枝線路200との接続部分において、同相の2つの出力信号が結合された1つの出力信号として分枝線路6を伝送する。分枝線路6を伝送する出力信号は、MMIC2が実装された面とは反対側の面に設けられた出力部7から取り出し可能に構成され、出力部7は、たとえばスロットアンテナ、パッチアンテナなどで構成される。
分枝線路4〜6,200は、いずれも積層型導波管線路であり、その基本的構成は同様である。分枝線路4,5は、第一誘電体基板8の厚み方向と長さが一致するように形成された二列のビアホール導体群9と、前記二列のビアホール導体群9を挟みこむように前記第一誘電体基板8の両主面に設けられた一対の導体層10を有する。
ビアホール導体群9は、積層型導波管線路を伝送する伝送信号の遮断波長の1/2以下の間隔で信号伝送方向に沿って配列し、積層型導波管線路における電気的な側壁を形成し、この側壁と一対の導体層10によって導波管が構成される。
分枝線路4,5は、それぞれ略円弧状の積層型導波管線路で構成され、互いに円弧が外方に向って凸となるように配置される。分枝線路4の一方端部4aは、ボンディングワイヤ11、マイクロストリップ線路12およびマイクロストリップ線路から積層型導波管線路への伝送変換部(以下、単に「変換部」という)13を介してMMIC2の差動出力ポートの1つに接続される。分枝線路4の他方端部4bは、分枝線路5の他方端部5bに接続される。
分枝線路5の一方端部5aは、ボンディングワイヤ14、マイクロストリップ線路15および変換部16を介してMMIC2の差動出力ポートのもう1つに接続される。分枝線路5の他方端部5bは、分枝線路4の他方端部4bに接続される。
変換部13は、ボンディングワイヤ11やマイクロストリップ線路12を伝送するTEMモードと、積層型導波管線路を伝送するTEモードまたはTMモードとの伝送モードの変換を行う部分である。
変換部13の構成については後述する。分枝線路4とMMIC2とを接続するにあたって、ボンディングワイヤ11と変換部13とは、直接的に接続してもよいし、本実施形態のように、マイクロストリップ線路12を介して接続してもよい。また、マイクロストリップ線路12には、インピーダンス整合用のスタブなどを設けてもよい。
分枝線路5とMMIC2との接続も同様に、ボンディングワイヤ14および変換部16を介して行われる。
ボンディングワイヤ14と変換部16とは、直接的に接続してもよいし、マイクロストリップ線路15を介して接続してもよく、マイクロストリップ線路15には、インピーダンス整合用のスタブなどを設けてもよい。
分枝線路6は、第二誘電体基板17の厚み方向と長さが一致するように形成された二列のビアホール導体群18と、前記二列のビアホール導体群18を挟みこむように前記第二誘電体基板17の両主面に設けられた一対の導体層19を有する。
第二誘電体基板17は、第一誘電体基板8に、MMIC2の実装面とは反対側の面に積層され、高周波基板1を平面視したときに分枝線路4,5の一部と、分枝線路6の一部とが、重複するように配置される。分枝線路4,5と分枝線路6との重複部分は、分枝線路4,5の他方端部4bと分枝線路5の他方端部5bとの接続部分と、分枝線路6の一方端部6aとの重複部分である。なお分枝線路6の他方端部6bは、出力部7に接続される。
このような重複部分において、たとえば、分枝線路6の上面側の導体層19に設けたスロット6cを介することで、分枝線路4,5を伝送した2つの差動出力信号が結合されて分枝線路6を伝送することができる。
分枝線路200は、分枝線路4,5と同様、第一誘電体基板8の厚み方向と長さが一致するように形成された二列のビアホール導体群9と、前記二列のビアホール導体群9を挟みこむように前記第一誘電体基板8の両主面に設けられた一対の導体層10を有する。分枝線路200の一方端部200aは分枝線路4,5と接続されてT字型の分岐路を形成している。また、分枝線路200の他方端部200bは終端回路によって終端されている。終端回路は、例えば、マイクロストリップ線路202と、開放端を有するマイクロストリップ線路204と、これらを接続する終端抵抗203とを備える。分岐線路200とマイクロストリップ線路202との接続は変換部201により行われる。変換部201も変換部13および変換部16と同様の機能を有するものが用いられる。
また、MMIC2は、送受信機能を備えており、上記のように送信用の出力信号は、差動出力ポートから出力される逆相の差動出力信号であり、受信信号は、差動信号でなくともよい。
受信信号は、外部から受信した信号を、受信信号用の伝送線路で伝送してMMIC2に入力する。本実施形態では、受信信号用の伝送線路を、ハイブリッド回路3と同様に積層型導波管線路(以下、受信用導波管という)20で構成する。
受信用導波管20は、第1の受信用導波管21と第2の受信用導波管22とで構成される。第1の受信用導波管21は、分枝線路4,5と同様に、第一誘電体基板8の厚み方向と長さが一致するように形成された二列のビアホール導体群23と、前記二列のビアホール導体群23を挟みこむように前記第一誘電体基板8の両主面に設けられた一対の導体層24を有する。第2の受信用導波管22は、分枝線路6と同様に、第二誘電体基板17の厚み方向と長さが一致するように形成された二列のビアホール導体群25と、前記二列のビアホール導体群25を挟みこむように前記第二誘電体基板17の両主面に設けられた一対の導体層26を有する。
第1の受信用導波管21の一方端部21aは、ボンディングワイヤ27、マイクロストリップ線路28および変換部29を介してMMIC2の入力ポートの1つに接続される。第1の受信用導波管21の他方端部21bは、第2の受信用導波管22の一方端部22aに接続される。第2の受信用導波管22の他方端部22bは、MMIC2が実装された面とは反対側の面に設けられた入力部30から取り出し可能に構成され、入力部30は、たとえばスロットアンテナ、パッチアンテナなどで構成される。
第1の受信用導波管21とMMIC2とを接続するにあたって、ボンディングワイヤ27と変換部29とは、直接的に接続してもよいし、本実施形態のように、マイクロストリップ線路28を介して接続してもよい。また、マイクロストリップ線路28には、インピーダンス整合用のスタブなどを設けてもよい。
高周波基板1を平面視したときに第1の受信用導波管21の他方端部21bと、第2の受信用導波管22の一方端部22aとが、重複するように配置される。このような重複部分において、たとえば、階段状にビアホール導体を配し、階段状に接続される積層型導波管構造を用いた接続構造を介することで、第2の受信用導波管22を伝送された入力信号が第1の受信用導波管21を伝送することができる。
以上のように、ハイブリッド回路3を構成する分枝線路4,5はいずれも積層型導波管線路で構成されるため、ハイブリッド回路を表層に設けずに、内層して設けることが可能になる。その結果、MMIC2を保護するためのキャップ130のサイズを小さくすることができる。キャップ130は、MMIC2を収納するキャビティを有しており、高周波基板表面に接合されることにより、キャビティ内を気密に封止することができる。キャップ130はアルミニウムなどの金属からなる金属筐体によって形成するのが好ましい。キャップ130を金属筐体とすることによって、電磁波の遮蔽性が高く、放熱性がよくなる。また、金属筐体に限らず、樹脂筐体やセラミックス筐体の内面に金属めっきや金属メタライズを施したものでもよい。また、キャップは樹脂筐体やセラミックス筐体のように絶縁体のみで形成してもよい。
基板表面に露出し、キャップ130によって保護するべき箇所は、MMIC2、ボンディングワイヤ11,14,27、変換部13,16,29、マイクロストリップ線路12,15,28のみである。
このように、キャップ130は、半導体デバイスと変換部、およびこれらを接続する接続体とをその収容空間内に収めるようにすれば十分に保護機能を実現することができる。そして、これらを収容するための収容空間は、面積が、高周波基板1表面のうち、半導体デバイスと、この半導体デバイスに接続する変換部と、これらを接続するための接続体とが設けられた最小限の領域であり、高さが、キャップ130の高さとなるような空間である。
さらに、キャップ130の大きさ、すなわちキャップ130の収容空間の体積を従来に比べて大幅に小さくすることができる。これにより、高周波デバイスから放射された電磁波の収容空間内における不要な共振の発生を防止することができる。
キャップ130の収容空間内で生じる共振は、矩形共振器による共振と同様に考えることができる。不要な共振の発生を防止するためには、収容空間内部には1/4誘電体導波管共振器の共振モード(TE101モード)と類似したモードが発生するため、そのモードの最低次のモードの共振周波数を動作周波数範囲外に設定する。
TE101モードに類似したモードの最低次のモードの共振周波数は式(1)で与えられる。
ここで、fは共振周波数(GHz)を示し、aは矩形共振器の長手方向の寸法(mm)を示し、cは矩形共振器の高さ方向の寸法(mm)を示し、εrは、共振器内の誘電体の比誘電率を示す。
式(1)からわかるように、長手方向のサイズaおよび高さ方向のサイズcが小さければ小さいほど共振周波数は高くなる。
矩形共振器のサイズは、すなわちキャップ130の収容空間の大きさと同じと考えられるので、キャップ130の収容空間を小さくすることで、共振周波数を、使用動作周波数の最大周波数よりも高い周波数側に設定することもできる。
キャップ130を小さくするために、変換部13,16,29は、全てを収容空間内に収める必要はなく、変換部29上に接触するようにキャップ130を設けることも可能である。
これにより、キャップ130の収容空間を小さくするとともに、変換部29とキャップとの間での熱移動を容易にし、MMIC2の冷却効率を向上させることができる。MMIC2で発生した熱は、実装される基板の誘電体層への移動、ボンディングワイヤを介した伝送線路への移動、空気中への放散により冷却される。ボンディングワイヤを介した伝送線路への移動において、変換部29がキャップ130と接触することで、キャップ130への熱移動が生じ、キャップ130から空気中へ熱が放散される。
以下、高周波基板1に設けられる複数の変換部のうち、ハイブリッド回路3について説明する。
ハイブリッド回路3は、積層型導波管線路から成る第1の導波路を有するとともに、この第1の導波路を構成する一対の導体層の一方に形成した開口を介して第1の導波路と電磁的に接続された第2の導波路を有する。
このようなハイブリッド回路3の一例を図2、図2Aおよび図2Bに示す。図2はハイブリッド回路3の主要部の構成を示す斜視図である。図2では、ハイブリッド回路3の構成がわかりやすいように、導体層を表示せず、ビアホール導体群のみを表示している。また、図2Aはハイブリッド回路3の斜視図であり、図2Bはその平面透視図である。
図2、図2Aおよび図2Bにおいて、ハイブリッド回路3は、分岐線路4、5、6を含んで構成されており、これらの分岐線路4,5,6はすべて積層型導波管線路で構成されている。分岐線路4と分岐線路5とが接続されて第1の導波路を構成している。この第1の導波路に分岐線路6(第2の導波路)が積層されている。そして、分岐線路4と分岐線路5との接続部における導体層10に開口(スリット)6cが形成されており、この開口6cを介して第1の導波路と第2の導波路が電磁的に接続されてハイブリッド回路3を構成している。
このような構成により、ハイブリッド回路3を構成する導波路をすべて積層型導波管で構成しているので、伝送特性が良好となる。さらに、積層型導波管をすべて層方向に構成できるので、ハイブリッド回路3を薄型化できる。よって、伝送特性と薄型化を両立することができる。
次に、高周波基板1に設けられる複数の変換部のうち、変換部13について説明するが、他の変換部16,29,201も同様に構成することができる。
図3Aおよび図3Bは、変換部13の構成を説明するための図である。図3Aは、変換部13の平面図であり、図3Bは、変換部13の断面図である。
高周波基板1は、複数の誘電体層が積層され、これらの誘電体層間に導体層が設けられ内層配線が形成される。たとえば、複数の誘電体層31,32,33,34が、高周波基板1のMMIC2が実装された表面側からこの順に積層され、誘電体層のうち、基板表面を含む誘電体層31上にマイクロストリップ線路12が形成される。また、複数の誘電体層(本実施形態では誘電体層32,33,34)を含み、マイクロストリップ線路12に変換部13を介して接続する分岐線路4が形成される。
マイクロストリップ線路12は、誘電体層31を厚み方向に挟んで対向するストリップ導体12bとグランド(接地)導体12cとで構成されている。
変換部13は、マイクロストリップ線路12と分岐線路4との接続部分を構成する。変換部13はマイクロストリップ線路12と分岐線路4とを直接接続したものであってもよいが、伝送損失を少なくするという観点からは、インピーダンスが漸次あるいは段階的に変化するものであるのがよい。このような変換部としては、例えば、図3A、図3Bに示すような、積層型導波管の断面積を段階的に変えた構造がある。
変換部13は、好ましくは図3A、図3Bに示すような積層型導波管の断面積を段階的に変えた構造がよい。このような構造とすることで、インピーダンスの急激な変換を抑制することができるとともに、高周波信号の漏れを有効に抑制でき、伝送損失を非常に小さくすることができる。
図3A、図3Bに示す変換部13は、第1の積層型導波管線路部210、第2の積層型導波管線路部220、積層型導波管線路部230を有する。第1の積層型導波管線路部210、第2の積層型導波管線路部220、積層型導波管線路部230のそれぞれの一対の導体層(導体板)のうち、高周波基板1の表面に設けられる上側導体層211,221,231は、平面状に構成され、これら上側導体層211,221,231が一体的に形成されたものである。第1の積層型導波管線路部210、第2の積層型導波管線路部220、積層型導波管線路部230のそれぞれの一対の導体層(導体板)のうち、上側導体層211,221、231に対向する下側導体層212,222,232は、一部が互いに平面視で重畳するように異なる平面上に配置されている。そして、これらの下側導体層同士は、上記重畳領域において、ビアホール導体41で互いに接続されている。
変換部13の信号伝送方向に対する幅方向寸法Wは、分岐線路4の幅方向寸法と同一であり、伝送信号の周波数などによって適宜設定すればよく、また、幅寸法は伝送させる高周波信号の遮断周波数を考慮して設定される。たとえば、伝送信号の周波数が76.5GHzのときはW=1.15mmであり、遮断周波数は約43GHzで設定される。
また、下側導体層212,222,232の信号伝送方向端部は、伝送信号の波長λの1/4ずつ信号伝送方向にずれて設けられる。変換部13の信号伝送方向に平行な長さ方向寸法Lは、平面視したときに下側導体層212,222,232を覆うように3λ/4に設定される。たとえば、伝送信号の周波数が70〜85GHzのときはL=0.9mmである。
なお、変換部13の上記幅方向寸法Wおよび長さ方向寸法Lは、変換部として最小限必要な寸法であって、変換部13は、幅方向寸法が両側に大きくなるように形成されてもよい。
変換部13を構成する積層型導波管線路は、上記のような一対の導体層(上側導体層および下側導体層)とともにビアホール導体群41,42を含んで構成される。
ビアホール導体群41,42は、積層型導波管を伝送する伝送信号の遮断波長の1/2以下の間隔で信号伝送方向に沿って配列し、積層型導波管線路における電気的な側壁を形成し、この側壁と一対の導体層によって導波管が構成される。
側壁形成用のビアホール導体群41,42において、側壁形成用ビアホール導体群41,42において、隣り合うビアホール導体の間隔が遮断波長の1/2以下であると、電磁波はビアホール導体とビアホール導体との隙間から漏れることを抑制し、反射しながら積層型導波管線路の信号伝送方向に伝播される。
なお、側壁形成用ビアホール導体群41,42を構成するビアホール導体は、隣り合うビアホール導体の間隔が、一定間隔に設けられることが好ましいが、少なくとも伝送する信号の遮断波長の1/2以下の間隔であれば良く、その範囲内で適宜設定することができる。
また、積層型導波管線路を形成する2列の側壁形成用ビアホール導体群41,42の外側にさらに別の側壁形成用ビアホール導体群を設けて、側壁形成用ビアホール導体群による疑似的な側壁を、伝送方向に対する幅方向に2重、3重に形成することにより、電磁波の漏れをより効果的に防止することができる。
図4A〜図4Eを参照して誘電体層毎に具体的に説明する。図4A〜図4Dは、誘電体層31,32,33,34を層ごとに展開し、高周波基板1の一表面側から見た平面図である。図4Eは、誘電体層34を他表面側から見た平面図である。
図4Aに示すように、誘電体層31の表面には、ストリップ導体12bと、これに接続される変換部13の上側導体層211,221,231が形成される。上側導体層51は、一端が上側導体層231の端部に接続して形成される。また、誘電体層31の内部には、2列の側壁形成用ビアホール導体群41,42が形成される。
さらに、上側導体層51と分枝線路4の端部とは上から見て重なっていて、図4Aには、この上側導体層51と分枝線路4の上側導体層61の端部とを電気的に接続するビアホール導体からなる境界壁形成用ビアホール導体群43が、信号伝送方向とは垂直な方向に伝送信号の遮断波長の1/2以下の間隔で誘電体層31内部に配列され、この境界からの高周波信号の漏れを防止する。なお、境界壁形成用ビアホール導体群43における両端の2本のビアホール導体は、側壁形成用ビアホール導体群41,42と共有される。
図4Bに示すように、誘電体層32の表面には、マイクロストリップ線路12を構成するグランド導体12c、副導体層53、分枝線路4を構成する上側導体層61が一体的に形成される。また、誘電体層32の内部には、2列の側壁形成用ビアホール導体群41,42およびグランド導体12cと下側導体層212とを電気的に接続する境界壁形成用ビアホール導体群43が形成される。
図4Cに示すように、誘電体層33の表面には、下側導体層212、副導体層54、分枝線路4を構成する副導体層56が電気的に接続されて一体的に形成されている。また、誘電体層33の内部には、2列の側壁形成用ビアホール導体群41,42および下側導体層212と下側導体層222とを電気的に接続する境界壁形成用ビアホール導体群43が形成される。
図4Dに示すように、誘電体層34の表面には、下側導体層222、副導体層55、分枝線路4を構成する副導体層57が形成される。また、誘電体層34の内部には、2列の側壁形成用ビアホール導体群41,42および下側導体層222と下側導体層232とを電気的に接続する境界壁形成用ビアホール導体群43が形成される。
図4Eに示すように、誘電体層34の裏面には、下側導体層232、分枝線路4を構成する下側導体層62が形成される。
積層型導波管を構成する誘電体層が複数層からなる場合は、誘電体層間に主導体層と平行に副導体層を設けることが好ましい。副導体層は、同じ列に属し、同じ誘電体層を貫通する各ビアホール導体群を、列ごとにそれぞれ個別に電気的に接続し、ビアホール導体群の配列方向に延びる帯状の導体層である。
このような副導体層は、図4A〜図4Eにおける副導体層53〜57が、これに相当し、ビアホール導体群と副導体層とによって、格子状に形成された側壁が得られ、様々な方向の電磁波漏れを遮蔽することができる。また、副導体層は、ビアホール導体の大きなランドとしても機能し、積層ずれによって生じるビアホール導体の厚み方向の接続不良を抑制することができる。ビアホール導体の厚み方向の接続不良が生じると、接続不良部分で電磁波の漏れが発生しやすくなり、伝送損失が大きくなってしまうが、副導体層を設けることでこれを防止することができる。
さらに、積層型導波管によってハイブリッド回路を構成する場合は、本実施形態のように、円弧のような湾曲構造の線路部分を設ける場合が多くなる。高周波信号の伝搬においては湾曲構造で放射が起こるが、副導体層を設けることで、電磁遮蔽の役目を担うため、湾曲構造での放射を抑え低損失な伝送線路を実現することができる。
≪第2の実施形態にかかる高周波基板≫
本実施形態では、第1の実施形態にかかる高周波基板のハイブリッド回路3に代えて、図2Cおよび図2Dに示すようなハイブリッド回路3’を備える。図2Cはハイブリッド回路3’の斜視図であり、図2Dはその平面透視図である。
本実施形態では、第1の実施形態にかかる高周波基板のハイブリッド回路3に代えて、図2Cおよび図2Dに示すようなハイブリッド回路3’を備える。図2Cはハイブリッド回路3’の斜視図であり、図2Dはその平面透視図である。
図2Cおよび図2Dにおいて、ハイブリッド回路3’は、分岐線路4、5、6’を含んで構成されており、分岐線路4,5は積層型導波管線路で構成されている。一方、分岐線路6’は誘電体層の一部を筒状に取り囲むビアホール導体群を備えたものであり、分岐線路6’の伝送方向は誘電体層の積層方向である。分岐線路4と分岐線路5とが接続されて第1の導波路を構成している。この第1の導波路に分岐線路6’(第2の導波路)が直交するように接続されている。そして、分岐線路4と分岐線路5との接続部における導体層10に開口6cが形成されており、この開口6cを介して前記第1の導波路と第2の導波路が電磁的に接続されてハイブリッド回路3’を構成している。
≪第3の実施形態にかかる高周波基板≫
本実施形態では、第1の実施形態にかかる高周波基板のハイブリッド回路3に代えて、図2Eおよび図2Fに示すようなハイブリッド回路3’’を備える。図2Eはハイブリッド回路3’’の斜視図であり、図2Fはその平面透視図である。
本実施形態では、第1の実施形態にかかる高周波基板のハイブリッド回路3に代えて、図2Eおよび図2Fに示すようなハイブリッド回路3’’を備える。図2Eはハイブリッド回路3’’の斜視図であり、図2Fはその平面透視図である。
図2Eおよび図2Fにおいて、ハイブリッド回路3’’は、分岐線路4、5、6’’を含んで構成されており、分岐線路4,5は積層型導波管線路で構成されている。一方、分岐線路6’’はストリップ線路導体である。分岐線路4と分岐線路5とが接続されて第1の導波路を構成している。この第1の導波路に誘電体層を介して分岐線路6''(第2の導波路)が積層されている。そして、分岐線路4と分岐線路5との接続部における導体層10に開口(スリット)6cが形成されており、この開口6cを介して前記第1の導波路と第2の導波路が電磁的に接続されてハイブリッド回路3’’を構成している。
≪第4の実施形態にかかる高周波基板≫
本実施形態では、第1の実施形態にかかる高周波基板の変換部13に代えて、図3Cおよび図3Dに示すような変換部13’を備える。図3Cは、変換部13’の斜視図であり、図3Dは、変換部13’の断面図である。図3C、3Dに示す変換部13’では、分岐線路4の一端部の導体層にスリットSを設け、このスリットSに対向するようにストリップ導体12bを設け、ストリップ導体12bと分岐線路4とをスリットSを介して電磁結合させている。
本実施形態では、第1の実施形態にかかる高周波基板の変換部13に代えて、図3Cおよび図3Dに示すような変換部13’を備える。図3Cは、変換部13’の斜視図であり、図3Dは、変換部13’の断面図である。図3C、3Dに示す変換部13’では、分岐線路4の一端部の導体層にスリットSを設け、このスリットSに対向するようにストリップ導体12bを設け、ストリップ導体12bと分岐線路4とをスリットSを介して電磁結合させている。
≪第5の実施形態にかかる高周波基板≫
次に、本発明の第5の実施形態である高周波基板50について説明する。図1に示した第1の実施形態では、ハイブリッド回路を送信信号用に設けていたが、本実施形態では、受信信号用にもハイブリッド回路を設けている。なお、図1に示した第1の実施形態と同じ部位については、同じ参照符号を付して説明を省略する。
次に、本発明の第5の実施形態である高周波基板50について説明する。図1に示した第1の実施形態では、ハイブリッド回路を送信信号用に設けていたが、本実施形態では、受信信号用にもハイブリッド回路を設けている。なお、図1に示した第1の実施形態と同じ部位については、同じ参照符号を付して説明を省略する。
図5Aおよび図5Bは、本発明の第5の実施形態である高周波基板50の構成を示す図である。図5Aは平面図を示し、図5Bは断面図を示す。
本実施形態では、受信信号用にハイブリッド回路151を設けている。本実施形態では、ハイブリッド回路151を、導波管分岐回路であるマジックT回路によって実現している。以下、ハイブリッド回路151を、マジックT回路151と表記する。マジックT回路151は、分枝線路152〜154,205の4つの積層型導波管線路で構成される。
分枝線路154を伝送する入力信号は、MMIC2が実装された面とは反対側の面に設けられた入力部70から取り込まれ、入力部70は、たとえばスロットアンテナ、パッチアンテナなどで構成される。分枝線路154を伝送する入力信号は、分枝線路152,153との接続部分である分岐点において、逆相の2つの入力信号として分離される。分枝線路152,153は、MMIC2の差動入力ポートにそれぞれ接続され、逆相の差動入力信号がそれぞれ分枝線路152,153によって伝送される。
分枝線路152〜154,205は、いずれも積層型導波管線路である。分枝線路152,153は、第一誘電体基板8の厚み方向と長さが一致するように形成された二列のビアホール導体群161と、前記二列のビアホール導体群161を挟みこむように前記第一誘電体基板8の両主面に設けられた一対の導体層162を有する。
分枝線路152,153は、それぞれ略円弧状の積層型体導波管線路で構成され、互いに円弧が外方に向って凸となるように配置される。分枝線路152の一方端部152aは、ボンディングワイヤ155、マイクロストリップ線路156および変換部57を介してMMIC2の差動入力ポートの1つに接続される。分枝線路152の他方端部152bは、分枝線路153の他方端部153bに接続される。
分枝線路153の一方端部153aは、ボンディングワイヤ158、マイクロストリップ線路159および変換部160を介してMMIC2の差動入力ポートのもう1つに接続される。分枝線路153の他方端部153bは、分枝線路152の他方端部152bに接続される。
分枝線路152とMMIC2とを接続するにあたって、ボンディングワイヤ155と変換部157とは、直接的に接続してもよいし、本実施形態のように、マイクロストリップ線路156を介して接続してもよい。また、マイクロストリップ線路156には、インピーダンス整合用のスタブなどを設けてもよい。
分枝線路153とMMIC2との接続も同様に、ボンディングワイヤ158および変換部160を介して行われる。
ボンディングワイヤ158と変換部160とは、直接的に接続してもよいし、マイクロストリップ線路159を介して接続してもよく、マイクロストリップ線路159には、インピーダンス整合用のスタブなどを設けてもよい。
分枝線路154は、第二誘電体基板17の厚み方向と長さが一致するように形成された二列のビアホール導体群163と、前記二列のビアホール導体群163を挟みこむように前記第二誘電体基板17の両主面に設けられた一対の導体層164を有する。
高周波基板50を平面視したときに分枝線路152,153の一部と、分枝線路154の一部とが、重複するように配置される。分枝線路152,153と分枝線路154との重複部分は、分枝線路152の他方端部152bと分枝線路153の他方端部153bとの接続部分と、分枝線路154の一方端部154aとの重複部分である。
このような重複部分において、たとえば、積層型導波管線路で構成されたマジックT回路や、ラットレース回路などのハイブリッド回路を挿入することで、分枝線路154を伝送した2つの差動入力信号が分離されて分枝線路152,153を伝送することができる。
分枝線路205は、分枝線路152,153と同様、第一誘電体基板8の厚み方向と長さが一致するように形成された二列のビアホール導体群161と、前記二列のビアホール導体群161を挟みこむように前記第一誘電体基板8の両主面に設けられた一対の導体層162を有する。分枝線路205の一方端部205aは分枝線路152,153と接続されてT字型の分岐路を形成している。また、分枝線路205の他方端部205bは終端回路によって終端されている。終端回路は、例えば、マイクロストリップ線路207と、開放端を有するマイクロストリップ線路209と、これらを接続する終端抵抗208とを備える。分岐線路205とマイクロストリップ線路207との接続は変換部206により行われる。
上記のような構成を有する高周波基板の誘電体層としては、高周波信号の伝送を妨げることがない特性を有するものであればとりわけ限定するものではないが、伝送線路を形成する際の精度および製造の容易性の点からセラミックスからなることが望ましい。
また、ストリップ導体、グランド導体および一対の導体層などの金属導体層としては、たとえば誘電体層がアルミナ質セラミックスからなる場合には、タングステン・モリブデンなどの金属粉末に適当なアルミナ・シリカ・マグネシア等の酸化物や有機溶剤・溶媒等を添加混合した導体ペーストを厚膜印刷法によりセラミックグリーンシート上に印刷し、しかる後、約1600℃の高温で同時焼成し、厚み10〜15μm以上となるようにして形成する。なお、金属粉末としては、ガラスセラミックスの場合は銅・金・銀が、アルミナ質セラミックス、窒化アルミニウム質セラミックスの場合はタングステン・モリブデンが好適である。また、主導体層の厚みは一般的に5〜50μm程度とされる。
配線基板の誘電体層としては、上記のようなセラミックスからなることが好ましいが、伝送信号の周波数や製造コストなどの観点から、樹脂材料を用いることもできる。誘電体層として使用可能な樹脂材料としては、たとえば、PTFE、液晶ポリマー、FR4、フッ素樹脂、フッ素ガラス樹脂などが挙げられる。この場合の金属導体としては、たとえば銅箔の貼り付け、銅めっき膜をエッチングなどによりパターン形成したものを使用することができる。
本発明は、その精神または主要な特徴から逸脱することなく、他のいろいろな形態で実施できる。したがって、前述の実施形態はあらゆる点で単なる例示に過ぎず、本発明の範囲は特許請求の範囲に示すものであって、明細書本文には何ら拘束されない。さらに、特許請求の範囲に属する変形や変更は全て本発明の範囲内のものである。
1,50 高周波基板
2 MMIC
3 マジックT回路
4,5,6 分枝線路
11,14 ボンディングワイヤ
12,15 マイクロストリップ線路
13,16 変換部
2 MMIC
3 マジックT回路
4,5,6 分枝線路
11,14 ボンディングワイヤ
12,15 マイクロストリップ線路
13,16 変換部
Claims (9)
- 第1の誘電体層と、前記第1の誘電体層を挟む第1の一対の導体層と、前記第1の誘電体層を貫通し前記第1の一対の導体層の間を電気的に接続する複数のビアホール導体を備える第1の側壁導体群と、を備える第1の導波路と、
前記第1の一対の導体層の一方はその厚み方向に貫通する開口を備え、前記開口を介して前記第1の導波路と電磁的に接続されてハイブリッド回路を構成する第2の導波路と、
第1の端子と第2の端子とを備える高周波素子の前記第1の端子に電気的に接続され、前記第1の導波路の一方端部に電磁的または電気的に接続され、信号伝送モードを変換する第1の変換部と、
前記第2の端子に電気的に接続され、前記第1の導波路の他方端部に電磁的または電気的に接続され、信号伝送モードを変換する第2の変換部と、
を備える高周波基板。 - 前記第2の導波路は、第2の誘電体層と、前記第2の誘電体層を挟む第2の一対の導体層と、前記第2の一対の導体層の間を電気的に接続する複数のビアホール導体を備える第2の側壁導体群と、を備える、請求項1記載の高周波基板。
- 前記第2の導波路は、複数のビアホール導体によって、前記第2の誘電体層の一部を筒状に取り囲むビアホール導体群を備える、請求項2記載の高周波基板。
- 前記第2の導波路は線状導体を備える、請求項1記載の高周波基板。
- 前記第1の側壁導体群は一対の列として配列し、
前記第1の導波路は、前記第1の一対の導体層の間に前記第1の一対の導体層と略平行に位置し且つ前記一対の列のぞれぞれと電気的に接続する一対の副導体層をさらに備える、請求項1記載の高周波基板。 - 前記高周波素子、前記第1の変換部および前記第2の変換部を気密封止するカバー部材をさらに備える、請求項1記載の高周波基板。
- 前記ハイブリッド回路を複数備える、請求項1記載の高周波基板。
- 前記第1の変換部は、第3の誘電体層を挟んで対向する一対の導体板を含み、
前記第1の一対の導体板の一方は、平面状であり、
前記第1の一対の導体板の他方は、異なる平面上に配置され且つ平面視で互い一部重畳する一対の副導体板と、前記一対の副導体板同士を前記重畳領域で接続する変換用ビアホール導体とを備える、請求項1記載の高周波基板。 - 請求項1に記載の高周波基板と、
前記高周波基板上に位置し、複数の端子を有する高周波素子と、
を備える高周波モジュール。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2010522729A JP5269902B2 (ja) | 2008-07-31 | 2009-07-28 | 高周波基板および高周波モジュール |
Applications Claiming Priority (4)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2008199059 | 2008-07-31 | ||
JP2008199059 | 2008-07-31 | ||
PCT/JP2009/063442 WO2010013721A1 (ja) | 2008-07-31 | 2009-07-28 | 高周波基板および高周波モジュール |
JP2010522729A JP5269902B2 (ja) | 2008-07-31 | 2009-07-28 | 高周波基板および高周波モジュール |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPWO2010013721A1 JPWO2010013721A1 (ja) | 2012-01-12 |
JP5269902B2 true JP5269902B2 (ja) | 2013-08-21 |
Family
ID=41610421
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2010522729A Expired - Fee Related JP5269902B2 (ja) | 2008-07-31 | 2009-07-28 | 高周波基板および高周波モジュール |
Country Status (3)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP5269902B2 (ja) |
DE (1) | DE112009001891T5 (ja) |
WO (1) | WO2010013721A1 (ja) |
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US11901601B2 (en) | 2020-12-18 | 2024-02-13 | Aptiv Technologies Limited | Waveguide with a zigzag for suppressing grating lobes |
US11949145B2 (en) | 2021-08-03 | 2024-04-02 | Aptiv Technologies AG | Transition formed of LTCC material and having stubs that match input impedances between a single-ended port and differential ports |
US11962085B2 (en) | 2021-05-13 | 2024-04-16 | Aptiv Technologies AG | Two-part folded waveguide having a sinusoidal shape channel including horn shape radiating slots formed therein which are spaced apart by one-half wavelength |
Families Citing this family (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP5053245B2 (ja) * | 2008-12-12 | 2012-10-17 | 東光株式会社 | 180度ハイブリッド |
KR101316657B1 (ko) * | 2009-03-31 | 2013-10-10 | 쿄세라 코포레이션 | 회로 기판, 고주파 모듈, 및 레이더 장치 |
JP5409682B2 (ja) * | 2011-03-29 | 2014-02-05 | 三菱電機株式会社 | 多層導波管、及びその製造方法 |
JP5760724B2 (ja) * | 2011-06-09 | 2015-08-12 | 富士通株式会社 | 信号変換器および回路モジュール |
EP2797163A1 (en) * | 2013-04-26 | 2014-10-29 | BlackBerry Limited | Substrate integrated waveguide horn antenna |
US9059490B2 (en) | 2013-10-08 | 2015-06-16 | Blackberry Limited | 60 GHz integrated circuit to printed circuit board transitions |
JP6591906B2 (ja) * | 2015-04-21 | 2019-10-16 | 京セラ株式会社 | アンテナ基板 |
DE102018215459A1 (de) * | 2018-09-12 | 2020-03-12 | Zf Friedrichshafen Ag | Radarsensorarchitektur |
Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH0216803A (ja) * | 1988-07-04 | 1990-01-19 | Nippon Telegr & Teleph Corp <Ntt> | 高周波電力合成器 |
JP2000077912A (ja) * | 1998-08-31 | 2000-03-14 | Kyocera Corp | 誘電体導波管線路の接続構造 |
JP2001156510A (ja) * | 1999-11-30 | 2001-06-08 | Kyocera Corp | 積層型マジックt |
WO2009084697A1 (ja) * | 2007-12-28 | 2009-07-09 | Kyocera Corporation | 高周波伝送線路の接続構造、配線基板、高周波モジュールおよびレーダ装置 |
Family Cites Families (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH11308001A (ja) * | 1998-04-23 | 1999-11-05 | Kyocera Corp | 誘電体導波管線路の接続構造 |
-
2009
- 2009-07-28 WO PCT/JP2009/063442 patent/WO2010013721A1/ja active Application Filing
- 2009-07-28 DE DE112009001891T patent/DE112009001891T5/de not_active Ceased
- 2009-07-28 JP JP2010522729A patent/JP5269902B2/ja not_active Expired - Fee Related
Patent Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH0216803A (ja) * | 1988-07-04 | 1990-01-19 | Nippon Telegr & Teleph Corp <Ntt> | 高周波電力合成器 |
JP2000077912A (ja) * | 1998-08-31 | 2000-03-14 | Kyocera Corp | 誘電体導波管線路の接続構造 |
JP2001156510A (ja) * | 1999-11-30 | 2001-06-08 | Kyocera Corp | 積層型マジックt |
WO2009084697A1 (ja) * | 2007-12-28 | 2009-07-09 | Kyocera Corporation | 高周波伝送線路の接続構造、配線基板、高周波モジュールおよびレーダ装置 |
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US11901601B2 (en) | 2020-12-18 | 2024-02-13 | Aptiv Technologies Limited | Waveguide with a zigzag for suppressing grating lobes |
US11962085B2 (en) | 2021-05-13 | 2024-04-16 | Aptiv Technologies AG | Two-part folded waveguide having a sinusoidal shape channel including horn shape radiating slots formed therein which are spaced apart by one-half wavelength |
US11949145B2 (en) | 2021-08-03 | 2024-04-02 | Aptiv Technologies AG | Transition formed of LTCC material and having stubs that match input impedances between a single-ended port and differential ports |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
WO2010013721A1 (ja) | 2010-02-04 |
JPWO2010013721A1 (ja) | 2012-01-12 |
DE112009001891T5 (de) | 2011-07-07 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP5269902B2 (ja) | 高周波基板および高周波モジュール | |
US20200168974A1 (en) | Transition arrangement, a transition structure, and an integrated packaged structure | |
JP5216848B2 (ja) | 高周波モジュールおよびその製造方法ならびに該高周波モジュールを備えた送信器、受信器、送受信器およびレーダ装置 | |
JP3420474B2 (ja) | 積層型開口面アンテナ及びそれを具備する多層配線基板 | |
JP5636834B2 (ja) | 高周波回路用パッケージ及び高周波回路装置 | |
US9532475B2 (en) | High-frequency module | |
JP5342995B2 (ja) | 高周波モジュール | |
CN111224629B (zh) | 射频功率放大器堆组、固态烹饪装置和发射器 | |
JP2008159862A (ja) | 高周波電子部品のパッケージ構造 | |
CN113555332A (zh) | 一种高频器件集成模块和模组 | |
JP5179570B2 (ja) | 高周波モジュールおよびその製造方法ならびに該高周波モジュールを備えた送信器、受信器、送受信器およびレーダ装置 | |
JP3631667B2 (ja) | 配線基板およびその導波管との接続構造 | |
JP2011010242A (ja) | 高周波基板および高周波モジュール | |
CN112838366B (zh) | 一种多通道表贴式t/r组件 | |
JP5289214B2 (ja) | 高周波モジュール | |
JP5414364B2 (ja) | 高周波基板および高周波モジュール | |
JP2006186436A (ja) | 誘電体共振器アンテナおよび配線基板ならびに電子装置 | |
JP3704440B2 (ja) | 高周波用配線基板の接続構造 | |
JP3959544B2 (ja) | マイクロストリップ線路−導波管変換器 | |
JP3556470B2 (ja) | 高周波用モジュール | |
WO2013027268A1 (ja) | 電磁波伝搬媒体 | |
EP4362219A1 (en) | Antenna structure and antenna structure manufacturing method | |
JP4737192B2 (ja) | 2つのマイクロストリップ線路の接続構造及び筐体を用いた集積回路チップの実装基板への実装構造 | |
JP3605257B2 (ja) | 高周波パッケージの接続構造 | |
US20220352613A1 (en) | High-Frequency Package |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20130108 |
|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20130306 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20130409 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20130508 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |